JPS60119614A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS60119614A JPS60119614A JP22733083A JP22733083A JPS60119614A JP S60119614 A JPS60119614 A JP S60119614A JP 22733083 A JP22733083 A JP 22733083A JP 22733083 A JP22733083 A JP 22733083A JP S60119614 A JPS60119614 A JP S60119614A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic pole
- magnetic
- insulating layer
- thin film
- rear magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
この発明は、薄膜磁気ヘッド（／Ｊ上部コア形成技術に
関するものである。
関するものである。
背景技術
最近ｎ、ｉ−’ｒ−（デジタル・オーディオ・テープレ
コーダ）を初め磁気記録装散は、高記録密度化が要求さ
れているが・線記録＠度は限界ＶＣ近づきつつあり、今
後これ全飛躍的に改善することは勘待できないため、−
トラック密度全土げることによって高記録密度化全達成
することが考えられている。そこで、従来のバルク・ヘ
ッドに代り、尚トラック音度化の容易な薄膜ヘッドか′
に川され始めた。しかしなから、薄膜ヘッドにおけるコ
゛イル形成技術は、未だ確立しておらず、次に述べる上
部コアの磁束乱れ全惹起する欠点かあった０すなわち、
薄膜ヘッドは、一般に第１図に示すように、下部コアと
なる基板ｌ上に１磁気ギヤツプを形成するための非磁性
体薄膜２全形成しておき、その薄膜ｚ上に数（ロ）巻回
する導電コイルパターン３と、薄膜２以外で基板ｌと直
接接合し、かつ絶縁層４全弁して導電コイルパターン３
上へ乗り上げて鎖交する上部コアとなる強磁性体薄膜５
と全設けている。
コーダ）を初め磁気記録装散は、高記録密度化が要求さ
れているが・線記録＠度は限界ＶＣ近づきつつあり、今
後これ全飛躍的に改善することは勘待できないため、−
トラック密度全土げることによって高記録密度化全達成
することが考えられている。そこで、従来のバルク・ヘ
ッドに代り、尚トラック音度化の容易な薄膜ヘッドか′
に川され始めた。しかしなから、薄膜ヘッドにおけるコ
゛イル形成技術は、未だ確立しておらず、次に述べる上
部コアの磁束乱れ全惹起する欠点かあった０すなわち、
薄膜ヘッドは、一般に第１図に示すように、下部コアと
なる基板ｌ上に１磁気ギヤツプを形成するための非磁性
体薄膜２全形成しておき、その薄膜ｚ上に数（ロ）巻回
する導電コイルパターン３と、薄膜２以外で基板ｌと直
接接合し、かつ絶縁層４全弁して導電コイルパターン３
上へ乗り上げて鎖交する上部コアとなる強磁性体薄膜５
と全設けている。
ところが、強磁性体薄膜６′！を形成する場合には、従
来より４１１１コイルパターン３、絶縁層４全形成後に
、スパッタリング手段等により、基板ｌとの［［！接合
するリア部６から絶縁層４上へ来り上げたフロント都７
まで全面被層させ、フォトリングラフィ技術によるエラ
“チング処理全施して不髪部労全除去している。すると
、基板ｌと絶縁層４との段差りが約１０μｍ程度と大き
いリア部６の底部６′においては、フォトレジストの残
存や目ずれか生じがちとなり、上部コアである強磁性体
薄膜５１’ｃおける磁気回路全乱れさぞ不都合な磁束漏
洩、を招い九りして、ヘッドの記録・再生効率全劣化さ
せる欠点があった。
来より４１１１コイルパターン３、絶縁層４全形成後に
、スパッタリング手段等により、基板ｌとの［［！接合
するリア部６から絶縁層４上へ来り上げたフロント都７
まで全面被層させ、フォトリングラフィ技術によるエラ
“チング処理全施して不髪部労全除去している。すると
、基板ｌと絶縁層４との段差りが約１０μｍ程度と大き
いリア部６の底部６′においては、フォトレジストの残
存や目ずれか生じがちとなり、上部コアである強磁性体
薄膜５１’ｃおける磁気回路全乱れさぞ不都合な磁束漏
洩、を招い九りして、ヘッドの記録・再生効率全劣化さ
せる欠点があった。
発明の開示
発明の目的
この発明は、上記従来の上部コアとなる強磁性体薄膜形
成に起因する欠点−全除去すること全目的としている。
成に起因する欠点−全除去すること全目的としている。
発明の構成
この発明は１上記目的全達成するために、次に述べる構
成全採っている。すなわち、この発明け、通常のｆｌｌ
ｌｌ電磁気ヘッドその上部コア全形成する場合に、フロ
ント磁極とリア磁極と全同時に形成する方法であるのに
対して、リア磁極とフロント磁極を別個に形成して接続
させることとし、リア磁極は、絶縁層の高さとほぼ等し
い膜厚に設定させるものである。つまり、この発明は、
リア磁極と絶ＩＩＩｊ、Ｉ１１との夫々の上面全平坦に
揃えて、フロント磁極とリア磁極との境界近傍における
段差解消全企図するものである。
成全採っている。すなわち、この発明け、通常のｆｌｌ
ｌｌ電磁気ヘッドその上部コア全形成する場合に、フロ
ント磁極とリア磁極と全同時に形成する方法であるのに
対して、リア磁極とフロント磁極を別個に形成して接続
させることとし、リア磁極は、絶縁層の高さとほぼ等し
い膜厚に設定させるものである。つまり、この発明は、
リア磁極と絶ＩＩＩｊ、Ｉ１１との夫々の上面全平坦に
揃えて、フロント磁極とリア磁極との境界近傍における
