JPS5981414A - 流動層の層高制御装置 - Google Patents
流動層の層高制御装置Info
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- JPS5981414A JPS5981414A JP19186782A JP19186782A JPS5981414A JP S5981414 A JPS5981414 A JP S5981414A JP 19186782 A JP19186782 A JP 19186782A JP 19186782 A JP19186782 A JP 19186782A JP S5981414 A JPS5981414 A JP S5981414A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/1809—Controlling processes
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G5/00—Incineration of waste; Incinerator constructions; Details, accessories or control therefor
- F23G5/30—Incineration of waste; Incinerator constructions; Details, accessories or control therefor having a fluidised bed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
- B01J2208/00008—Controlling the process
- B01J2208/00539—Pressure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
- B01J2208/00008—Controlling the process
- B01J2208/0061—Controlling the level
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- Combustion & Propulsion (AREA)
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- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は流動層で汚泥の脱水ケーキを減容、焼却する流
動層焼却装置に係り、特にこの流動層焼却装置内におけ
る流動媒体の層高を制御する流動層の層高制御装置に関
するものである。
動層焼却装置に係り、特にこの流動層焼却装置内におけ
る流動媒体の層高を制御する流動層の層高制御装置に関
するものである。
汚水処理プロセスより発生する下水汚泥は、埋立処分、
焼却処分のいずれの処分をするにおいても含水率が高く
、取扱い上の便利さから凝縮剤を用いて脱水ケーキにさ
れた後に処分される。
焼却処分のいずれの処分をするにおいても含水率が高く
、取扱い上の便利さから凝縮剤を用いて脱水ケーキにさ
れた後に処分される。
そして下水汚泥を脱水ケーキにする方法としては、消石
灰、カーバイトなどのカルシウム系凝縮剤を加えて脱水
する方法と、最近では高分子凝縮剤などの有機性凝縮剤
を加えて脱水する方法が主流を占めており、これらの脱
水ケーキは凝縮剤の違いによって消石灰を含有する脱水
ケーキ（以下石灰ケーキという）と、石灰を陰肩しない
脱水ケーキ（以下無石灰ケーキという）に分（すること
ができる。
灰、カーバイトなどのカルシウム系凝縮剤を加えて脱水
する方法と、最近では高分子凝縮剤などの有機性凝縮剤
を加えて脱水する方法が主流を占めており、これらの脱
水ケーキは凝縮剤の違いによって消石灰を含有する脱水
ケーキ（以下石灰ケーキという）と、石灰を陰肩しない
脱水ケーキ（以下無石灰ケーキという）に分（すること
