JPS5979545A - 静電チャック装置 - Google Patents
静電チャック装置Info
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- JPS5979545A JPS5979545A JP19012482A JP19012482A JPS5979545A JP S5979545 A JPS5979545 A JP S5979545A JP 19012482 A JP19012482 A JP 19012482A JP 19012482 A JP19012482 A JP 19012482A JP S5979545 A JPS5979545 A JP S5979545A
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- Japan
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- sample
- electrostatic chuck
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
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-
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- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、微細加工に供される試料を保持固定する静電
チャック装置の改良に関する。
チャック装置の改良に関する。
半24体ウェノ・やマスク等の試料を加工或いは検、を
する工程においては、試料を加工機や検査機のD[定部
位に保持固定することが必要となる。
する工程においては、試料を加工機や検査機のD[定部
位に保持固定することが必要となる。
特に、ウェノ・上に微細なパターンを描画し多数のトラ
ンジスタ等を形成する集積回路の製作においては、ウェ
ハを平担な面に確実に保持II!、1定することが必賛
である。
ンジスタ等を形成する集積回路の製作においては、ウェ
ハを平担な面に確実に保持II!、1定することが必賛
である。
従来、このような場合の保持手段として、取り扱いが簡
単で、かつ真空中でも作動可能な静′tLチャック装置
が用いられている。この静電チャック装置は、2つの互
いに反対に帯電されたコンデンサ板(電極)間の吸引力
を利用するもので、例えば第1図に示す如く構成されて
いる。
単で、かつ真空中でも作動可能な静′tLチャック装置
が用いられている。この静電チャック装置は、2つの互
いに反対に帯電されたコンデンサ板(電極)間の吸引力
を利用するもので、例えば第1図に示す如く構成されて
いる。
すなわち、導電性基板1上に絶縁誘電層2を校倉してな
る静電チャック本体3、及びこの静電チャック本体3上
に載置される試料4と導電性基板1との間に高電圧を印
加する′成分5から構成され1.上記導電性基板1と試
別4とが電極として作用するものとなっている。なお、
靜′屯チャック本体3における試料4の吸引力Fは上記
印加電圧の大きさに影響され、一般に次式で示される。
る静電チャック本体3、及びこの静電チャック本体3上
に載置される試料4と導電性基板1との間に高電圧を印
加する′成分5から構成され1.上記導電性基板1と試
別4とが電極として作用するものとなっている。なお、
靜′屯チャック本体3における試料4の吸引力Fは上記
印加電圧の大きさに影響され、一般に次式で示される。
、F=+ t’。’ε、 ・s(予)2・(1)ただし
、C0は真空誘電率、C8は比誘電率、Sは前極、■は
印加電圧、tは絶縁誘電N2の厚さである。
、C0は真空誘電率、C8は比誘電率、Sは前極、■は
印加電圧、tは絶縁誘電N2の厚さである。
ところで、この釉の装置を電子ビーム描画装置管の微細
加工装置6に用いる場合、前記静電チャック本体が真空
に保持された試料室内に設置されることになる。静電チ
ャック本体が大気中で操作可能な所にあれば、試料の平
担部を何らかの方法でしくす定したり、ピンセット等で
直接試料を動かしてみて、試料の吸着状態を知ることは
可能である。しかし、静電チャック本体が真空中にある
場合、上記のチェック方法を適用することは困娃であり
、このため微細加工装置に用いられる静電チャック装置
では試料の吸着状態を知ることはでき人かった。そして
、試料が耐電チャックに吸着されていない状態で微細加
工を行うことは、加工精度の低下、ひいては加工不能の
状態を招くことになる。
加工装置6に用いる場合、前記静電チャック本体が真空
に保持された試料室内に設置されることになる。静電チ
ャック本体が大気中で操作可能な所にあれば、試料の平
