JPS60137839A - 光学系ガラス微粉末生成用バ−ナ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はＶＡＤ法により光ファイバ用多孔負７１　＋−
４を製造する際に用いられるガラス微粉末生成用バーナ
に関する。

従来、上記ＶＡＤ法により光ファイバ用多孔質母旧をつ
くるときは、第１図に示すごとく反応容器１内に棒状の
ターゲット２を上下動自在かつ回転自在に挿入し、バー
ナ３から噴射される気相原料を酸水素炎内で加水分解し
てガラス微粉末（煤状の酸化物粉末）を生成すると共に
、このガラス微粉末を上記ターゲット２の先端に堆積さ
せることによりスート層４を形成し、その際堆積し残っ
た気相原料をバーナ３と対向して設けた排気管５より反
応容器１内の空気と共に外部に排気するようにしている
。

上記バーナ３としては４重ないし５軍の多重管バーナが
用いられ、第２因に示すように同心円状のものが一般的
であるが、第３図のように角型の多重管バーナが用いら
れることもあり、いずれの場合もバーナ３の先端には炎
の広がりを調節するフード６が設けられ、同バーナ３の
中心部に形成された流路には四塩化ケイ素や四塩化ゲル
マニウム等の気相原料を供給すると共に、その外側の各
流路には酸素、水素、アルコン等の気体を供給するよう
になっている。

ところでＷｉｔ記スーＩ・層４の形成においては、この
バーナ３からの気相原料の流れおよび温度がスート層４
の屈折率分布、すなわちゲルマニウム等の分布を決定す
る重要な要因となっている。

しかしＶＡＤ法においては上述したようにスート層４の
形成が、反応容器１内で排気管６により排気しながら行
なわれるため、この反応容器１内には第４図に示すごと
く同容器１の上部から下部へ向かう気流および下から上
へ舞い上がる気流が発生し、これらの空気の流れが炎を
乱すことになり、スート層４のゲルマニウム等の分布が
乱れて光ファイバの帯域特性の劣化をまねくといった問
題点があった。

本発明は」二記の問題点に対処すべくなされたもので、
以下その構成を図示の実施例により説明する。

本発明の１実施例を示した第５図において、バーナ３の
先端部外周には炎の広がりを調節する前記のフード６が
設けられていると共に、その外側には反応容器１内の気
流から炎を保護する保護部相７が設けられており、上記
フード６および保護部材７は円筒状となっていると共に
、該保護部拐７はスペーサ８を介してフード６に固着さ
れている。

この保護部拐７はバーナ３の炎を保護するために設けら
れるものであるから、その内径は第６図に示すようにあ
る程度小さい方が良いが、あまり小さくしすぎると保護
部利７の影響で炎の先端が絞られ、炎の流れが変わって
しまいスート層４上のゲルマニウム等の分布が変化し、
かえって光ファイバの屈折率分イＩＪを乱して特性が劣
化することになり、上記炎の広がりはフード６の深さに
よって決定されるため、保護部拐７の内径は少なくとも
この炎の径以」二とする必要がある。

また保護部側７の長さ、すなわち同部旧７の先端とスー
ト層４との間隔ｔは、第７図に示すように短いほど炎の
保護が完全に行なわれるので良いが、保護部側７の先端
が第８図のごとく炎Ｆの流れに干渉するほど近づけては
いけない。

〔実施例〕

第５図に示すような外径２０ｍｍの５重管バーナ３を用
い、フード６の外径を２５咽、保護部側７の内径を３５
＋ｎｍ、保護部材７の先端とスート層４との距離ｔを１
５ｍｍとし、スート層４を製造したところ、第９図およ
び第１０図に示すように保護部利７を設けない場合に比
較し、非常に滑らかな屈折率分布を示し、広帯域なる光
ファイバが再現性良く得られた。

