JPS5997103A - 階段状レリ−フ型回折格子の製造方法 - Google Patents
階段状レリ−フ型回折格子の製造方法Info
- Publication number
- JPS5997103A JPS5997103A JP20720582A JP20720582A JPS5997103A JP S5997103 A JPS5997103 A JP S5997103A JP 20720582 A JP20720582 A JP 20720582A JP 20720582 A JP20720582 A JP 20720582A JP S5997103 A JPS5997103 A JP S5997103A
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- JP
- Japan
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- diffraction grating
- substrate
- relief type
- type diffraction
- metal
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
- G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は階段状レリーフ型回折格子の型造方法、段状の
レリーフ型回折格子を製造する方法に関するものである
。
レリーフ型回折格子を製造する方法に関するものである
。
光学的に製造する方法等が知られている。
本発明は光学的製造する方法に係るものである。
従って、以下従来の光学的製造法を図面を゛使用して説
明する。
明する。
第１図は、基板にレジスト等の感光材料を塗布し、回折
格子をバターニングすることによって階段状構造を有す
るレリーフ型位相回折格子を製造する従来考えられてい
る方法を示したものであり、特にｇ−ｉで示す工程は、
ｆで得られたレリーフ型位相回折格子を母型にして、押
型な１１！！造する方法を示したものである。
格子をバターニングすることによって階段状構造を有す
るレリーフ型位相回折格子を製造する従来考えられてい
る方法を示したものであり、特にｇ−ｉで示す工程は、
ｆで得られたレリーフ型位相回折格子を母型にして、押
型な１１！！造する方法を示したものである。
まず、ａに示す基板１０表面を清浄にし、次にｂの如く
基板■の上にフォトレジスト２を所定の厚みに塗布する
。一方第２図に１例を示したよう々パターンを有したマ
スク６をＣの如くフォトレジスト２を塗布したものの上
に光学焼付機を利用して非接触で保持するか、または密
着させるかして、図示せぬ光源にてマスク６の上から一
様な光４を照射したのち現像等の処理を打力いｄを得る
。
基板■の上にフォトレジスト２を所定の厚みに塗布する
。一方第２図に１例を示したよう々パターンを有したマ
スク６をＣの如くフォトレジスト２を塗布したものの上
に光学焼付機を利用して非接触で保持するか、または密
着させるかして、図示せぬ光源にてマスク６の上から一
様な光４を照射したのち現像等の処理を打力いｄを得る
。
次にＣに示すようにフォトレジスト５を所定の厚みに塗
布し、マスク３とは異なる線巾のマスク３０を非接触で
保持するか、または密着させるかして図示せぬ光源にて
マスク３０の上から一様な光４を照射する。このあと現
像等の処理を経ることにより、レリーフ型回折格子ｆを
得る。しかしレリーフ型回折格子を安価に、しかも多量
に製造するためには、ｆに示す回折格子を母型として、
押型を製造しなければならない。すなわち、ｇに示す如
く、蒸着、銀鏡等の手段によって金属薄膜６例えば金薄
膜、銀薄膜を形成したのち、ｈに示すよ５に電鉄等の方
法により例えばニッケル、銅等の金属の層を十分な厚さ
に形成しｉに示すように母型からはがすことにより押型
が完成する。
布し、マスク３とは異なる線巾のマスク３０を非接触で
保持するか、または密着させるかして図示せぬ光源にて
マスク３０の上から一様な光４を照射する。このあと現
像等の処理を経ることにより、レリーフ型回折格子ｆを
得る。しかしレリーフ型回折格子を安価に、しかも多量
に製造するためには、ｆに示す回折格子を母型として、
押型を製造しなければならない。すなわち、ｇに示す如
く、蒸着、銀鏡等の手段によって金属薄膜６例えば金薄
膜、銀薄膜を形成したのち、ｈに示すよ５に電鉄等の方
法により例えばニッケル、銅等の金属の層を十分な厚さ
に形成しｉに示すように母型からはがすことにより押型
が完成する。
この様に従来方法はホトレジ等の感光材を基板上に階段
上に積み重ねて、その上に金属層を形成して母型を作る
方法であった。この為、ｈ、ｉの工程を必要として製造
が複雑であった。
上に積み重ねて、その上に金属層を形成して母型を作る
方法であった。この為、ｈ、ｉの工程を必要として製造
が複雑であった。
本発明はこの点に鑑みなされたもので、従って本発明の
目的はよシ簡単な階段状レリーフ型回折格子製造方法を
枡供することである。そして、この目的は基板表面上に
メッキ法によって金属メッキ層を順次階段上に積層する
ことによって達成している。
目的はよシ簡単な階段状レリーフ型回折格子製造方法を
枡供することである。そして、この目的は基板表面上に
メッキ法によって金属メッキ層を順次階段上に積層する
ことによって達成している。
下
以上本願の方法を＃￥３図を使用して説明する。
まずａに示す金属表面を有する基板１の表面を清浄にし
、次にｂの如（基板１の上にフォトレジスト５を所定の
厚みに塗布し、マスク６をＣの如くフォトレジスト５を
塗布したものの上に光学焼付機を利用して非接触で保持
するか、または密着させるかして、図示せぬ光源にてマ
スク３の上から一様な光４を照射したのち、現像等の処
理を行ないｄを得る。次に、ｅに示すようにメッキ法、
例えば基板１を陰極とする電気メツキ法または、無電解
メッキ法によってニッケル、 ＠ 、 金等の金属薄膜
８を所定の厚みに形成する。次にｆＶＣ示すようＩｃ、
ｂ−ｅの加工方法をくり返すことによシ、ｇを得る。こ
こで金属薄膜９の材質が金属薄膜と同じでも異なってい
てもかまわない。次に、レジスト２，５を剥離すること
により、ｈに示すレリーフ型回折格子を得る。この回折
格子は、基板すべてが押型として耐えられるものであれ
ば、このまま、押型としても使用できる。なお、材質が
金属である１、８．９において、それぞれ加工途中で表
面が不活性化しやすい材質であるときは、メッキの前に
活性化の前処理が必要であるが、前処理工程によって非
常に微少ではあるが表面が荒れる、特に回折格子がミク
ロン単位のものであるときは、この荒れが回折効率等に
影響をおよぼすため、これを防ぐ必要がある。このよう