段差解消全企図するものである。
発明の作用効果
この発明全実施すれば、上部コアにおけるフロント磁極
とリア磁極との境界近傍における段差解消が図れるから
、薄膜磁気ヘッドの記録・再生特性劣化防止に貢献でき
、しかも、上部コアの寸法形状全はぼ正確に１設計通り
に形成できるので、従来よりも精密閉磁路が得られ、Ｄ
、Ａ、Ｔ、等の均一な特性が必要とされる理想的なマル
チヘッドとして好適となる長所がある。
とリア磁極との境界近傍における段差解消が図れるから
、薄膜磁気ヘッドの記録・再生特性劣化防止に貢献でき
、しかも、上部コアの寸法形状全はぼ正確に１設計通り
に形成できるので、従来よりも精密閉磁路が得られ、Ｄ
、Ａ、Ｔ、等の均一な特性が必要とされる理想的なマル
チヘッドとして好適となる長所がある。
発明全実施するための最良の形態
第２図〜第６図は、この発明の一実施例全示す薄膜磁気
ヘッドの製造各工程における断面図である。この実施例
では、まず第２図に示すように、Ｍ ｎ −Ｚ ｎ単結
晶フェライト基板１０全用意し下部コア兼用とし、さら
にその上部コア接合予定１ｕｌｌ上に、上部コアのリア
部となるリア磁極１２全形成する。このリア磁極１２は
、Ｐｅ８０酩Ｎ１．２０部の合金をスパッタリング手段
により、その膜厚寸法ｈｖｉ−１従来の・＼ラドの段差
に等しいｌ Ｏｐ ｍ＄ｉ！度に形成する。つぎに第３
図の通りに、磁気ギャップスペーサともなる絶縁性で非
磁性体の８１０゜膜１３を、数千Ａの膜厚で、リア磁極
１２の上面１２′全除く全面に被着さぜる０それから、
第４図のように、リア磁極１２と基板ｌＯの先端部１０
’との間の８１０ｓ膜１３上に、公知のフォトリソグラ
フィ技術によってＡｌｌのスパイラル状導電コイルパタ
ーン１４に形成する。この時、導電コイルパターン１４
の上面高さ寸法ｊは、後述する絶縁層の最小絶縁距離だ
け、リア磁極１２の膜厚寸法りよりも低く設定する。つ
ぎに、第５図に示す通り、例えばＡ１１ｏｎや８１０ｍ
等の絶縁物音、導電コイルパターン１４表面Ｔｈｔむ５
１０２膜１３上にバッタリング等の手段により被覆させ
、絶縁層１５全設ける。そして第６−に示すように、リ
ア磁極上面１２’より絶縁層１５の上面１５″ｌｔ経て
、基板先端部１０’の５ｉｆｔ膜１３上まで、リア磁極
１２と同様にして同一組成のフロント磁極１６全形成し
１上部コア１７全設定して所望の薄膜磁気ヘッド全相る
。ここで、フロント磁極１６を形成する際には、絶縁層
１５の絶縁距離見は、寸法り一寸法ｊｒＣ設定、つまり
、絶縁層上面１５′とリア磁極上面１４／とが、はぼ同
じ高さの平坦部全作るようにすることが望ましい。
ヘッドの製造各工程における断面図である。この実施例
では、まず第２図に示すように、Ｍ ｎ −Ｚ ｎ単結
晶フェライト基板１０全用意し下部コア兼用とし、さら
にその上部コア接合予定１ｕｌｌ上に、上部コアのリア
部となるリア磁極１２全形成する。このリア磁極１２は
、Ｐｅ８０酩Ｎ１．２０部の合金をスパッタリング手段
により、その膜厚寸法ｈｖｉ−１従来の・＼ラドの段差
に等しいｌ Ｏｐ ｍ＄ｉ！度に形成する。つぎに第３
図の通りに、磁気ギャップスペーサともなる絶縁性で非
磁性体の８１０゜膜１３を、数千Ａの膜厚で、リア磁極
１２の上面１２′全除く全面に被着さぜる０それから、
第４図のように、リア磁極１２と基板ｌＯの先端部１０
’との間の８１０ｓ膜１３上に、公知のフォトリソグラ
フィ技術によってＡｌｌのスパイラル状導電コイルパタ
ーン１４に形成する。この時、導電コイルパターン１４
の上面高さ寸法ｊは、後述する絶縁層の最小絶縁距離だ
け、リア磁極１２の膜厚寸法りよりも低く設定する。つ
ぎに、第５図に示す通り、例えばＡ１１ｏｎや８１０ｍ
等の絶縁物音、導電コイルパターン１４表面Ｔｈｔむ５
１０２膜１３上にバッタリング等の手段により被覆させ
、絶縁層１５全設ける。そして第６−に示すように、リ
ア磁極上面１２’より絶縁層１５の上面１５″ｌｔ経て
、基板先端部１０’の５ｉｆｔ膜１３上まで、リア磁極
１２と同様にして同一組成のフロント磁極１６全形成し
１上部コア１７全設定して所望の薄膜磁気ヘッド全相る
。ここで、フロント磁極１６を形成する際には、絶縁層
１５の絶縁距離見は、寸法り一寸法ｊｒＣ設定、つまり
、絶縁層上面１５′とリア磁極上面１４／とが、はぼ同
じ高さの平坦部全作るようにすることが望ましい。
尚上記実施例では、リア磁ｋ１２Ｔｒ形成後に導電コイ
ルパターン１４、絶縁層１５全設けたが、この発明はこ
れに限定されず、もし必要ならば、絶縁層１５全設けた
後にリア磁極１２全形成してもよい。
ルパターン１４、絶縁層１５全設けたが、この発明はこ
れに限定されず、もし必要ならば、絶縁層１５全設けた
後にリア磁極１２全形成してもよい。
以上の通り、この発明によれば・フロント磁極１６′に
形成する際には、リア磁極１２との境界近傍の段差が解
消されるので、上部コア１７の段切れを招く危険がなく
なり、著しく整然とした完壁な環状磁路が実現できる。
形成する際には、リア磁極１２との境界近傍の段差が解
消されるので、上部コア１７の段切れを招く危険がなく
なり、著しく整然とした完壁な環状磁路が実現できる。
したがって、この発明によって、ＰＯＭ磁気記録全行う
り、Ａ、Ｔ、のマルチトラックヘッドを’Ｊｌｌ拝すれ
ば、極めて均質な電気・磁気特性全示すマ“ルチヘッド
が得られる。
り、Ａ、Ｔ、のマルチトラックヘッドを’Ｊｌｌ拝すれ
ば、極めて均質な電気・磁気特性全示すマ“ルチヘッド
が得られる。
第１図は、従来の一般的な薄膜磁気ヘッドの断面図、第
２図〜第６図は、この発明の一実施例全示す各＃＆造工
