JPS6045920A - 複合・コアを有する薄膜磁気ヘッド - Google Patents
複合・コアを有する薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPS6045920A JPS6045920A JP15363983A JP15363983A JPS6045920A JP S6045920 A JPS6045920 A JP S6045920A JP 15363983 A JP15363983 A JP 15363983A JP 15363983 A JP15363983 A JP 15363983A JP S6045920 A JPS6045920 A JP S6045920A
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- Japan
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- film
- film thickness
- plating
- magnetic film
- permalloy
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
- G11B5/3143—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding
- G11B5/3146—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding magnetic layers
- G11B5/3153—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding magnetic layers including at least one magnetic thin film coupled by interfacing to the basic magnetic thin film structure
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(11発明の技術分野
本発明は段差部を有する薄膜へ、ソドの上部磁性層をス
パッタリングで成膜した膜とメッキで成膜した膜とを組
み合わせて、スパッタリングでのみl旦胤な高飽和磁化
・高透磁率を有するアモルファス磁性 を薄 ヘッドに
応 する方法に関する。
パッタリングで成膜した膜とメッキで成膜した膜とを組
み合わせて、スパッタリングでのみl旦胤な高飽和磁化
・高透磁率を有するアモルファス磁性 を薄 ヘッドに
応 する方法に関する。
(2)技術の背景
磁気記録の高密度化に対応するため、薄膜磁気ヘッドの
磁極材料に高飽和磁化・高透磁率が得られるアモルファ
ス軟磁性膜(Co−F e−B、Co−Zr)などが知
られているが、成膜方法としてはスパッタリングに限ら
れている。
磁極材料に高飽和磁化・高透磁率が得られるアモルファ
ス軟磁性膜(Co−F e−B、Co−Zr)などが知
られているが、成膜方法としてはスパッタリングに限ら
れている。
(3)従来技術と問題点
このためステップカバー性が悪く、ステ、7プ部での磁
気回路的膜厚、つまりステップ部のテーノぐ−に対し垂
直方向の膜厚が、゛平坦部より薄(なるので構造上ステ
ップ会で磁 的に飽和しやすいという欠点が出る。一方
メツキでつくられるパーマEl腹腹の場合ステップ部で
の磁気回路的膜厚は、場所に依らずほぼ均一となるが、
飽和磁化・透ViL率9」V艷アモルファス軟磁性膜よ
りも劣擾−という欠点がある。
気回路的膜厚、つまりステップ部のテーノぐ−に対し垂
直方向の膜厚が、゛平坦部より薄(なるので構造上ステ
ップ会で磁 的に飽和しやすいという欠点が出る。一方
メツキでつくられるパーマEl腹腹の場合ステップ部で
の磁気回路的膜厚は、場所に依らずほぼ均一となるが、
飽和磁化・透ViL率9」V艷アモルファス軟磁性膜よ
りも劣擾−という欠点がある。
(4)発明の目的
本発明はスパッタリングで成膜される高飽和磁化・高透
磁率のアモルファス軟磁性体のステ・ノブカバーの悪さ
を、ステップカバー性の良いメッキのパーマロイ軟磁性
膜で補い、ステップ部での磁気的飽和が起こりにくくす
る方法を提供する。
磁率のアモルファス軟磁性体のステ・ノブカバーの悪さ
を、ステップカバー性の良いメッキのパーマロイ軟磁性
膜で補い、ステップ部での磁気的飽和が起こりにくくす
る方法を提供する。
(5)発明の構成
本発明はスパッタリングで成膜したアモルファス軟磁性
膜から成る薄膜ヘッドの上部磁性層において、段差部で
の膜厚減少をメッキで成膜した軟磁性膜で補なったこと
を特徴とする複合磁気コア及びそれを有する薄膜ヘッド
により達成される。
膜から成る薄膜ヘッドの上部磁性層において、段差部で
の膜厚減少をメッキで成膜した軟磁性膜で補なったこと
を特徴とする複合磁気コア及びそれを有する薄膜ヘッド
により達成される。
(6) 発明の実施例
以下本発明について図面を参照して実施例を説明する。
第1図に示すのは、ステップカバー性の良くないスパッ
タリングで成膜、した高飽和磁化材料C0−Zr等の磁
極を有する薄膜ヘッドの断面図である。セラミック又は
ガラス基板lの上に2〜3μmの膜厚の下部磁性膜2を
設け、ギャップ3用の非磁性絶縁膜として約0.8μm
のSiOλを41着した上に、レベリング性の高い樹脂
から成る絶縁層4を用いて、膜厚的2μmのメッキCu
のコイル5の絶縁を図る。この上に上 生16をスパッ
タリングにて する絶縁層4の上面に生じる段差部に基
板法線方向よりθ°梱いたテーパーがあるとすれば、テ
ーパーの面に垂直な方向での膜厚は、平面部の膜厚に対
してCOSθの割で薄くなる。第2図に示すようにパー
マロイメッキ用のフレーム8をフォトレジストAZ13
50により形成し、ギャップに近いテーパー、コイルの
上。
タリングで成膜、した高飽和磁化材料C0−Zr等の磁
極を有する薄膜ヘッドの断面図である。セラミック又は
ガラス基板lの上に2〜3μmの膜厚の下部磁性膜2を
設け、ギャップ3用の非磁性絶縁膜として約0.8μm
のSiOλを41着した上に、レベリング性の高い樹脂
から成る絶縁層4を用いて、膜厚的2μmのメッキCu
のコイル5の絶縁を図る。この上に上 生16をスパッ
タリングにて する絶縁層4の上面に生じる段差部に基
板法線方向よりθ°梱いたテーパーがあるとすれば、テ
ーパーの面に垂直な方向での膜厚は、平面部の膜厚に対
してCOSθの割で薄くなる。第2図に示すようにパー
マロイメッキ用のフレーム8をフォトレジストAZ13
50により形成し、ギャップに近いテーパー、コイルの
上。
上下磁性膜接続7の上方に開口部を設ける。第3図に示
すように膜厚2μm程度のパーマロイをメ□先する。メ
ッキで成長したパーマロイは1腹置仁刀」と(重1コり
葭l、するので、テーパ一部での膜厚は他の場所と同じ
になる。メッキ用のフレーム8を7七トン等の有機溶媒
を用いて除去すると第4図のようなC、o −7,rと
パーマロイとから成る。
すように膜厚2μm程度のパーマロイをメ□先する。メ
ッキで成長したパーマロイは1腹置仁刀」と(重1コり
葭l、するので、テーパ一部での膜厚は他の場所と同じ
になる。メッキ用のフレーム8を7七トン等の有機溶媒
を用いて除去すると第4図のようなC、o −7,rと
パーマロイとから成る。
複合コアを有する薄膜ヘッドが作れる。
(7) 発明の効果
高飽和磁化・高透磁率であるが、ステップカバー性に難
のある軟磁性材料をWt成膜ッドに応用することができ
るので、高記録密度に対応できる薄膜ヘッドがつくれる
。