担部を何らかの方法でしくす定したり、ピンセット等で
直接試料を動かしてみて、試料の吸着状態を知ることは
可能である。しかし、静電チャック本体が真空中にある
場合、上記のチェック方法を適用することは困娃であり
、このため微細加工装置に用いられる静電チャック装置
では試料の吸着状態を知ることはでき人かった。そして
、試料が耐電チャックに吸着されていない状態で微細加
工を行うことは、加工精度の低下、ひいては加工不能の
状態を招くことになる。
なお、試料が吸着されていない状態としては、試料が静
電チャックに完全に接触していない場合、配線コードが
何らかの原因で断線した場合、或いは絶縁銹電J脅が絶
縁破壊した場合等が考えられる。
電チャックに完全に接触していない場合、配線コードが
何らかの原因で断線した場合、或いは絶縁銹電J脅が絶
縁破壊した場合等が考えられる。
本発明の目的は、靜′亀チャック本体が真空中にあって
も、静電チャック本体上に載置される試料が確実に保持
固定されているかを容易、かつ正確に知ることができ、
試料の微#ijl加工や検査等の信頼性向上に寄与しイ
hる静電チャック装置を提供することにある。
も、静電チャック本体上に載置される試料が確実に保持
固定されているかを容易、かつ正確に知ることができ、
試料の微#ijl加工や検査等の信頼性向上に寄与しイ
hる静電チャック装置を提供することにある。
本発明の骨子は、静電チャック本体に流れる電流を検出
し、この検出電流値から試料の吸着状態を判断すること
にある。すなわち、静電チャック本体に使用されている
絶縁@電層は、絶縁物とは云うものの無限大の抵抗値を
有するものではなく、その両面に高電圧を印加すること
によって微小な電流が流れる。そして、この電fAtは
回路が開い、−Cいれは零となり、試料が吸着されてい
ればその吸着WJ積の大きさに対応する値となる。また
、絶縁誘電層が絶縁破壊されていると過大な電流が流れ
る。したがって、上記電流を検出することによって、試
料の吸着状態を判断できることになる。
し、この検出電流値から試料の吸着状態を判断すること
にある。すなわち、静電チャック本体に使用されている
絶縁@電層は、絶縁物とは云うものの無限大の抵抗値を
有するものではなく、その両面に高電圧を印加すること
によって微小な電流が流れる。そして、この電fAtは
回路が開い、−Cいれは零となり、試料が吸着されてい
ればその吸着WJ積の大きさに対応する値となる。また
、絶縁誘電層が絶縁破壊されていると過大な電流が流れ
る。したがって、上記電流を検出することによって、試
料の吸着状態を判断できることになる。
木兄りJはこのような点に着目し、!fIkチャック本
体及びこの静電チャック本体に高電圧を印加するだめの
電源回路からなる静電チャック装置において、上記静電
チャック本体と電汀回路とのmノに電流81を挿入し、
この電流針の検出値から試料の吸着状態を判断できるよ
うにしたものである。 。
体及びこの静電チャック本体に高電圧を印加するだめの
電源回路からなる静電チャック装置において、上記静電
チャック本体と電汀回路とのmノに電流81を挿入し、
この電流針の検出値から試料の吸着状態を判断できるよ
うにしたものである。 。
〔発1町の効果〕
木兄りJによれば、電流計の検出値から試料の吸着状態
を判断できるので、試料が静電チャック本体に確実に保
持固定されているかを容易、かつ確実に知ることができ
、さらに真空中にあっても上記保持固定されているかを
知ることができる。このため、微細加工装置や検査装置
ζ等に用いた場合、真空中に配置される試料の吸着状態
を判断できることから加工精度及び検査精度の向上をは
かり得る等の効果が得られる。
を判断できるので、試料が静電チャック本体に確実に保
持固定されているかを容易、かつ確実に知ることができ
、さらに真空中にあっても上記保持固定されているかを
知ることができる。このため、微細加工装置や検査装置
ζ等に用いた場合、真空中に配置される試料の吸着状態
を判断できることから加工精度及び検査精度の向上をは
かり得る等の効果が得られる。
第2図は本発明の一実施例に係わる静電チャック装置を
示す概略構成図である。図中10は静電チャック本体で
、これは前記第1図に示したものと基本的には変わらな
い枯造である。すなわち、導′−性基板11の表面全面
を被覆するよう絶縁誘電層12が形成され、導電性基板
11の下面にはねじ等からなる電極端子13が取着され
ている。ここで、絶縁誘電Rii;zは導電性基板1ノ
に、例えばアルミナを溶射してなるものである。そして
、静電チャック本体1θはその上面が平担に形成され、
この平担部に半導体ウェノ)等の試料が載置されるもの
となって因る。
示す概略構成図である。図中10は静電チャック本体で
、これは前記第1図に示したものと基本的には変わらな
