JPS5946931B2 - トリフルオロメチル基を有するフエニルアセチレン類およびその誘導体の製造方法 - Google Patents

トリフルオロメチル基を有するフエニルアセチレン類およびその誘導体の製造方法

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JPS5946931B2
JPS5946931B2 JP3332982A JP3332982A JPS5946931B2 JP S5946931 B2 JPS5946931 B2 JP S5946931B2 JP 3332982 A JP3332982 A JP 3332982A JP 3332982 A JP3332982 A JP 3332982A JP S5946931 B2 JPS5946931 B2 JP S5946931B2
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trifluoromethyl group
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和夫 小平
邦夫 奥原
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【発明の詳細な説明】 本発明はトリフルオロメチル基を有するβ、β−シクロ
ローα−フルオロスチレン類をアルキルリチウムと反応
させることを特徴とするトリフルオロメチル基を有する
フェニルアセチレン類およびその誘導体の製造方法に関
するものである。
フェニルアセチレン類は種々の方法によつて重合させる
ことができ、重合物は熱硬化性樹脂・有機半導体素材と
して有用な材料である。この重合物の性質はフェニル基
上の置換基の種類によつて異つたものとなるが、トリフ
ルオロメチル基を有するフェニルアセチレン類の重合物
には特に優れた耐熱性・耐候性・化学的安定性が期待さ
れている。またトリフルオロメチル基は強力な電子吸引
性を有するため望ましい電気的性質を賦与する能力も大
きい。置換基を有するフェニルアセチレン類は、通常、
同じ置換基を有するアセトフェノン類から出発して2段
階で合成される。
第1段階ではアセトフェノン類に五塩化リンを作用させ
、第2段階では得られた塩素化合物に塩基を作用させて
脱塩化水素を行う。この方法の原料となるアセトフェノ
ン類は置換基を有するベンゼン類と塩化アセチルを塩化
アルミニウムの触媒作用で縮合させることによつて合成
するのが典型的方法である。トリフルオロメチル基を有
するフェニルアセチレン類の合成もトリフルオロメチル
基を有するアセトフェノン類を出発物質とするものが大
部分であるが、この出発物質をフリーデル・クラフツ反
応を利用して上記のようにして合成することはできない
。何故ならばベンゼン環に直結したトリフルオロメチル
基と塩化アルミニウムは反応してトリクロロメチル基と
フッ化アルミニウムになるからである。このためトリフ
ルオロメチル基を含むアセトフェノン類の合成は多段の
工程を要する。例えばベンゾニトリル類にメチル・グリ
ニヤール試薬を作用させる方法、酸塩化物にジメチル・
カドミウムを作用させる方法等が報告されているが、こ
れらの中間体も他の容易に得られる化合物から誘導しな
ければならない。本発明によるトリフルオロメチル基を
有するフェニルアセチレン類およびその誘導体の製造方
法は上述のものとは全〈異つた反応経路を用い、比較的
安価で入手しやすい原料であるトリフルオロメチルベン
ゼン類またはその臭化物等の′゛ロゲン化物を原料とし
て用い、目的アセチレン類およびその誘導体を得るのに
わずか2工程ですむ。
本発明によつてブロモ(トリフルオロメチル)ベンゼン
の各異性体からO−、m−、p−トリフルオロメチルフ
ェニルアセチレンを全収率50%前後で合成できるよう
になり、さらにこれまで報告されていないビス(トリフ
ルオロメチル)フエニルアセチレン類も容易に合成でき
るようになつた。合成経路について述べると,まずトリ
フルオロメチル基を有するベンゼン類あるいはその臭化
物等のハロゲン化物にエーテル溶媒中でn−ブチルリチ
