JPS60106993A - はんだ接合性パラジウム−ニツケル被膜及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明け、導電性被膜に関し、とくに導電性基体上に
設けた永久的なはんだ接合性パラジウムーニッケル合金
に係る。

〔従来技術及びその問題点〕

一般に金めつきは、電気接触部の腐食を防ぎ。

かつはんだ接合性を維持し、また低荷重での低電気接触
抵抗を維持することができるので、これらの目的を達成
するために使用されている。

しかし、金めつきは大変高価である。そこでパラジウム
−ニッケル合金などの低コストのものが代用材料として
研究されている。例えば米国特許４１０００３９では、
導電性基体上に・ぐラジウム−ニッケル合金を形成する
方法を提案じている。しかし公知のノやラジウム−ニッ
ケル合金は耐食性層を低コストで形成できるが、はんだ
接合性が低下ししかも標準低荷重での電気接触抵抗が高
い問題があった。

〔発明の構成〕

本発明者は、以下に示す導電性基体被覆用の・やラジウ
ム−ニッケル電気めっき被膜が基体を腐食から保護し、
かつ永久的な―°んだ接合性を有し、更に低荷重での’
ｉｉ、気接触低接触抵抗るということを見出した。この
被膜は、厚さ約０．１〜１．５μｍの電気めっき合金層
で、約４６〜８２原子−の／ｆラジウムと約１８〜５４
原子係のニッケルからなシ、ニッケル、黄銅、銅又は燐
青銅などの導電性基体に付着している。そして更にこの
層の上に約９６〜１００原子係の金属パラジウムと約０
〜４原子係のニッケルとからなる表面層を連続的に被覆
している。この表面層は約２０オングストローム（約９
〜１０原子層）よりも薄い。

〔発明の詳細な説明〕

この発明の被膜を作るには、まず燐青銅ワイヤｔ、ｃど
の基体をめっき浴中で電気めっきする。

ここで、めっき浴は、パラジウム（ｎ）アンミンクロリ
ドを】０〜ｉ　ｓ　ｙｙｔ　、ニッケルアンミンスルフ
ェートを５〜］　］　、１１／ｌ　、ビニルスルフオン
酸ナトリウム、アリルスルフオン酸ナトリウム又は四級
化ピリジンなどの光輝剤を少量、更に硫酸アンモニウム
又は塩化アンモニウムを３０〜５０１／／を含むもので
ある。

この電気めっきは、処理条件が温度約３５℃〜５５℃、
　ＦＪＩ約７５〜９．電流密度的５〜２５Ａ　／　ｄ　
ｍ”で、ワイヤを浸漬中に活発に樗−拌する。

そして厚さ０．１〜１．５μｍの・臂ラジウムーニッケ
ル被膜を形成する。この被膜は、４６〜８２原子係の・
母ラジウムと残部ニッケルの組成である。

本発明者は、このようにして得られた・母うノウムーニ
ッケル表面層を硫酸又は塩酸で処理することにより、こ
の上部に非常に薄い金属ノｅラジウム９６〜１００原子
係とニッケル４〜ＯＪＪｊＬ子チの連続した層が形成さ
れることを見出した。

このツヤラジウム富化表面層の厚さは２０Ｘ又はそれ以
下で、これは約９〜１０原子層に相当する。

この連続した薄膜は、硫酸又は塩酸で処理して形成され
た９６〜１００係の純・ギラジウムであシ、厚さは高々
２０Ｘであるが、このものを電気めっき法あるいは気相
めっき法によって多結晶金属表面にめっきすることは全
くできない。

即ち２０Ｘのめつき被膜を電気めっき又は気相めっきで
作ろうとすると、原子が孤立した島のようなめっきがな
され、本発明の酸処理で作られるような連続した層は形
成されない。電気めっき又は気相めっきで作られる最初
の連続薄膜は１５０〜１００ＯＸの厚さであシ、本発明
で作られる２０Ｘのものとは対称的である。

第１図及び第３図は、酸処理した・ぐラジウム−ニッケ
ル合金表面の基本組成をプロットしたものである。これ
によれば、工場事務所環境で時効シタ・やラジウム−ニ
ッケル合金表面（第２図参照）とは明らかに異なる。