ができる。
ところが、石灰ケーキ、無石灰ケーキにしてもなおかつ
含水率が高く、このために炉内に硅ａ＞、クリンカーな
どを流動媒体として用いる１ｉｉｉ： Ｎ’Ｊｂ層焼却
装置が用いられている。。
含水率が高く、このために炉内に硅ａ＞、クリンカーな
どを流動媒体として用いる１ｉｉｉ： Ｎ’Ｊｂ層焼却
装置が用いられている。。
流動層焼却装置は炉内に流動媒体のベッドを設けて炉内
温度を７００〜８０００Ｃへ昇温させ、これに石灰ケー
キ、無石灰ケーキを投入して減容量化、焼却するもので
、炉内の流動媒体による熱容量が大きいために頻繁に用
いられている。
温度を７００〜８０００Ｃへ昇温させ、これに石灰ケー
キ、無石灰ケーキを投入して減容量化、焼却するもので
、炉内の流動媒体による熱容量が大きいために頻繁に用
いられている。
しかしながら、石灰ケーキ、無石灰ケーキの性状によっ
ては、例えばＳ、Ｃ３等の有害物質が含まれているので
、これらを流動層焼却装置で焼却すると排ガスと共に８
０２． ｓｏ、 ＣＩ！１ ＨＣＩ などを含む有害
成分が排出されることから、流動層焼却装置や補機類を
腐食させ、公害防止の見地からもこれらの有害成分を大
気に放出する前に除去する必要がある。
ては、例えばＳ、Ｃ３等の有害物質が含まれているので
、これらを流動層焼却装置で焼却すると排ガスと共に８
０２． ｓｏ、 ＣＩ！１ ＨＣＩ などを含む有害
成分が排出されることから、流動層焼却装置や補機類を
腐食させ、公害防止の見地からもこれらの有害成分を大
気に放出する前に除去する必要がある。
例えば、流動層焼却装置で石灰ケーキを焼却すると、焼
却物中の塩素（Ｃｙ−）、硫黄（Ｓ）によって発生する
塩化水素（１−ＩＣＩ ）と硫黄酸化物（ＳＯｚ）は凝
縮剤として用℃・た消石灰［Ｃａ（ＯＨ）ｚ ｌ）と流
動層もしくは流動層焼却装置内で反応して除去される。
却物中の塩素（Ｃｙ−）、硫黄（Ｓ）によって発生する
塩化水素（１−ＩＣＩ ）と硫黄酸化物（ＳＯｚ）は凝
縮剤として用℃・た消石灰［Ｃａ（ＯＨ）ｚ ｌ）と流
動層もしくは流動層焼却装置内で反応して除去される。
その反応式は次の通りである。
Ｃａ（ＯＨ） ｓ ＋ ２ＨＣ１−ＣａＣｌ ｚ ＋
２ＨｓＯＣａ（ＯＨ） ！ 十Ｓｏｌ ＋ ＋Ｏ！ −
ＣａＳＯ４＋）Ｉ、。
２ＨｓＯＣａ（ＯＨ） ！ 十Ｓｏｌ ＋ ＋Ｏ！ −
ＣａＳＯ４＋）Ｉ、。
ところが、石灰ケーキを焼却すると有害成分は除去され
るが、石灰ケーキ中の有機質が焼却した後はカルシウム
の無機質残渣が流動層内に徐々に堆積して流動状態が不
活発になる現象が現われ、流動層内の上と下では温度差
が生じ、更には流動化用空気の吹き抜は現象が激しくな
り、局部的な高温ゾーンが発生して窒素酸化物（ＮＯｘ
）の発生を招来するウ 一方、流動層焼却装置で無石灰ケーキを焼却すると、カ
ルシウムの無機質残渣による流動層が不活発になる現象
は防止できるが、他方では塩化水素（ＨＣｓ）や硫黄酸
化物（Ｓｏｘ ）等の有害成分が排出され好ましくない
１．そこで石灰ケーキと無石灰ケーキを同時に処理して
排ガス中の有害成分を少なくすることも試みられている
が、流動層の層高、層内温度が変動し好ましくな（・。
るが、石灰ケーキ中の有機質が焼却した後はカルシウム
の無機質残渣が流動層内に徐々に堆積して流動状態が不
活発になる現象が現われ、流動層内の上と下では温度差
が生じ、更には流動化用空気の吹き抜は現象が激しくな
り、局部的な高温ゾーンが発生して窒素酸化物（ＮＯｘ
）の発生を招来するウ 一方、流動層焼却装置で無石灰ケーキを焼却すると、カ
ルシウムの無機質残渣による流動層が不活発になる現象
は防止できるが、他方では塩化水素（ＨＣｓ）や硫黄酸
化物（Ｓｏｘ ）等の有害成分が排出され好ましくない
１．そこで石灰ケーキと無石灰ケーキを同時に処理して
排ガス中の有害成分を少なくすることも試みられている
が、流動層の層高、層内温度が変動し好ましくな（・。
。
本発明はかかる従来の欠点を解消しようとするもので、
その目的とするところは、流動／ｌｉの層高を常に一定
に保つことができ、しかも層内温度を均一に保つことが
