JPS60110133A - 静電チャックにおける異状確認装置 - Google Patents
静電チャックにおける異状確認装置Info
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- JPS60110133A JPS60110133A JP874483A JP874483A JPS60110133A JP S60110133 A JPS60110133 A JP S60110133A JP 874483 A JP874483 A JP 874483A JP 874483 A JP874483 A JP 874483A JP S60110133 A JPS60110133 A JP S60110133A
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- Japan
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6831—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using electrostatic chucks
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野]
本発明は静電チャックにおける異状確認装置に関する。
例えば1iiB描画装置においては、真9チヤンバ内の
駆動テーブル上にシリコンウェハなどの試料を、たとえ
ば静電チャックケ用いて確実に固定する必要がある。こ
のための静電チャックとして、テーブル上に設けた基盤
と、基盤上に載置した試料とに直流高電圧を印加して、
fff+電力によって基盤上に試料全吸着する構造のも
のが知られている、このような構造の静電チャックにお
いては、試料吸着に先立って、試料、基盤間に高電圧を
印加するために、電極と試料とを導通させなければなら
ない。即ち、第1図に概略断面図で示されるように、テ
ーブル(図示せず)上に設けられた基盤1の上面上に試
料2を載置し、試料用の電極3の先端と、さらに放電用
の電極4の先端とを互いに近接させると共に両電極3,
4v詰科料2上上にバネ等の圧力付加手段5によって所
定押圧力で押伺け、そして両電極3.4間に高電圧を印
加してその画先端間で放電を起こさせ、その結果発生し
た熱によって、試料2の上面上の酸化膜全破壊して試料
用の電極3と試料2とを導通させ、電極3を試料2に固
定する。
駆動テーブル上にシリコンウェハなどの試料を、たとえ
ば静電チャックケ用いて確実に固定する必要がある。こ
のための静電チャックとして、テーブル上に設けた基盤
と、基盤上に載置した試料とに直流高電圧を印加して、
fff+電力によって基盤上に試料全吸着する構造のも
のが知られている、このような構造の静電チャックにお
いては、試料吸着に先立って、試料、基盤間に高電圧を
印加するために、電極と試料とを導通させなければなら
ない。即ち、第1図に概略断面図で示されるように、テ
ーブル(図示せず)上に設けられた基盤1の上面上に試
料2を載置し、試料用の電極3の先端と、さらに放電用
の電極4の先端とを互いに近接させると共に両電極3,
4v詰科料2上上にバネ等の圧力付加手段5によって所
定押圧力で押伺け、そして両電極3.4間に高電圧を印
加してその画先端間で放電を起こさせ、その結果発生し
た熱によって、試料2の上面上の酸化膜全破壊して試料
用の電極3と試料2とを導通させ、電極3を試料2に固
定する。
一方、このようにして試料2上に電極3を固定した後、
例えばFB描画装置の真空チャンバ内において基盤1上
に試料2を吸着させる前に、試料2と電極3とが確実に
導通しているか否かを確認しなければならない。このた
め、あらかじめ、静電チャックが正常動作して基盤1に
検定用の試料が確実に吸着されているときに、高圧電源
、基盤11検定用の試料、および電極3からなる閉回路
の直流抵抗を測定しておく。そして電極3を固定した試
料2を基盤1上に載置し、電極3と基盤1との間に前記
高圧電源からの直流高電圧を印加して前記閉回路に流九
る直流型流値を測定し、かぐして電極3が試料2に確実
に導通しているか否かを調べる方法が考えられた。
例えばFB描画装置の真空チャンバ内において基盤1上
に試料2を吸着させる前に、試料2と電極3とが確実に
導通しているか否かを確認しなければならない。このた
め、あらかじめ、静電チャックが正常動作して基盤1に
検定用の試料が確実に吸着されているときに、高圧電源
、基盤11検定用の試料、および電極3からなる閉回路
の直流抵抗を測定しておく。そして電極3を固定した試
料2を基盤1上に載置し、電極3と基盤1との間に前記
高圧電源からの直流高電圧を印加して前記閉回路に流九
る直流型流値を測定し、かぐして電極3が試料2に確実
に導通しているか否かを調べる方法が考えられた。
また、試料が異状にそっていたり、割れている場合も検
出する必要があった。
出する必要があった。