本発明の処理をせず時効したものの表面は、ニッケルイ
オンＮ１２＋と場合によってはノ４ラジウＪイオンＰｄ
２＋を含み、これらは酸化物及び塩化物として存在して
いる。これらの表面層は、経時的に変化してはんだ接合
性試験に合格せず、低接触荷重において高い電気接触抵
抗を示す。これに対しこの発明の酸処理したものは、９
６〜１００原子係の金属・ぞラジウム（ＰｄＯ）と少量
（θ〜４原子係）の金属ニッケルとからなる。

従って酸処理した表面層は、優れたはんだ接合性を示し
、電気接触抵抗が低い（１０グラム標準押圧力で２ｍΩ
よ）小さい）。

この発明に係る非常に薄い連続したパラジウム寓化層は
、酸化によるイオン化がなされにくく、安定している。

また合金内部のニッケルが表面に拡散し錐く、この点で
も安定している。

このような安定性は、電子部品が受ける次のような各種
時効処理によっても、特性が変化しないことから明らか
となる。

工業事務所及び保管倉庫環境での２８ケ月以内又はそれ
を越える期間の暴露試験。

電子部品証明用の米軍規格２ｏ２．方法２０８で記載さ
れる促進化蒸気時効。

所定の電子部品使用者が行っている空気中での昇温時効
。

非処理のノ母ラジウムーニッケル合金被膜では、時効処
理中に著しい化学的性質及び性能の変化がみられ、はん
だ接合性及び電気性能が悪くなっていることがわかった
。

一方この発明では、酸処理、即ち電着・ぐラジウム−ニ
ッケル皮膜を室温の硫酸濃度２ｏ答量チの静水溶液１ｃ
３０秒間浸漬して本発明の特異な皮膜を作シ、そしてこ
の処理後、皮膜を完全にゆすぎ、乾燥する酸処理を行な
った。

この発明では、濃度１〜１ｏｏ容を係の硫酸を使用する
ことができる。硫酸の濃度が１容量チに近づくほど、処
理時間を長くしなければならない。例えば硫酸濃度１容
量係の静水溶液で電着・やラジウム−ニッケルを処理す
る場合、室温で３０分必要である。

攪拌を行なうことＫよ多処理溶液中にお旨て既得の運転
休止時間に関し重要な効果を得ることができる。１０容
量係硫酸に電着パラジウム−ニッケル被膜を浸漬した場
合、活発な攪拌を行なえば、室温で０．４秒で処理を行
なうことができる。

２０容量係の塩酸静溶液に電着・やラジウム−ニッケル
を浸漬した場合、室温で３０秒処理することによシ所望
の被膜を得ることができる。

しかし全ての酸が有効というものではな−。

例えば２０容量チの硝酸水溶液、５０容景チの氷酢酸及
び５０容４１％の燐酸で処理した場合、本発明のものと
は異なるものが表面に形成されてしまう。

Ｘ線光電分光（ＸＰＳ）技術及び化学分析用電子分光（
ＥＳＣＡ）を用いて・やラジウム−ニッケル合金皮膜表
面の化学分析を行なった。ＸＰｓ分析は、軟Ｘ線を当て
た時その表面で原子から放出される軌道電子結合エネル
ギーを測定することにょシ、おこなう。放射した軌道光
電子の結合エネルギーから、元素の存在だけでなく元素
の原子価状態をもわかる。従ってパラジウム−ニッケル
合金表面をＸＰＳで分析すれば、金属又は零原子価状態
の元素（ｐ／及びＮｉ’）の原子係とともに酸化物、塩
化物として化合物中忙ある陽イオン原子価状態の元素（
ｐａ２＋１びＮｉ２勺をも知ることができる。

ここで行なったＸＰｓの試験条件は次の通シである。

Ｘ線放射の種類：　ＭｇＫ　（１２５３，６ｅＶ　）加
速電圧　：　１５　ｋＶ 設定チューブ電カニ　３００ワット 最大強さの棒でのビーム幅＝４．５μｍ開始角度　＝５
００ この発明の試料につきＸＰＳで表面の化学組成を算出し
たところ金属元素成分のみが見出された。パラジウム−
ニッケル合金の表面につき。