できる流動層の層高制御装置を得ようとするものである
。
その目的とするところは、流動／ｌｉの層高を常に一定
に保つことができ、しかも層内温度を均一に保つことが
できる流動層の層高制御装置を得ようとするものである
。
本発明は前述の目的を達成するために、流動層内の上、
下に流動層の層内温度を検出する温度検出手段と、空塔
部と空気室に炉内圧力と空気室の室内圧力を検出する圧
力検出手段と、流動媒体の供給通路と排出通路に流量を
制御する制御手段を設け、温度検出手段と圧力検出手段
の少なくとも一方の偏差によって制御手段を開、閉する
ようにしたものである。
下に流動層の層内温度を検出する温度検出手段と、空塔
部と空気室に炉内圧力と空気室の室内圧力を検出する圧
力検出手段と、流動媒体の供給通路と排出通路に流量を
制御する制御手段を設け、温度検出手段と圧力検出手段
の少なくとも一方の偏差によって制御手段を開、閉する
ようにしたものである。
以下、本発明の実施例を図面を用℃゛・て説明する。
第１図は本発明の流動層の層高制御装置を示したもので
、第２図は第１図の流動層焼却装置内でのカルシウムの
無機質残渣を説明する詳細図であろう 第１図、第２図において、１は流動層焼却炉、２は分散
板、３，４は分散板２によって区画された流動層と空気
室、５は流動層３上の空塔部、６は空気室４へ流動化用
、燃焼用空気を供給するファン、７は空気系統、８は石
灰ケーキ、無石灰ケーキのケーキ供給系統、９は排ガス
系統、１０゜１１は流動ノー３の層内温度を検出する温
度検出手段、１２．１３は空塔部５の炉内圧力と、空気
室４０室内圧力を検出する圧力検出手段、１４．１５は
流動媒体の供給経路と排出経路、１６．１７は供給経路
１４および排出経路１５の流励媒体流景を制御する例え
ばロータリーフイダなどの制御手段、１８．１９は制御
手段１６．１７を開、閉するモータ、２０は温度検出手
段１０．１１の偏差を求める温度演算器、２１は圧力検
出手段１２゜１３の偏差を求める圧力演算器、２２ａ、
２２ｂ、 ２２ｃおよび２２ｄは制御信号、２３はカ
ルシウムの無機質残渣である。
、第２図は第１図の流動層焼却装置内でのカルシウムの
無機質残渣を説明する詳細図であろう 第１図、第２図において、１は流動層焼却炉、２は分散
板、３，４は分散板２によって区画された流動層と空気
室、５は流動層３上の空塔部、６は空気室４へ流動化用
、燃焼用空気を供給するファン、７は空気系統、８は石
灰ケーキ、無石灰ケーキのケーキ供給系統、９は排ガス
系統、１０゜１１は流動ノー３の層内温度を検出する温
度検出手段、１２．１３は空塔部５の炉内圧力と、空気
室４０室内圧力を検出する圧力検出手段、１４．１５は
流動媒体の供給経路と排出経路、１６．１７は供給経路
１４および排出経路１５の流励媒体流景を制御する例え
ばロータリーフイダなどの制御手段、１８．１９は制御
手段１６．１７を開、閉するモータ、２０は温度検出手
段１０．１１の偏差を求める温度演算器、２１は圧力検
出手段１２゜１３の偏差を求める圧力演算器、２２ａ、
２２ｂ、 ２２ｃおよび２２ｄは制御信号、２３はカ
ルシウムの無機質残渣である。
この様な構造において、流動層焼却炉１へは流動媒体が
供給経路１４、制御手段１６を経て供給され流動Ｍ３を
形成する。
供給経路１４、制御手段１６を経て供給され流動Ｍ３を
形成する。
一方、流動化用空気、燃焼用を気はファン６、空気系統
７を経て空気室４へ供給され、分散板２より流動層３へ
供給されて流動層３を流動化する。
７を経て空気室４へ供給され、分散板２より流動層３へ
供給されて流動層３を流動化する。
そして、図示していない起動バーナ、層中ノ（−すによ
って流動層３０層内温度が高温になると、石灰ケーキ、
無石灰ケーキはケーキ供給系統８より流動層３内に役人
され、焼却されたケーキ類は空塔部５でも燃焼し、排ガ
スと共に排ガス系統９かも排出される。
って流動層３０層内温度が高温になると、石灰ケーキ、
無石灰ケーキはケーキ供給系統８より流動層３内に役人
され、焼却されたケーキ類は空塔部５でも燃焼し、排ガ