のある軟磁性材料をWt成膜ッドに応用することができ
るので、高記録密度に対応できる薄膜ヘッドがつくれる
。
第1図〜第4図は本発明の薄膜磁気ヘッド製造工程断面
図 1 基板 2 下部(Co−Zr)磁性膜 3 ギャップ用薄膜 4 絶縁層 5 コイル導体 6 上部(Co−Zr)磁性膜 7 上下磁性膜接続部 8 メッキ用フレーム 9 メッキしたパーマロイ θ:段差部の角度 窮 1 図
図 1 基板 2 下部(Co−Zr)磁性膜 3 ギャップ用薄膜 4 絶縁層 5 コイル導体 6 上部(Co−Zr)磁性膜 7 上下磁性膜接続部 8 メッキ用フレーム 9 メッキしたパーマロイ θ:段差部の角度 窮 1 図
Claims (1)
- スパッタリングで成膜したアモルファス軟磁性膜から成
る薄膜ヘッドの上部磁性層において、段差部での膜厚減
少をメッキで成膜した軟磁性膜で補なったことを特徴と
する複合コアを有する薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15363983A JPS6045920A (ja) | 1983-08-23 | 1983-08-23 | 複合・コアを有する薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15363983A JPS6045920A (ja) | 1983-08-23 | 1983-08-23 | 複合・コアを有する薄膜磁気ヘッド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6045920A true JPS6045920A (ja) | 1985-03-12 |
JPH0527163B2 JPH0527163B2 (ja) | 1993-04-20 |
Family
ID=15566911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15363983A Granted JPS6045920A (ja) | 1983-08-23 | 1983-08-23 | 複合・コアを有する薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6045920A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6278711A (ja) * | 1985-10-01 | 1987-04-11 | Sony Corp | 薄膜磁気ヘツド |
JPS6278712A (ja) * | 1985-10-01 | 1987-04-11 | Sony Corp | 薄膜磁気ヘツド |
JPS6377833U (ja) * | 1986-11-11 | 1988-05-23 | ||
JPH02108627U (ja) * | 1989-02-17 | 1990-08-29 | ||
FR2716996A1 (fr) * | 1994-03-07 | 1995-09-08 | Commissariat Energie Atomique | Tête magnétique verticale et son procédé de réalisation. |
US5845954A (en) * | 1996-06-25 | 1998-12-08 | Toyota Technical Center, U.S.A., Inc. | Glove box assembly including glove box that is positionable in a partially open position |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5233512A (en) * | 1975-09-10 | 1977-03-14 | Hitachi Ltd | Film magnetic head |
JPS5284722A (en) * | 1975-12-31 | 1977-07-14 | Fujitsu Ltd | Thin film magnetic head and its production |
-
1983
- 1983-08-23 JP JP15363983A patent/JPS6045920A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5233512A (en) * | 1975-09-10 | 1977-03-14 | Hitachi Ltd | Film magnetic head |
JPS5284722A (en) * | 1975-12-31 | 1977-07-14 | Fujitsu Ltd | Thin film magnetic head and its production |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS6278711A (ja) * | 1985-10-01 | 1987-04-11 | Sony Corp | 薄膜磁気ヘツド |
JPS6278712A (ja) * | 1985-10-01 | 1987-04-11 | Sony Corp | 薄膜磁気ヘツド |
JPS6377833U (ja) * | 1986-11-11 | 1988-05-23 | ||
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JPH0533390Y2 (ja) * | 1989-02-17 | 1993-08-25 | ||
FR2716996A1 (fr) * | 1994-03-07 | 1995-09-08 | Commissariat Energie Atomique | Tête magnétique verticale et son procédé de réalisation. |
EP0671724A1 (fr) * | 1994-03-07 | 1995-09-13 | Commissariat A L'energie Atomique | Tête magnétique verticale et son procédé de réalisation |
US5883765A (en) * | 1994-03-07 | 1999-03-16 | Commissariat A L'energie Atomique | Vertical magnetic head having first and second magnetic materials in specific shapes |
US6167611B1 (en) | 1994-03-07 | 2001-01-02 | Commissariat A L'energie Atomique | Process for producing a vertical magnetic head |
US5845954A (en) * | 1996-06-25 | 1998-12-08 | Toyota Technical Center, U.S.A., Inc. | Glove box assembly including glove box that is positionable in a partially open position |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0527163B2 (ja) | 1993-04-20 |
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