金属成分の原子チを決めるＫは、以下の光電結合エネル
ギーを用いた。

元素成分　指定電子軌道　結合エネルＡ’−ｅ　ＶＰｄ
’　３ｄ５７２３３５ Ｐｄ”　３ｄ５７□　３３９ Ｎ′。２ｐＶ２８５２ Ｎｉ”　２ｐｓ７□　８５５ ・母ラジウムーニッケル合金被膜をＸＰＳ分析すると、
ニッケルの領域は表面から約２０オングストローム（Ｘ
）を越えた深さに広がっている＠この理由は、ニッケル
電子　２Ｐ　５／２はこれよシも深いところから励起さ
れるカｔ、このエネルギーは被膜から放出されるに十分
なエネルギーではないためである。パラジウム−ニッケ
ル合金の表面下２０Ｘの所は、約９〜１０原子層に相当
する。電着／４’ラジウム−ニッケル合金被膜の厚さは
０．１〜１．５μｍであシ、これは１０００〜１５００
０１に相当する。ＸＰＳは、ノ臂ラジウムーニッケル合
金被膜の表面における薄膜領域の化学分析に最適であシ
、このことから、電気コネクター機器に用いる際最もＭ
要な被膜特性であるはんだ接合性及び電気接触抵抗を検
出することができる。

ＸＰＳ化学分析では、所定試料につき最初の表面からの
距離の関数として金属元素成分を分析する。第１段階で
は、最初のＸ＝Ｏ〜２０Ｘの表面層につきｘＰＳ分析す
る、次いでアルデンイオンスパッタリングで材料を所定
原料し、各剥離工程ごとにＸＰＳ分析を行なう。最初の
表面から剥離される厚さは１２．５，２５．５０及び１
００Ｘと次第に厚くなる。いずれの場合も分析する領域
は表面から２０１の深さである。従ってｔＩｆ、１図乃
至第３図で示すＸＰＳの各プロットは、表面下２０Ｘの
位置、換言すれば最初の表面から３２．５，４５．７０
及び１２０の距離である。

第１図はＸＰＳによる分析の代表例を示す。

・平うジウムーニッケル合金表面ヲアルゴンスパッタで
剥離する条件は、次の通りである。

イオン源：アルゴンガス イオン加速電、圧：　４　ｋＶ これらの条件とスａ４　ツタリング電流を精度よくコン
トロールスルト、ノ！ラジウムーニッケル合金被膜を２
２／ｌ分の剥離速度で再現性よく均一にス・やツタする
ことができる。

酸処理前のパラジウム−ニッケル被膜にはその表面に相
当量のＰｄ”＆　Ｎｉ２＋とがあシ、はんだ付けＫよる
ぬれ性を阻害する。このことは、８０チはんだ帽Ｉこよ
ってのみ明らかとされる。工業的に認められる標準はん
だ接合性は、はんだ被覆が少なくとも９５％でなければ
ならない。

アルファ６１１や８０９などのはんだフラックスを室温
で用いても、Ｐｄ２＋又はＮｌ　２％−減少し又社除去
して金属とすることはできず、このため、はんだ接合性
は改善されない。

以下実施例につき説明する。各実施例はワイヤ又はディ
スク状の銅合金基体に対してなされたもので、この基体
は通常の前処理を行なった後通常の硫酸ニッケルめりき
処理ＫＪ：、り純粋ニッケルを電着している。ニッケル
の下地は銅がめっき浴で汚染されるのを防ぐものである
が、この発明ではとくに必要とイるものではない。