々場合は、ａの工程およびｅの工程とｇの工程のあとで
貴金属、例えば金、白金、をメッキすることにより、上
記問題点は解決できる。
、次にｂの如（基板１の上にフォトレジスト５を所定の
厚みに塗布し、マスク６をＣの如くフォトレジスト５を
塗布したものの上に光学焼付機を利用して非接触で保持
するか、または密着させるかして、図示せぬ光源にてマ
スク３の上から一様な光４を照射したのち、現像等の処
理を行ないｄを得る。次に、ｅに示すようにメッキ法、
例えば基板１を陰極とする電気メツキ法または、無電解
メッキ法によってニッケル、 ＠ 、 金等の金属薄膜
８を所定の厚みに形成する。次にｆＶＣ示すようＩｃ、
ｂ−ｅの加工方法をくり返すことによシ、ｇを得る。こ
こで金属薄膜９の材質が金属薄膜と同じでも異なってい
てもかまわない。次に、レジスト２，５を剥離すること
により、ｈに示すレリーフ型回折格子を得る。この回折
格子は、基板すべてが押型として耐えられるものであれ
ば、このまま、押型としても使用できる。なお、材質が
金属である１、８．９において、それぞれ加工途中で表
面が不活性化しやすい材質であるときは、メッキの前に
活性化の前処理が必要であるが、前処理工程によって非
常に微少ではあるが表面が荒れる、特に回折格子がミク
ロン単位のものであるときは、この荒れが回折効率等に
影響をおよぼすため、これを防ぐ必要がある。このよう
々場合は、ａの工程およびｅの工程とｇの工程のあとで
貴金属、例えば金、白金、をメッキすることにより、上
記問題点は解決できる。
以上の実施例の説明では電気メツキ法で金属表面上に金
属メッキ層を階段状に順次形成したが、基板を金属以外
の物質で形成して、蒸着等の方法で金属メッキ、層を段
階的に順次形成しても良い。
属メッキ層を階段状に順次形成したが、基板を金属以外
の物質で形成して、蒸着等の方法で金属メッキ、層を段
階的に順次形成しても良い。
第１図は従来の加工方法を説明する図、？！ｒ、２図は
ｆ′ｇ１図の方法に使用するマスクを示す図、第３図は
この発明の製造方法の各工程を説明する図である。 図中 １は基板 ５は感光層 ６はマスク ４は露光光 ８は金属メッキ層 ３０はマスク ９は金属メッキ層 である。 出願人 キャノン株式会社
ｆ′ｇ１図の方法に使用するマスクを示す図、第３図は
この発明の製造方法の各工程を説明する図である。 図中 １は基板 ５は感光層 ６はマスク ４は露光光 ８は金属メッキ層 ３０はマスク ９は金属メッキ層 である。 出願人 キャノン株式会社
Claims (2)
- （１）基板表面上に金網メッキ層を階段状に順次積み重
ね形成し母型を形成し、この母型に回折格子基板材料を
エンボスすることＫよって階段状レリーフ型回折格子を
製造する方法。 - （２）金属表面を有する基板に塗布された感光材に階段
状レリーフの基板部に対応するパターンを露光する第１
段階と、露光された感光材を現像厚の金属メッキ層を形
成する第６段階と、金属メッキ層が形成された基板に感
光材を塗布し、階段状レリーフの次段部に対応するパタ
ーンを竹光する第４段階と、露光された感光材を現像処
理して金属表面露出部を得る第５段階と、全段階をくυ
返し行なう段階とを含む階段状レリーフ型回折格子の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20720582A JPS5997103A (ja) | 1982-11-26 | 1982-11-26 | 階段状レリ−フ型回折格子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20720582A JPS5997103A (ja) | 1982-11-26 | 1982-11-26 | 階段状レリ−フ型回折格子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5997103A true JPS5997103A (ja) | 1984-06-04 |
Family
ID=16535971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20720582A Pending JPS5997103A (ja) | 1982-11-26 | 1982-11-26 | 階段状レリ−フ型回折格子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5997103A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62203101A (ja) * | 1986-03-04 | 1987-09-07 | Canon Inc | 微細パターンを表面に有するガラス光学素子の製造方法 |
| US4708436A (en) * | 1985-07-12 | 1987-11-24 | Rca Corporation | Optical imager with diffractive lenticular array |
| US5227915A (en) * | 1990-02-13 | 1993-07-13 | Holo-Or Ltd. | Diffractive optical element |
| US8491043B2 (en) | 2009-10-14 | 2013-07-23 | Honda Motor Co., Ltd. | Vehicle body structure |
-
1982
- 1982-11-26 JP JP20720582A patent/JPS5997103A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4708436A (en) * | 1985-07-12 | 1987-11-24 | Rca Corporation | Optical imager with diffractive lenticular array |
| JPS62203101A (ja) * | 1986-03-04 | 1987-09-07 | Canon Inc | 微細パターンを表面に有するガラス光学素子の製造方法 |
| US5227915A (en) * | 1990-02-13 | 1993-07-13 | Holo-Or Ltd. | Diffractive optical element |
| US8491043B2 (en) | 2009-10-14 | 2013-07-23 | Honda Motor Co., Ltd. | Vehicle body structure |
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