スと共に排ガス系統９かも排出される。
以上は流動ｊ−焼却炉１における流動媒体、空気および
排ガスの一般的な流動状態の説明であるが、流動層焼却
炉１が定常運転に入ると流動媒体の摩耗、割れが生じ流
動層３０層高が変動する。
排ガスの一般的な流動状態の説明であるが、流動層焼却
炉１が定常運転に入ると流動媒体の摩耗、割れが生じ流
動層３０層高が変動する。
それは流動）−３内で供給系統１４、制御手段１６から
の流動媒体と、ケーキ供給系統８か′らの石灰ケーキ、
無石灰ケーキが激しく攪拌、混合され、かつ石灰ケーキ
、あるいは無石灰ケーキ中に含まれている水分と高温の
流動媒体との接触によって流動媒体が徐々に摩耗、割れ
を起し、細粒となって排ガスに同伴されて排ガス系統９
から流動層焼却炉ｌ外へ排出されるために、流動層３の
層高は低Ｆし、空気室４内の室内圧力も低下する。
の流動媒体と、ケーキ供給系統８か′らの石灰ケーキ、
無石灰ケーキが激しく攪拌、混合され、かつ石灰ケーキ
、あるいは無石灰ケーキ中に含まれている水分と高温の
流動媒体との接触によって流動媒体が徐々に摩耗、割れ
を起し、細粒となって排ガスに同伴されて排ガス系統９
から流動層焼却炉ｌ外へ排出されるために、流動層３の
層高は低Ｆし、空気室４内の室内圧力も低下する。
一方、流動層焼却炉ｌの炉内圧力は、空気室４内の室内
圧力よりも低い圧力（負圧）で運転する方が安全である
。
圧力よりも低い圧力（負圧）で運転する方が安全である
。
従って、本発明においては流動層焼却炉１の炉内圧力を
空塔部５の圧力検出手段■２によって、空気室４０室内
圧力は圧力検出手段１３に、Ｌつてそれぞ′れ圧力を検
出し、圧力演算器２１によって炉内圧力と室内圧力との
差圧が常に一定になるように制御信号２２Ｃ，２２ｄ
によって流動媒体の供給量を制御手段１６、流動媒体の
排出量を割病１手段１７を開、閉することによって制御
するようにしたのである、 つまり、空気室４内の室内圧力と流動層焼却炉１の炉内
圧力の差圧が一定差圧よりも高い場合は、制御信号２２
ｄによってモータ１９で制御手段１７を開け、流動媒体
を排出経路１５より抜き取り、一方、空気室４内の室内
圧力と流動層焼却炉１の炉内圧力との差圧が一定差圧よ
りも低い場合には、制御信号２２Ｃによってモータ１８
で制御手段１６を開けて流動媒体を供給経路１４から供
給するのである。
空塔部５の圧力検出手段■２によって、空気室４０室内
圧力は圧力検出手段１３に、Ｌつてそれぞ′れ圧力を検
出し、圧力演算器２１によって炉内圧力と室内圧力との
差圧が常に一定になるように制御信号２２Ｃ，２２ｄ
によって流動媒体の供給量を制御手段１６、流動媒体の
排出量を割病１手段１７を開、閉することによって制御
するようにしたのである、 つまり、空気室４内の室内圧力と流動層焼却炉１の炉内
圧力の差圧が一定差圧よりも高い場合は、制御信号２２
ｄによってモータ１９で制御手段１７を開け、流動媒体
を排出経路１５より抜き取り、一方、空気室４内の室内
圧力と流動層焼却炉１の炉内圧力との差圧が一定差圧よ
りも低い場合には、制御信号２２Ｃによってモータ１８
で制御手段１６を開けて流動媒体を供給経路１４から供
給するのである。
この様に空気室４０室内圧力と流動層式焼却炉１の炉内
圧力を一定差圧に保つこと（心よって、ケーキ供給系統
８からの投入量に関係なく流動層焼却炉１０層高を常に
一定に保つことができる。
圧力を一定差圧に保つこと（心よって、ケーキ供給系統
８からの投入量に関係なく流動層焼却炉１０層高を常に
一定に保つことができる。
他方、第１図のケーキ供給系統８からの投入される石灰
ケーキ情が多くなると、第２図に示す如く流動層３内に
カルシウム系凝縮剤の無機質残渣２３が犬ぎな軽い塊と
なって流動層３内に存在し、主としてこの無機質残渣２
３は流＠ｆｆ３の流動化を疎外すると共に、流動層３の
上層に浮いた状態となる。
ケーキ情が多くなると、第２図に示す如く流動層３内に
カルシウム系凝縮剤の無機質残渣２３が犬ぎな軽い塊と
なって流動層３内に存在し、主としてこの無機質残渣２