したしながら前述のような方法では、前記閉回路の直R
抵抗値が棲めて高いので、測定される電流が、静電チャ
ック機構のリーク電流を計っているかAちとなる。
抵抗値が棲めて高いので、測定される電流が、静電チャ
ック機構のリーク電流を計っているかAちとなる。
従って検出精度が極めて悪い。また、測定電流値がμA
オーダとなるので、ft1il定回路が極めて複雑とな
る。
オーダとなるので、ft1il定回路が極めて複雑とな
る。
本発明は上記事情に能みてなされたもので、試料と電極
とが導通しているが否が、あるいけ試料の形状に異状が
あるか否かなどを確実に検出することができる静電チャ
ックにおける異状確認装置をイ0ることを目的としてい
る。
とが導通しているが否が、あるいけ試料の形状に異状が
あるか否かなどを確実に検出することができる静電チャ
ックにおける異状確認装置をイ0ることを目的としてい
る。
本発明においては、直流高圧電諒、基盤、基盤と基盤上
に載置した試料とによって形成されたコンデンサ、基盤
上に載置された試料および試料上に固定された電極を直
列接続してなる閉回路中に交流信号を加え、同閉回路に
流れる交流電流の値を検出することによって、前記目的
を達成している。
に載置した試料とによって形成されたコンデンサ、基盤
上に載置された試料および試料上に固定された電極を直
列接続してなる閉回路中に交流信号を加え、同閉回路に
流れる交流電流の値を検出することによって、前記目的
を達成している。
第2図は、本発明にかかる静電チャックにおける異状確
認装置の回路ブロック図である。図中5は直流の高圧m
′源であり、その−(マイナス)側は接地され、その+
(プラス)側は、保護用抵抗(高抵抗値:例えば2MQ
)6、スイッチ7および検出トランス8(1次側)から
なる直列回路を介して基盤1に接続されている。
認装置の回路ブロック図である。図中5は直流の高圧m
′源であり、その−(マイナス)側は接地され、その+
(プラス)側は、保護用抵抗(高抵抗値:例えば2MQ
)6、スイッチ7および検出トランス8(1次側)から
なる直列回路を介して基盤1に接続されている。
基盤1上に載置された試料2上面上には、電極3が同定
され、そしてこの電極3は接地されている。従って、電
極3と試料2とが導通していると、スイッチ7をONす
ることによって、高圧電源5からの直流高電圧は、試料
2、基゛盤1間に印加され、試料2、基盤1間に静電力
が発生して、この静電力によって試料2は基盤1に吸着
される9基盤1上に試料2が載置されることによって、
両者間には、所定の静電容量を持つコンデンサが形成さ
れる。
され、そしてこの電極3は接地されている。従って、電
極3と試料2とが導通していると、スイッチ7をONす
ることによって、高圧電源5からの直流高電圧は、試料
2、基゛盤1間に印加され、試料2、基盤1間に静電力
が発生して、この静電力によって試料2は基盤1に吸着
される9基盤1上に試料2が載置されることによって、
両者間には、所定の静電容量を持つコンデンサが形成さ
れる。
9は交流発生器(周波数は例えば、500KH2〜IM
H2)であり、この交流発生器9からの出力信号は、ス
イッチIQi介して、スイッチ7と検出トランス8との
間において、高圧電源5、保縛用抵抗6、スイッチ7、
検出トランス8、基盤11試料2および電極3を直列接
続した閉回路中に加えられる。
H2)であり、この交流発生器9からの出力信号は、ス
イッチIQi介して、スイッチ7と検出トランス8との
間において、高圧電源5、保縛用抵抗6、スイッチ7、
検出トランス8、基盤11試料2および電極3を直列接
続した閉回路中に加えられる。
従って、試料2と電極3とが導通していると、スイッチ
1oをONすることによって第3図に等価回路図で示す
ように、交流発生器9、スイッチ10、検出トランス8
(1次1Ill)、基盤1、基盤1と試料2とによって
形成されたコンテンサc1試料2の等価掛抗Rおよび電
極3からなる閉回路が形成され、この閉回路に交流発生
器9からの交流信号が流れる。一方、試料2と電極3と
の尋通カ坏十分またけ全く無すと、第3図中、試料2の
等価抵抗Rの値が非常に高くまた行無限大になった状態
とみなすことができる。従って、このような状態におい
ては、前記閉回路(第3図)Kは、ほとんどまたは全く
交流発生器9からの交流信号が流れない。
1oをONすることによって第3図に等価回路図で示す
ように、交流発生器9、スイッチ10、検出トランス8
(1次1Ill)、基盤1、基盤1と試料2とによって
形成されたコンテンサc1試料2の等価掛抗Rおよび電
極3からなる閉回路が形成され、この閉回路に交流発生
器9からの交流信号が流れる。一方、試料2と電極3と
の尋通カ坏十分またけ全く無すと、第3図中、試料2の
等価抵抗Rの値が非常に高くまた行無限大になった状態
とみなすことができる。従って、このような状態におい
ては、前記閉回路(第3図)Kは、ほとんどまたは全く
交流発生器9からの交流信号が流れない。
検出トランス8の2次仙IKは、1次11n [おける