い枯造である。すなわち、導′−性基板11の表面全面
を被覆するよう絶縁誘電層12が形成され、導電性基板
11の下面にはねじ等からなる電極端子13が取着され
ている。ここで、絶縁誘電Rii;zは導電性基板1ノ
に、例えばアルミナを溶射してなるものである。そして
、静電チャック本体1θはその上面が平担に形成され、
この平担部に半導体ウェノ)等の試料が載置されるもの
となって因る。
一方、前記電極、端子13には保睦抵抗15を介して直
流電源(′電源回路)16の正極側が接続され、前記試
料14には電流計17を介して1σ流電源16の負極側
、(接地側)が接続されている。そして、導電性基板1
1と試料14との間に高電圧が印加され、これらの間に
働く吸引力によシ試料14が静電チャック本体10上に
保持固定されるものとなっている。保獲抵抗15は前記
絶縁誘電層12が絶縁破壊したときに過大電流が流れる
のを防止するもので、電流計17は数[nA ]〜数〔
μA〕の微小電流を検出するものである。また、m流計
17の検出値は比較回路18に供給されている。この比
較回路18は上記検出値と定常状態における電流値、す
なわち試料14が静電チャック本体10に確実に保持固
定されているときの電流値とを比較するもので、両者の
差が所定の値を越えるとき異常信号を出力するものとな
っている。
流電源(′電源回路)16の正極側が接続され、前記試
料14には電流計17を介して1σ流電源16の負極側
、(接地側)が接続されている。そして、導電性基板1
1と試料14との間に高電圧が印加され、これらの間に
働く吸引力によシ試料14が静電チャック本体10上に
保持固定されるものとなっている。保獲抵抗15は前記
絶縁誘電層12が絶縁破壊したときに過大電流が流れる
のを防止するもので、電流計17は数[nA ]〜数〔
μA〕の微小電流を検出するものである。また、m流計
17の検出値は比較回路18に供給されている。この比
較回路18は上記検出値と定常状態における電流値、す
なわち試料14が静電チャック本体10に確実に保持固
定されているときの電流値とを比較するもので、両者の
差が所定の値を越えるとき異常信号を出力するものとな
っている。
このようなVq成であれば、試料14の静電チャック本
体10との吸着状態によシ試料14と導電性基板1ノと
の間の抵抗が変化し、この抵抗変化に応じて電流計17
の指示値も変化する。
体10との吸着状態によシ試料14と導電性基板1ノと
の間の抵抗が変化し、この抵抗変化に応じて電流計17
の指示値も変化する。
このため、試料14を直接観察することなく、さらに試
別14に1’7 tJJli的な力を加えることなく、
1L流計17の指示値若しくは比較回路18の出力から
試料14の吸着状態を判断工きることになる。すなわち
、装置が正常に作動している場合、静電チャック本体1
0には微小電流が流れる。この電流は、印加電圧、絶縁
誘電層12の厚さ及び単位前極当シの抵抗が予め定まっ
ているので、試料14の静電チャック本体10との密着
面積に比例したものとなる。また、試f!−114の表
面には酸化膜や窒化膜等が形成されていることもあシ、
この場合これらの膜厚によっても上記電流は変化する。
別14に1’7 tJJli的な力を加えることなく、
1L流計17の指示値若しくは比較回路18の出力から
試料14の吸着状態を判断工きることになる。すなわち
、装置が正常に作動している場合、静電チャック本体1
0には微小電流が流れる。この電流は、印加電圧、絶縁
誘電層12の厚さ及び単位前極当シの抵抗が予め定まっ
ているので、試料14の静電チャック本体10との密着
面積に比例したものとなる。また、試f!−114の表
面には酸化膜や窒化膜等が形成されていることもあシ、
この場合これらの膜厚によっても上記電流は変化する。
本発明者等の実験によれば、印加電圧をjo 0 [V
]、試料14として4インチ径ノリコンウェハを用いた
ところ、試料14が静電チャック本体10上に確実に保
持固定されている正常な状態で、試料14表面の酸化膜
等の膜厚によシ数(nA)〜数〔μA〕の範囲の電流が
流れることが確認された。
]、試料14として4インチ径ノリコンウェハを用いた
ところ、試料14が静電チャック本体10上に確実に保
持固定されている正常な状態で、試料14表面の酸化膜
等の膜厚によシ数(nA)〜数〔μA〕の範囲の電流が
流れることが確認された。
い丑、何らかの原因によって試料14が静電チャック本
体1θと離れている場合、或いは通電ラインに断線が生
じている場合、電流117の指示値は零となる。また、
絶縁誘電層12が絶縁破壊している場合、電流計17の
指示値は正常時よシ大幅に増大することになる。したが
って、tM流計17の指示値から試料14の吸着状態が
判断できることになる。
体1θと離れている場合、或いは通電ラインに断線が生