３は流＠ｆｆ３の流動化を疎外すると共に、流動層３の
上層に浮いた状態となる。
ところが、発明者の測定結果によれば流動層３の上、下
の層内温度差は通常Ｏ〜１．０’Ｃ近辺であるが、前述
のように無機質残渣２３の存在下では流動層３上部の温
度が５０〜８０°Ｃ高くなり、このために局部的に高温
部ができ窒素酸化物（Ｎ０ｘ）の発生原因ともなる、。
の層内温度差は通常Ｏ〜１．０’Ｃ近辺であるが、前述
のように無機質残渣２３の存在下では流動層３上部の温
度が５０〜８０°Ｃ高くなり、このために局部的に高温
部ができ窒素酸化物（Ｎ０ｘ）の発生原因ともなる、。
従って本発明においては流動層焼却炉１内の流動層３の
上側は温度検出手段１ｏによって、流動層３の下ｆｌｌ
ｌｌは温度検出手段１１によってその層内温度を検出し
、温度演算器２０によって層内温度が常に一定になるよ
うにｌｌ１１１１卸信号２２ａ、 ２２ｂ によって流
動媒体の供給ｉを制鍔手段１６、流動媒体および無機質
残は２３の排ＩＢ ：ｆ □ｋ ｉ’ｊｌＪ Ｉ卸手段
１７の開、閉によって制御するようにしたものである。
上側は温度検出手段１ｏによって、流動層３の下ｆｌｌ
ｌｌは温度検出手段１１によってその層内温度を検出し
、温度演算器２０によって層内温度が常に一定になるよ
うにｌｌ１１１１卸信号２２ａ、 ２２ｂ によって流
動媒体の供給ｉを制鍔手段１６、流動媒体および無機質
残は２３の排ＩＢ ：ｆ □ｋ ｉ’ｊｌＪ Ｉ卸手段
１７の開、閉によって制御するようにしたものである。
つまり、温度検出手段１００層内温度が温度検出手段１
１のノ→内温度よりも９％い場合は、温度演算器２０か
らの制御信号２２ａ、 ２２ｂ によって制御手段１
６．１７を開けて流動媒（イ）を供給経路１４から流動
層３へ供給すると共に無機質残７！ｉ、２３を排出経路
１５から排出して層内温度を制御するのである。
１のノ→内温度よりも９％い場合は、温度演算器２０か
らの制御信号２２ａ、 ２２ｂ によって制御手段１
６．１７を開けて流動媒（イ）を供給経路１４から流動
層３へ供給すると共に無機質残７！ｉ、２３を排出経路
１５から排出して層内温度を制御するのである。
また、逆に温度検出手段１０のＫｊ層内温度温度検出手
段１１の層内ＹＩＬ度よりも低くなれば、制御１ｇ号２
２ａ、 ２２ｂ によって１１１り御手段１６．ｓ７を
閉じて流動媒体の供給と排出を停止するのである。
段１１の層内ＹＩＬ度よりも低くなれば、制御１ｇ号２
２ａ、 ２２ｂ によって１１１り御手段１６．ｓ７を
閉じて流動媒体の供給と排出を停止するのである。
この様に本発明のものにおいては圧力検出手段１２．１
３による一定差圧の圧力偏差、温度検出手段１０．１１
による温夏偏差のいずれか一方の゛偏差によって流動層
の層高、ノー内温度を１信に一定に保つことができ、石
灰ケーキと無石灰ケーキを同時に、あるいは交互に減容
、焼却しても有害成分を少なくすることができる。
３による一定差圧の圧力偏差、温度検出手段１０．１１
による温夏偏差のいずれか一方の゛偏差によって流動層
の層高、ノー内温度を１信に一定に保つことができ、石
灰ケーキと無石灰ケーキを同時に、あるいは交互に減容
、焼却しても有害成分を少なくすることができる。
第１図は本発明の流動層の層高制御系状を示す図、第２
図は石灰ケーキの焼却時に発生する無機質残渣の状態を
説明する流動層焼却炉の拡大図である。 １・・・・・・流動′護焼却炉、２・・・・・・分散板
、３・・・・・流動ノー、４・・・・・空気室、５・・
・・・・空塔部、８・・・・・・ケーキ供給系統、１０
．１１・・・・・・温度検出手段、１２゜１３・・・・
・・圧力検出手段、１４・・・・・・供給経路、１５・
・・・・排出経路、１６，１７・・・・・制御手段、２
０・・・・・・温度演算器、２１・・・・・・圧力演算
器、２２ａ、 ２２ｂ。
図は石灰ケーキの焼却時に発生する無機質残渣の状態を
説明する流動層焼却炉の拡大図である。 １・・・・・・流動′護焼却炉、２・・・・・・分散板
、３・・・・・流動ノー、４・・・・・空気室、５・・
・・・・空塔部、８・・・・・・ケーキ供給系統、１０