交流信号の電圧に対応した電圧の交流信号が得られ、こ
れがバッファ増巾器11に入力される。
交流信号の電圧に対応した電圧の交流信号が得られ、こ
れがバッファ増巾器11に入力される。
12はバッファ増巾器11からの出力信号(交#r、)
全検波積分して直流に変換する検波積分器、1:lは検
波積分器12からの出力信号と、あらかじめ定めた基準
設定値とを比較して、検波積分器12からの出力信号の
値が基準設定値を越えたときに信号を出力する比較器で
ある。この基準設定値はあらかじめ電極3が導通した状
態の検定用の試料を基ai上に載置したときに得られた
、検波積分器12からの出力信号レベルよりも所定値だ
け低い値に定められている。、14け比較器13からの
出力信号を所定時間保持すると共にその保持時間中、導
通確認信号として信号を適当な表示記録手段等に出力す
るラッチ器である。
全検波積分して直流に変換する検波積分器、1:lは検
波積分器12からの出力信号と、あらかじめ定めた基準
設定値とを比較して、検波積分器12からの出力信号の
値が基準設定値を越えたときに信号を出力する比較器で
ある。この基準設定値はあらかじめ電極3が導通した状
態の検定用の試料を基ai上に載置したときに得られた
、検波積分器12からの出力信号レベルよりも所定値だ
け低い値に定められている。、14け比較器13からの
出力信号を所定時間保持すると共にその保持時間中、導
通確認信号として信号を適当な表示記録手段等に出力す
るラッチ器である。
以上のような構成によって次のようにして試料2に固定
された電極3が、試料2と導通しているのか否η)が判
別される。
された電極3が、試料2と導通しているのか否η)が判
別される。
まず、電極3を固定した試料2全基盤1土に載置し、ス
イッチ10に所定時間ONにする(第4図(1)参照へ
これによって、第3図に示すように交流発生器9、スイ
ッチ10.検出トランス8(1次111++ ) 、基
盤1および試料2間のコンテンサc1試料2の等価抵抗
Rならびに電極3からなる閉回路が形成され、この閉回
路中を、交流発生器9がらの交流信号が流れる。
イッチ10に所定時間ONにする(第4図(1)参照へ
これによって、第3図に示すように交流発生器9、スイ
ッチ10.検出トランス8(1次111++ ) 、基
盤1および試料2間のコンテンサc1試料2の等価抵抗
Rならびに電極3からなる閉回路が形成され、この閉回
路中を、交流発生器9がらの交流信号が流れる。
そして、検出トランス802欠伸に交流信号が誘起され
(第4図(2)参照)、これがバッンア増巾器11によ
り増巾されて検波積分器12に入力される。
(第4図(2)参照)、これがバッンア増巾器11によ
り増巾されて検波積分器12に入力される。
そして、検波積分器12においては、バッファ増巾器1
1からの出力信号(交流)か、その大きさく電圧値)に
対応した大きさく霜、圧値)奮持っ直流信号(第4図(
3)参照Jに変換され、これが比較器13に入力される
ー そして比較器13において社、検波積分器12からの出
力信号が基準設定値(第4図中aでそのレベルを示す)
と比較される。試料2と電極3とが導通しているときは
、検波積分器12からの出力Gi号のレベルは、第4図
中(3)で示すように基準設定値のレベル(a)よりも
十分大きいから、信号が比較器13からラヅチ器14に
入力され、このラッチ器14から?lr、4図中(4)
に示すような、試料2と電極3とが導通してhることを
確認する信号が出力される、一方、試料2と電極3とカ
ニ、はとんど導通していないかまたは全く導通していな
いときは、検出トランス8の2次仰+には交流信号がほ
とんどまたは全く誘起されないから、比較器14に入力
される検波積分器13がらの信号レベルも基準設定値の
レベルよりはるかに低い。従って:この場合比較器14
からは信号が出力されず、試料3と電極4とが導通不十
分または全く導通していないことがわかる。
1からの出力信号(交流)か、その大きさく電圧値)に
対応した大きさく霜、圧値)奮持っ直流信号(第4図(
3)参照Jに変換され、これが比較器13に入力される
ー そして比較器13において社、検波積分器12からの出
力信号が基準設定値(第4図中aでそのレベルを示す)
と比較される。試料2と電極3とが導通しているときは
、検波積分器12からの出力Gi号のレベルは、第4図
中(3)で示すように基準設定値のレベル(a)よりも
十分大きいから、信号が比較器13からラヅチ器14に
入力され、このラッチ器14から?lr、4図中(4)
に示すような、試料2と電極3とが導通してhることを
確認する信号が出力される、一方、試料2と電極3とカ
ニ、はとんど導通していないかまたは全く導通していな
いときは、検出トランス8の2次仰+には交流信号がほ
とんどまたは全く誘起されないから、比較器14に入力
される検波積分器13がらの信号レベルも基準設定値の
レベルよりはるかに低い。従って:この場合比較器14
からは信号が出力されず、試料3と電極4とが導通不十