実施例では、明記したものを除き、２０容量チの硫酸溶
液に３０秒間室温で浸漬したものである。

実施例１ 以下の浴組成及びめっき条件で、ニッケルめっき銅合金
ワイヤ基体上に厚さ０．９μｍの・ぜラジウム−ニッケ
ル合金を電着した。

浴組成 Ｐｄａ度　・母ラジウム（ＩＩ）アンミンクロリド１７
１１／１ Ｎｉｉ１度　ニッケルアンミンスルフェート１０１／ｌ ビニルスルフオン酸ナトリウム　１．４１／を硫酸アン
モニウム　５０１１／ｌ めっき条件 温度　３７℃ ｐｌ（８，９ 電流密度　２５　Ａ／　ｄ　ｍ” 溶液の攪拌　活発 ワイヤの電着パラジウム−ニッケル合金は、８１原子チ
のノ臂ラジウムと１９原子−のニッケルとが含まれてい
た。次いでめっき試料を表Ｉに従って処理した。

表　Ｉ 各表面後表面の化学的性質をＸＰｓ分析で４Ｑべ、はん
だ接合性を米国軍規路２ｏ２．方法２０８で評価した。

工場事務所内環境で１２チ月時効処理した電着／母うジ
ウムーニッケル合金被膜は、その最初の表面（Ｘ＝０〜
２ｏｏ）がＮ１２＋、　Ｐｄ”　及ヒＰｄＯの混合物か
らなっていた（表１の試料１ａのＸＰＳ分析参照）。こ
のものは、はんだ接合性浸漬試験においてはんだ被覆量
が被膜表面の９５％未満であり、不適当であった。時効
処理した・母ラジウムーニッケル合金被膜を硫酸処理す
ると、純粋金属・母ラジウム（Ｐｄ　’）の連続層から
なる表面を作シ、はんだ接合性試験でけ９９チの被覆量
であった（試料１ｂ参照）。硫酸処理によりニッケルＮ
ｔ２＋又はＮ％０が除去されるので、１００％の純粋金
ＲパラジウムＪｒ９が連続シて存在した。

硫酸処理により純粋金属・母ラジウム（Ｐｄ０）表面層
が形成されるが、これは工場事務所内環境での１８チ月
の時効処理で変化しなかった。・（ラジウム−ニッケル
合金被膜の内部から表面へニッケルが拡散することがな
く、又金属）やラジウム（Ｐｄ’）が酸化物（ｐ　ａ　
２　＋　）になることもなかった（試料１ｃ参照）。試
料ＩＣの安定し連続した純粋な金属パラジウム層は第１
図のＸＰＳ化学分析に示すように厚さが２０ｘしかない
。

実施例２ 実施例１と同じ方法で・やラジウム−ニッケル電着ワイ
ヤを用意し、第２表に示す処理を行なりたＯ 表　■ 処理後ＸＰＳ化学分析で１２０ｘの深さまで調べ、複数
個の同一試料につきはんだ接合性を調べた。

これら試料のＸＰＳによる分析結果を第２図及び第３図
に示す。事務所内時効試料（試料２ａ）は、はんだ接合
性が悪かったものであるか、ＮＩとＰ　ｄ　２”７！ｌ
’−相当量あシ、第２図に示すように金属／ＩＰラジウ
ム（ＰｄＯ）は６２原子チしかなかった。

事務所内時動径硫酸処理した試料２ｂにつきはんだ接合
性試験を行なった。この処理で２０Ｘ厚の表面層は第３
図に示すように金属ノやラジウム（ｐａ　’）が９９原
子チあシ、金属ニッケル（Ｎ１０）は１原子チであった
。

実施例３ ニッケルめっき銅合金円盤に下記浴組成及び条件で厚さ
１．３μｍ、７６原子チ・やラジウムと２４原子係ニツ
ケルの組成の７４’ラジウム−ニッケル被膜を電着した
。

浴組成 ｐａ１度　パラジウム（ｎ）アンミンクロリド　１８１
／ｌＮｓ　ａ　度　二、ケルアンミンスルフニー）　１
０．９／Ａアリルスルフオン酸ナトリウム　１．７１１
／を硫酸アンモニウム　５０９／ｌ めっき条件 温度　５５℃ ｐｉ−１８，７ 電流密度　１６　Ａ／ｄｍ２ 液攪拌　活発 次いでめっき試料を表■によシ処理した。