．１１・・・・・・温度検出手段、１２゜１３・・・・
・・圧力検出手段、１４・・・・・・供給経路、１５・
・・・・排出経路、１６，１７・・・・・制御手段、２
０・・・・・・温度演算器、２１・・・・・・圧力演算
器、２２ａ、 ２２ｂ。
Claims (1)
- 分散板上に流動媒体を供給する供給経路と排出経路を備
え、供給経路からの流動媒体によって流動層を形成して
流動層の上、下に空塔部と空気室に区画し、流動層へカ
ルシウム系凝縮剤を用いて脱水した石灰ケーキと、有機
性凝縮剤を用いて脱水した無石灰ケーキを投入して焼却
するものにおいて、前記流動層内の上、下に流動層の層
内温度を検出する温度検出手段と、前記空塔部と空気室
に炉内圧力と空気室の室内圧力を検出する圧力検出手段
と、流動媒体の供給経路と排出経路に流量を制御する制
御手段を設げ、前記温度検出手段と圧力検出手段の少な
くとも一方の偏差によって制御手段を開、閉するように
したことを特徴とする流動層の層高制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19186782A JPS5981414A (ja) | 1982-11-02 | 1982-11-02 | 流動層の層高制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19186782A JPS5981414A (ja) | 1982-11-02 | 1982-11-02 | 流動層の層高制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5981414A true JPS5981414A (ja) | 1984-05-11 |
Family
ID=16281801
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19186782A Pending JPS5981414A (ja) | 1982-11-02 | 1982-11-02 | 流動層の層高制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5981414A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3433302A1 (de) * | 1984-09-11 | 1986-03-20 | Saarbergwerke AG, 6600 Saarbrücken | Verfahren zur hoehenstandsregelung eines wirbelbettes und schaltungsanordnung zur durchfuehrung des verfahrens |
| JPH03168512A (ja) * | 1989-11-28 | 1991-07-22 | Nkk Corp | 流動床焼却炉の運転方法 |
| EP0715887A1 (de) * | 1994-12-08 | 1996-06-12 | Basf Aktiengesellschaft | Partikelverwirbelungsverfahren und Vorrichtung zu dessen Durchführung |
| WO2007094114A1 (ja) * | 2006-02-14 | 2007-08-23 | Kureha Corporation | 連続式粉粒体高温ガス処理装置および処理方法 |
| EP2693118A4 (en) * | 2011-03-31 | 2016-02-24 | Kobelco Eco Solutions Co Ltd | FLUIDIZED OVEN |
-
1982
- 1982-11-02 JP JP19186782A patent/JPS5981414A/ja active Pending
Cited By (8)
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