分または全く導通していないことがわかる。
また、電極の導通状態のみならず、試料が異状にそって
いたり、割れていたりしている場合であっても、第3図
の等価回路のコンデンサCが一定値エリ小さくなるため
に、その異状に検出できる、すなわち、等価回路のコン
デンサCが小さくなると閉回路のインピーダンスが高く
なり、その出力が低下し、導通状態の確認と同様にチェ
ックする基盤間の静電容量全利用し、交流信号を使用す
ることによって、試料と電極との導通を極めて確実に確
認することができる、
いたり、割れていたりしている場合であっても、第3図
の等価回路のコンデンサCが一定値エリ小さくなるため
に、その異状に検出できる、すなわち、等価回路のコン
デンサCが小さくなると閉回路のインピーダンスが高く
なり、その出力が低下し、導通状態の確認と同様にチェ
ックする基盤間の静電容量全利用し、交流信号を使用す
ることによって、試料と電極との導通を極めて確実に確
認することができる、
第1図は基盤部分の概略断面図、第2図は本発明にかか
る静電チャックにおける異状確認装置の回路ブ、ロック
図、第3図は同回路の要部の等価回路図、第4図は本発
明装置の作動を説明するための波形図である。 1・・・基盤、2・・・試料、3.4・・・電極、7.
10・・・スイッチ、8・・・検出トランス、9・・・
交流発生器、12・・・検波積分器、13・・・比較器
、14・・・ラッチ器。 出願代理人 弁理士 菊 池 五 部
る静電チャックにおける異状確認装置の回路ブ、ロック
図、第3図は同回路の要部の等価回路図、第4図は本発
明装置の作動を説明するための波形図である。 1・・・基盤、2・・・試料、3.4・・・電極、7.
10・・・スイッチ、8・・・検出トランス、9・・・
交流発生器、12・・・検波積分器、13・・・比較器
、14・・・ラッチ器。 出願代理人 弁理士 菊 池 五 部
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 直流高圧電掠、基盤、前記基盤と前記基盤上に載置され
た試料とによって形成されたコンデンサ、前記基盤上に
載置された試料および前記試料土K【^1定した試料用
電極を直列接続して々る閉回路中に交流信号を加えるた
めの交流発生器と、前記閉回路中を流れる前記交流発生
器からの交流信号を検出するための検出器と、前記検出
器からの出力信号を検波して直流、信号に袈換するため
の変換器と、前記変換器からの出力信号をあらかじめ定
めた基準設定値と比較して前記変換器からの前記出力信
号が前記基準設定値を越えた値であるときに信号を出力
する比較器とを備えたことを特徴とする静電チャックに
おける異状確認装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP874483A JPS60110133A (ja) | 1983-01-24 | 1983-01-24 | 静電チャックにおける異状確認装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP874483A JPS60110133A (ja) | 1983-01-24 | 1983-01-24 | 静電チャックにおける異状確認装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60110133A true JPS60110133A (ja) | 1985-06-15 |
Family
ID=11701440
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP874483A Pending JPS60110133A (ja) | 1983-01-24 | 1983-01-24 | 静電チャックにおける異状確認装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60110133A (ja) |
Cited By (176)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0198218A (ja) * | 1987-10-09 | 1989-04-17 | Fuji Electric Co Ltd | 乾式薄膜加工装置 |
FR2676603A1 (fr) * | 1991-05-17 | 1992-11-20 | Unisearch Ltd | Procede et appareil de retenue electrostatique d'un corps. |
JP2006516675A (ja) * | 2002-09-11 | 2006-07-06 | バリアン・セミコンダクター・イクイップメント・アソシエーツ・インコーポレーテッド | 電気的接触を確立するための能動的方法及びシステム |
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