程における薄膜ヘッドの断面図であ６る◇ ｘｏ・−・基＆（下部コア）、 １２・・・リア磁極、 １３””５ｌｏｔ膜、 １４・・・導電コイルパターン、 １５・・−Ｍ城層−１ １６・・・フロント磁極、 １７・・・上部コア、 ｈ・・・リア磁極の膜厚寸法。
２図〜第６図は、この発明の一実施例全示す各＃＆造工
程における薄膜ヘッドの断面図であ６る◇ ｘｏ・−・基＆（下部コア）、 １２・・・リア磁極、 １３””５ｌｏｔ膜、 １４・・・導電コイルパターン、 １５・・−Ｍ城層−１ １６・・・フロント磁極、 １７・・・上部コア、 ｈ・・・リア磁極の膜厚寸法。
Claims (1)
- 下部コアとなる強磁性体基板上じ、磁気ギャツ、プ形成
用の非磁性体薄膜全形成し、上記非磁性体薄膜上に導電
コイシフンターン金設け、さらに非磁性体薄膜以外で基
板と直接接合し、かつ絶縁層全弁して４亀コイルパター
ン上へ乗り上げて韻文する上部コアとなる強磁性体薄膜
全形成する方法において、前記上部コアとなる強磁性体
薄膜は、基板と直接接合するリア磁極と、それ以外のフ
ロント磁極と全別個に形成して接続させるとともに、上
記リア磁極は、絶縁層の菖さとほぼ等しい膜厚Ｖ（設定
させること全特徴とする薄膜磁気ヘッドの＃遣方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22733083A JPS60119614A (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22733083A JPS60119614A (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60119614A true JPS60119614A (ja) | 1985-06-27 |
Family
ID=16859114
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22733083A Pending JPS60119614A (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60119614A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62107418A (ja) * | 1985-11-01 | 1987-05-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS62128012A (ja) * | 1985-11-29 | 1987-06-10 | Citizen Watch Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| US4852906A (en) * | 1987-05-11 | 1989-08-01 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Electronically controlled fluid suspension system |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5778613A (en) * | 1980-10-30 | 1982-05-17 | Canon Inc | Thin film magnetic head and its manufacture |
| JPS57117117A (en) * | 1981-01-09 | 1982-07-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Thin film magnetic head |
-
1983
- 1983-11-30 JP JP22733083A patent/JPS60119614A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5778613A (en) * | 1980-10-30 | 1982-05-17 | Canon Inc | Thin film magnetic head and its manufacture |
| JPS57117117A (en) * | 1981-01-09 | 1982-07-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Thin film magnetic head |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62107418A (ja) * | 1985-11-01 | 1987-05-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS62128012A (ja) * | 1985-11-29 | 1987-06-10 | Citizen Watch Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| US4852906A (en) * | 1987-05-11 | 1989-08-01 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Electronically controlled fluid suspension system |
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