表　ｍ ぴ憾歌処理 処理後ｘｐｓ化学分析を１２０Ｘの深さまで行ない、複
数個の同一試料につきはんだ接合性を調べた。

試料３ａのものがはんだ接合性が悪いのに対し、試料３
ｂははんだ接合性が良かった（合格品であった）。

実施例４ ニッケルめっき鋼合金円盤上に下記浴組成及びめっき条
件を用いて厚さ０．８μｍで７０原子チ／ｌラジウムと
３０原子係のニッケルからなるノ４ラジウムーニッケル
被膜を形成した。

浴組成 Ｐｄ濃度　・母ラジウム（Ｉｆ）アンミンクロリド１１
．８ｇ／１Ｎｉｓ度　ニッケルクロリド５．２１／を四
級化ピリジン　６００　ｐｐｍ 塩化アンモニウム　３０１／ｌ めっき条件 温度　５０℃ ｐＨ８，５ 電流帯度　５　Ａ／　ｄ　ｍ” 液攪拌　活発 めっき試料を表ＩＶにもとづいて処理した。

表　■ 処理後、ＸＰＳ化学分析１１２０ｉの深さまで行ない、
また複数個の同一試料につきはんだ接合性を調べた。

試料４ａははんだ接合性が悪く、一方酸処理した試料４
ｂははんだ接合性が良く、合格品であった。

実施例５ ニッケルめっ含銅合金円盤に下記浴組成及びめっき条件
で、厚さ０．８μｍで、５５原子％パラジウム及び４５
原子チニツケルのノやラジウム−ニッケル被膜形成した
。

浴組成 Ｐｄ濃度　ノやラジウム（Ｉｔ）アンミンクロリド１０
ｆｊ／。

Ｎｌ＃度　ニッケルクロリド６１／を 四級化ピリジン　６００　ｐｐｍ 塩化アンモニウム　３０１１／ｌ めっき条件 濃度　５０℃ ｐＨ７，５ 電流帯度　５　Ａ／　ｄ　ｍ” 液攪拌　活発 次いでめっき試料を表ＶＫよシ処理した。

表　Ｖ 時間、１２５℃ で時効及び工 場環境で２８ ケ月事務所内 時効 ５ｂ　５ｍの時効処　１００００　０　９９理及び硫酸
処 理 処理後ｘｐｓ化学分析で１２０Ｘの深さまで調べ、かつ
複数個の同一試料につきはんだ接合性を調べた。

試料５ＩＬははんだ接合性が悪いのに対し、酸処理した
試料５ｂははんだ接合性が良く合格品であった。

実施料６ ニッケルめっき銅合金円盤に下記浴組成及びめっき条件
で厚さ１３μｍで４６原子係・４ラジウム及び５４原子
チニツケルの組成の・やラジウム−ニッケル被膜を形成
した。

浴組成 Ｐｄ濃度　・やラジウム（ＩＩ）アンミンクロリド１ｒ
ｐ／１Ｎ１ａ度　ニッケルアンミンスルフェート１１１
１／ｌビニルスルフオン酸ナトリウム　２．８９／Ｌ硫
酸アンモニウム　５０１／ｌ めっき条件 温度　４８℃ ｐＨ８，０ 電流密Ｗ　８．７　Ａ／　ｄ　ｍ” 液攪拌　活発 次いでめっき試料を表■で処理した。

表　■ 処理後、ＸＰＳ化学分析で１２０又の深さまで調べかつ
複数個の同一試料につきはんだ接合性を調べた。

試料６ａは、はんだ接合性が不良であったが、酸処理し
た試料６ｂは良好で、合格品であった。

実施例７ ニッケルめっき銅合金ワイヤに下記浴組成及びめっき条
件で厚さ０．９Ａｎで８１原子チｉ！ラジウムと１９原
子−二、ケルの組成のパラジウム−ニッケル合金被膜を
形成した。

浴組成 ＰｄｆＩｋ度　パラジウム（「）アンミンクロリド　１
７１１／１ＮＩＨ！ｊ　ニッケルアンミンスルフェート
　１ｏＩＩ／ｌビニルスルフオン酸ナトリウム　Ｌ４１
１／を硫酸アンモニウム　５０１／ｌ めりき条件 濃度　３７℃ ＰＩ（８，９ 電流密度　２５　Ａ／　ｄｍ２ 液攪拌　活発 次いでめっき試料に表■の処理を行なった。