じている場合、電流117の指示値は零となる。また、
絶縁誘電層12が絶縁破壊している場合、電流計17の
指示値は正常時よシ大幅に増大することになる。したが
って、tM流計17の指示値から試料14の吸着状態が
判断できることになる。
かくして本装置によれば、電流計17の指示値を見るだ
けで、試料14が静電チャック本体10」二に確実に保
持固定されているかを容易に、かつ正確に知ることがで
きる。このため、静電チャック本体10が真空中に設置
されていたとしても、試料14の保持固定状態を知るこ
とができ、電子ビーム描画装置等に用いて絶大なる効果
を発揮する。また、従来装置に電流117を伺加するの
みの極めて簡易な構成で冥現し得る等の利点がある。
けで、試料14が静電チャック本体10」二に確実に保
持固定されているかを容易に、かつ正確に知ることがで
きる。このため、静電チャック本体10が真空中に設置
されていたとしても、試料14の保持固定状態を知るこ
とができ、電子ビーム描画装置等に用いて絶大なる効果
を発揮する。また、従来装置に電流117を伺加するの
みの極めて簡易な構成で冥現し得る等の利点がある。
第3図及び第4図はそれぞれ他の実施例を示す概略]ヤ
)成図であシ、これらは先に説明した実施例の静電チャ
ック本体10を改良したものである。すなわち、第3図
に示すものでは静電チャック本体10が絶縁基板2ノ、
この基板21上に破着された2枚の電極板22 a r
22 b 1及びその上面を被包した絶縁誘電層12
で形成されている。そして、上記電極板22 a、22
b間に電圧が印力「されるものとなっている。この場
合、電極板22aから試料14に電気力線が真直ぐ入シ
、試料14内には磁界は発生せず’Q%極板22bK頁
直ぐ入ることになシ、これによシ試料14が静電チャッ
ク本体10上に保持固定される。また、第4図に示すも
のでは静電チャック本体10の絶縁誘電層12上の一部
に金属膜23が蒸着形成されている。そして、この金属
膜23と電極端子13との間に電圧が印加されるものと
なっている。
)成図であシ、これらは先に説明した実施例の静電チャ
ック本体10を改良したものである。すなわち、第3図
に示すものでは静電チャック本体10が絶縁基板2ノ、
この基板21上に破着された2枚の電極板22 a r
22 b 1及びその上面を被包した絶縁誘電層12
で形成されている。そして、上記電極板22 a、22
b間に電圧が印力「されるものとなっている。この場
合、電極板22aから試料14に電気力線が真直ぐ入シ
、試料14内には磁界は発生せず’Q%極板22bK頁
直ぐ入ることになシ、これによシ試料14が静電チャッ
ク本体10上に保持固定される。また、第4図に示すも
のでは静電チャック本体10の絶縁誘電層12上の一部
に金属膜23が蒸着形成されている。そして、この金属
膜23と電極端子13との間に電圧が印加されるものと
なっている。
このような構成であれば、先の実施例と同様な効果を奏
するのは勿論のことであシ、さらに試料l゛4に直接配
線コードを接触させる必要がない等の利点がある。
するのは勿論のことであシ、さらに試料l゛4に直接配
線コードを接触させる必要がない等の利点がある。
なお、本発明は上述した各実施例に限定されるものでは
ない。例えば、前記静電チャック本体の絶縁誘電層は、
アルミナの溶射に1奴定される。ものでり、なく、導電
性基板の酸化物、その他絶縁物であれば用いてもよい。
ない。例えば、前記静電チャック本体の絶縁誘電層は、
アルミナの溶射に1奴定される。ものでり、なく、導電
性基板の酸化物、その他絶縁物であれば用いてもよい。
さらに、’n4”屯チャック本体の構造は何ら実施例に
限定されるものではなく、仕様に応じて適宜変更可能で
ある。
限定されるものではなく、仕様に応じて適宜変更可能で
ある。
また、静電チャック本体に印加する電圧は必ずしも直流
に限るものではなく、交流であってもよい。この場合、
電流計には静電チャック本体の静電容量に対応する電流
も流れることになるが、試料の吸着状態によシ変わる電
流は直流電圧を印加した場合と同様であるので、電流計
の指示値から試料の吸着状態を判断することが可能であ
る。首だ、前記比較回路は必ずしも必要なものではない
が、この比較回路の出力を計算機等に供給しておけば、
試料の吸着状態の自動モニタも可能である。さらに、電
流計の挿入側1シ「も仕様に応じて適宜変更可能である
。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、槓々変形
して実施することができる。
に限るものではなく、交流であってもよい。この場合、
電流計には静電チャック本体の静電容量に対応する電流
も流れることになるが、試料の吸着状態によシ変わる電
流は直流電圧を印加した場合と同様であるので、電流計