つぎに本発明の他の実施例を第１１１ＸＩないし第１５
図により説明する。

第１１図に示すものは保護部側７の先端を朝顔の花状に
広げ、炎の先端に影響を与えないようにしたものであり
、その基端部が直接フード６に固着されている。

第１２図は保護部打子の先端を水平にカントして特にス
ート層４直下の炎の保護効率を高めたものである。

第１３図は上部からの気流のみを遮るため、上記筒状の
保護部４Ａ７のかわりに板状としたもので、この保護部
材７はスペーサ８を介してフード６の上側に固着されて
おり、この場合には横方向または下方からの空気の流れ
によって炎が乱されるため、筒状の場合に比べて炎の安
定性は劣るがある程度の効果が確かめられている。

第１４図に示すものはスート層４下面の観察がｕｆ能な
ように円筒状保護部側７の一部に切欠き部７′を設けた
ものである。

第１５図は２重構造とした円筒状の保護部拐７を示すも
ので、内＠７ａと外周７ｂとの間に先端にシール用ガス
流出ロアｃを開口した円筒状の流通路７ｄを形成すると
共に、上記外Ｈｉ７ｂの基端部にシール用ガス注入ロア
ｅを設けてあり、保護部材７先端に設けたシール用カス
流出ロアｃよりシール用ガスを流出させることによって
同保詭部利７の先端にガラス粉末が（＝Ｉイ１するのを
防止したものである。

なお、上記の説明ではバーナ３を円筒状としたが、第３
図に示す角形のバーナ３についても同様に実施できるの
であり、この場合には保護部打子も角形にすればよい。

また以上の説明では１本のバーナ３を用いて光ファイバ
用多孔買母材を製造する場合について述べたが、複数本
のバーナ３．３・・・・・を用いる場合でも勿論良く、
各バーナ３．３・・・・・に保護部４Ａ７を設けること
により、炎の安定およびスート層４の堆積効率の向上が
図れる。

以上説明したように、本発明は排気口をＤｉｉｉえた反
応容器内の粉末堆積箇所に、酸水素炎を介した気相原料
の化学反応により生成された光学系のガラス倣粉末をＪ
ｉｌｉ積するためのバーナにおいて、当該バーナの先端
部外周には炎の広がりを調節するフードを設けると共に
、その外側には反応容器内の気流から炎を保護する保護
部材を設けてなるから、バーナの炎が安定化するため、
乱れがなく、溺らかな屈わ１率分布を有する光ファイバ
が再現性よく得られる。

【図面の簡単な説明】

８ｒ！１図はＶＡＤ法の略示説明因、第２図、第３図は
従来のバーナを略示した斜視図、第４図は第１図の要部
説明図、第５図は本発明バーナの１実施例を示した一部
切欠の正面説明図、第６図は保護部材の内径と炎のゆら
ぎの振幅との関係を示すグラフ、第７図は保護部材とス
ート層との間隔と、炎のゆらぎの振幅との関係を示すグ
ラフ、第８図は第５図に示す実施例の異種状態を示す一
部切欠の正面説明図、第９図Ａ、Ｂは従来のバーナと本
発明のバーナとをそれぞれ用いて製造した光ファイバ母
相より防止された光ファイバの屈折率と径との関係を示
すグラフ、第１０図は同光ファイバの帯域を示すグラフ
、第１１図ないし第１３図は本発明の他の実施例を示す
一部切欠の正ｍＪ説明図、第１４図は同他例を示す斜示
説明図、第１５図は保護部材の他の実施例を示す縦断正
面図である。 １・・・・・反応容器 ２山ｅ・ターゲット ３　・・・・−バ　−　ブー ６　・・・・・　υ［気［］（）非気戦・）６１１・・
・自フード ７・・・・・保護部材 第１図 第４図　第５図 第　９　図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 排気口を備えた反応容器内の粉末堆積箇所に、酸水素炎
   を介した気相原料の化学反応により生成された光学系の
   ガラス微粉末を堆積するためのバーナにおいて、当該バ
   ーナの先端部外周には炎の広がりを調節するフードを設
   けると共に、その外側には反応容器内の気流から炎を保
   護する保護部拐を設けてなる光学系ガラス微粉末生成用
   バーナ。