表　■ 処理後、ＸＰＳ化学分析で深さ１２ｏＸまで調べ、かつ
複数個の同一試料につきはんだ接合性を調べた。

酸処理した試料は、いずれも９５チの最小はんだ接合性
規準を満足していた。また米軍規格に従って硫酸処理後
に蒸気処理したものは）４ラジウム富化成分が変化せず
、はんだ接合性に変シはなかった。

実施例８ 二、ケルめっき銅谷金ワイヤーに下記浴組成及びめっき
条件で厚さ０．９μｍのバラジウムーニ、ケル合金波Ｍ
ｆ電着形成した。

浴組成 Ｐｄ濃度　ノリジウム（［０アンミンクロリド　１７１
１／１Ｎｉｌｌｌｉ　ニッケルアンミンスルフェート　
ｘｏｐ７ｔビニルスルフォン酸ナトリウム　１．４．９
／を硫酸アンモニウム　５０１／ｌ めりき条件 温度　３７℃ ｐＨ８，９ 電流密度　２５Ａ／ｄｍ２ 液攪拌　活発 次いでめっき試料を表■で処理した。

表　■ 処理後、ＸＰＳ化学分析で深さ１２０Ｘまで調べ、かつ
複数の試料につきはんだ接合性を調べた。

試料８ａははんだ接合性が悪かったが、硫酸処理したも
のはいずれも良好で合格品であった。

試料８ｃ及び８ｄは、酸濃度による表面の特徴のちがい
を示している。試料８ｃは１００容量チ硫酸濃度で３０
秒間処理したもので、はんだ接合性の基準を７ヤスして
いた。試料８ｄは１容量−の硫酸濃度で３０秒間処理し
たもので、許容しうるはんだ接合性を示していた。

実施例９ 実施例８の方法で・母ラジウムーニッケル電着ワイヤー
を用意し、これに表■の処理を行った。

表　■ 処理後、複数個の同一試料につきｘｐｓ化学分析で深さ
１２０Ｘまで調べ、はんだ接合性を調べた。この結果、
いずれもはんだ接合性が不良であった。

実施例１０ 実施例８の方法で別の／やラジウム−ニッケル電着ワイ
ヤーを用意し、これを表Ｘで処理した。

表　Ｘ 処理後複数の同一試料につきＸＰＳ化学分析で１２０Ｘ
の深さまで調べ、かつはんだ接合性を調べた。

実施例１１ 実施例８の方法で別のツヤラジウム−ニッケル電着ワイ
ヤを用意し、これを表Ｘで処理した。

表　Ｘ 処理後複数個の同一試料につき、ｘＰＳ化学分析で深さ
１２０Ｘまで調べ、かつはんだ接合性を調べた。いずれ
の試料もはんだ接合性が不良であった０ 実施例１２ 実施例８の方法で別のパラジウム−ニッケル電着ワイヤ
を用意し、これを表罵で処理した。

表　刈 処理後、複数個の同一試料につき、ｘｐｓ化学分析を１
２０１の深さまで行ない、又はんだ接合性を調べた。そ
の結果いずれもはんだ接合性は不良であり九。

実施例１３ 実施例８の方法で別のノやラジウム−ニッケル電着ワイ
ヤを用意し、これを表層で処理した。

表　■ 処理後、複数の同一試料につきｘｐｓ化学分析を１２０
ｘの深さまで行ない、かつはんだ接合性を調べた。

実施例１４ ニッケルめっき鋼合金円盤に下記浴組成及びめっき条件
で厚さ０．９μｍの・９ラジウム−ニッケル合金を電着
した。

浴組成 Ｐｄ洟度　Ｉ９ラジウム（Ｉｆ）アンミンクロリド１７
１１／ｌＮｌ　濃度　ニッケルアンミンスルフエート１
エ硫酸アンモニウム　ｓ　ｏ　１１／１ めっき条件 温度　４８℃ ＰＨ１　８．０ 電流密度　８．　７　Ｏ　Ａ／　ｄ　ｍ”液撹拌　活発 次いでめっき試料を表Ｗで処理した。