の指示値から試料の吸着状態を判断することが可能であ
る。首だ、前記比較回路は必ずしも必要なものではない
が、この比較回路の出力を計算機等に供給しておけば、
試料の吸着状態の自動モニタも可能である。さらに、電
流計の挿入側1シ「も仕様に応じて適宜変更可能である
。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、槓々変形
して実施することができる。
第1図は従来の静電チャック装置を示す概略+1.)成
因、第2図は本発明の一実施例を示す概略峙)成因、第
3図及び第4図はそれぞれ他の実施例を示す概略構成図
である。 10・・・静電チャック本体、11・・・導電性基板、
12・・・絶縁計電層、13・・・電極端子、14・・
・試料、15・・・保段抵抗、16・・・直流電源(電
源回路)、17・・・電流計、21・・・絶縁基板、2
2a。 22b・・・電極板、23・・・金属膜。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第1図 第2図 第3図 投 ト
因、第2図は本発明の一実施例を示す概略峙)成因、第
3図及び第4図はそれぞれ他の実施例を示す概略構成図
である。 10・・・静電チャック本体、11・・・導電性基板、
12・・・絶縁計電層、13・・・電極端子、14・・
・試料、15・・・保段抵抗、16・・・直流電源(電
源回路)、17・・・電流計、21・・・絶縁基板、2
2a。 22b・・・電極板、23・・・金属膜。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第1図 第2図 第3図 投 ト
Claims (1)
- 電極板及びこの電極板と静電的に保持固定される試料間
に介在すべき誘電層とを有する静電チャック本体と、前
記電極板と試料間に電圧を印加するだめの電源回路と、
この電源回路と前記電極板及び試料を含む回路に流れる
電流を検出する電流計とを具備してなることを特徴とす
る静電チャック装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19012482A JPS5979545A (ja) | 1982-10-29 | 1982-10-29 | 静電チャック装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19012482A JPS5979545A (ja) | 1982-10-29 | 1982-10-29 | 静電チャック装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5979545A true JPS5979545A (ja) | 1984-05-08 |
JPH0351101B2 JPH0351101B2 (ja) | 1991-08-05 |
Family
ID=16252789
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19012482A Granted JPS5979545A (ja) | 1982-10-29 | 1982-10-29 | 静電チャック装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5979545A (ja) |
Cited By (216)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61270046A (ja) * | 1985-05-22 | 1986-11-29 | Toshiba Mach Co Ltd | 静電チヤツク装置 |
JPS62125642A (ja) * | 1985-11-26 | 1987-06-06 | Tadahiro Omi | ウエハサセプタ装置 |
JPS62286249A (ja) * | 1986-06-05 | 1987-12-12 | Toto Ltd | 静電チヤツク板 |
JPS63139634A (ja) * | 1986-11-29 | 1988-06-11 | Tokuda Seisakusho Ltd | 静電チヤツク |
JPH0198218A (ja) * | 1987-10-09 | 1989-04-17 | Fuji Electric Co Ltd | 乾式薄膜加工装置 |
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JPH05129420A (ja) * | 1991-10-31 | 1993-05-25 | Hitachi Ltd | 静電吸着装置 |
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