表　Ｗ １４＾　］：嚇環境での８８　０　０　１２　４．７０
４ケ月事務１９丁 内時効 １４ｂ　工場環境での５６　０　０　４４　９．４４４
ケ月事務酒 内時効及び米 軍規格２０２゜ 方法２０２に よる蒸気時効 １４ｃ　工場環境での９９　０　１　０　１．．６９４
ケ月１■務ｒｙ■ １４ｄ　工場環境での９９　０　１　０　１．９６４ケ
月眉Ｊ務所 軍規格２０２゜ 方法２０８に よる蒸気時効 処理後ｘｐｓ化学分析を深さ１２０Ｘまで行なった。接
触抵抗については以下の米軍規格１３４４　。

方法３００４により複数の同一試料につき調べた。

某準荷重：１０１１抑圧力 試験電流：ｌＱｍＡＤＣ 開回路記：最大２０ｍＶＤＣ 硫酸処理試料１４ｃ及び１４ｄけ点接触抵抗が低く、全
電着接触表面のそれと同様であった。

【図面の簡単な説明】

第１図は横軸を表面からの深さ、縦軸を金属の原子係と
した実施例１の試料ＩＣの説明図、第２図は横軸を表面
からの深さ、縦軸を金属の原子係とした実施例２の試料
２ａの説明図、第３図は横軸を表面からの深さ、縦軸を
金属の原子係とした実施例２の試料２ｂの説明図である
。 出願人代理人　弁理士　鈴　江　武　溶水〕計か５の５
〒ｙ（バ〕

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. （１）導電性基体上に設けた永久的なはんだ接合性を有
   するパラジウム−ニッケル被膜であって、 上記基体に付着する第１合金層が４６〜８２原子係のパ
   ラジウムと１８〜５４原子係のニッケルからなシ、 この第１合金層を被覆する第２合金層が９６〜ｉｏｏ＠
   子係の金１４ｆ（１４ラジウムと４原子チ以下のニッケ
   ルとからなシ、かつ第２合金層の層厚が２０オングスト
   ローム以下であるはんだ接合性・９ラジウム−ニッケル
   被膜。
2. （２）第２合金層は低荷重での電気接触抵抗が１０．９
   標準押圧力で２ｍΩ以下である特許請求の範囲第１項記
   載のはんだ接合性・母ラジウムーニッケル被膜。
3. （３）基体がワイヤである特許請求の範囲第１項記載の
   けんだ接合性パラジウム−ニッケル被膜。
4. （４）基体が燐青銅合金である特許請求の範囲第１項記
   載のはんだ接合性パラジウム−ニッケル被膜。
5. （５）基体がニッケルめっき銅基合金である特許請求の
   範囲第１項記載のはんだ接合性パラジウム−ニッケル被
   膜。
6. （６）　第１合金層が厚さ０．１〜１．５μｍである特
   許請求の範囲第１項記載のはんだ接合性・母うジウムー
   ニッグル被膜。
7. （７）導電性基体上に永久的なはんだ接合性を有する／
   やラジウム−ニッケル被膜を形成する方法であって、上
   記基体を以下ａ乃至ｄの組成の電気めっき浴中Ｋ。 ＠　／４’ラジウム（ＩＩ）アンミンクロリドｂ　ニッ
   ケルアンミンスルフニー）１を塩化ニッケル Ｃビニルスルフオン酸ナトリウム、アリル硫酸ナトリウ
   ム及び四級化ピリジンから選択される光輝剤 ｄ　硫酸アンモニウム又は塩化アンモニウム温度３５〜
   ５５℃、　ｐＨ７，５〜９．電流密度５〜２５　Ａ／ｄ
   ｍ”で浸清し、活発に攪拌してめっき表面を形成し、し
   かる後このめっき表面を硫酸又塩酸の静水溶液中に浸漬
   する、 はんだ接合性・母ラジウムーニッケル被膜の製造方法。