ウムを作用させ、リチウム一水素交換反応あるいはリチ
ウム一臭素(ハロゲン)交換反応によつてトリフルオロ
メチル基を有するフエニルリチウム類のエーテル溶液を
つくり、一般には逆滴下で1,1−ジクロロ−2,2−
ジフルオロエチレンと反応させることによつてトリフル
オロメチル基を有するβ,β−ジクロロ−α−フルオロ
スチレン類を合成する。ここまでが第1工程である。第
2工程でぱこの中間体のエーテル溶液にn−ブチルリチ
ウム(または他のアルキルリチウム)を滴下するが、反
応は−50℃程度の低温で行うことができるのでトリフ
ルオロメチル基も他の多く置換基も殆んど化学変化を受
けない。反応混合物の温度がO℃付近まで上昇した後、
あるいは1〜2時間還流した後、加水分解すれば、トリ
フルオロメチル基を有するフエニルアセチレン類のエー
テル溶液が得られる。この溶液中には副生物である塩化
n−ブチル(または他の塩化アルキル)も含まれている
が、この副生物および目的アセチレン類ζ埴留等の手段
によつて容易に単離することができる。本法の利点とし
て、 1)入手しやすい原料から2工程でトリフルオロメチル
基を有するフエニルアセチレン類が得られること、につ
いてはすでに述べたが、そのほかに本法の特長として次
の諸点をあげることができる。
2)トリフルオロメチル基を有するフエニルアセチレン
類は加水分解前はリチウム・アセチリドとして得られる
ので、適当な求電子試薬と反応させることにより、トリ
フルオロメチル基を有するフエニルアセチレン類の誘導
体(たとえば、カルボン酸、トリメチルシリル化合物)
を直接得ることができる。
3)2工程とも反応溶媒としてはエーテルを、求核試薬
としてはn−ブチルリチウム(または他のアルキルリチ
ウム)を用いることができるので、反応設備、溶媒、試
薬の数が少くてすむ。
第1工程ではその′nかに1,1−ジクロロ−2,2−
ジフルオロエチレンを用いるがこのものは比較的安価カ
リ容易に合成できる。4)この合成経路で用いるn−ブ
チルリチウムは金属リチウムと塩化またぱ臭化n−ブチ
ルから調製するが、第2工程の反応に用いられるn−ブ
チルリチウムと当量の塩化n−ブチルが副生し回収でき
る。
また出発原料としてトリフルオロメチル基を有するベン
ゼン類の臭化物を用いた場合は第1工程でも臭化n−ブ
チルが回収できる。他のアルキルリチウムを用いる場合
も対応したハロゲン化アルキルが回収できる。次に、実
施例によつてこの発明をさらに詳細に説明する。
実施例 1 反応はすべて窒素雰囲気下で行つた(他の実施例につい
ても同じ)。
o−ブロモ(トリフルオロメチル)ベンゼン112.5
y(0.50モル)と乾燥エーテル100meを500
meフラスコに入れて氷水浴中でマグネチツクスターラ
一で撹拌し、n−ブチルリチウム(0.55モル、n−
ブチルリチウムのモル数はすべて溶液毎の名目濃度から
計算、他の実施例についても同じ)のエーテル溶液33
0dを38分間で滴下し、氷水溶中での撹拌をさらに1
時間30分続けた。別のフラスコ(1t)に1,1−ジ
クロロ−2,2−ジフルオロエチレン105f(0.7
9モル)とエーテル100m1を入れてマグネチツクス
ターラ一で撹拌しドライアイス−アセトン浴で内部温度
が−30℃付近になるように冷却しながら、上記で得た
o−トリフルオロメチルリチウムの溶液を28分間で滴
下した。冷却浴をとり1時間還流した後、濃塩酸55d
と氷片で反応混合物を加水分解し、エーテル層を水、つ
いで炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナト
リウム上に乾燥しその98%を蒸留し0−(トリフルオ
ロメチル)−β,β−ジクロロ−α−フルオロスチレン
、沸点110℃/30rwt、98.6?(収率77%
)を得た。上記のようにして得たo−( トリフルオロ
メチル)−β,β−ジクロロ−d−フルオロスチレン2
5.8y(0.10モル)をエーテル200dに溶かし
た溶液をドライアイス−アセトン浴で冷却して−40℃
程度の内部温度を保つようにしながら、n−ブチルリチ
ウム(0.24モル)のエーテル溶液(150me)を
滴下した。
加水分解後エーテル層を洗浄乾燥し減圧蒸留によつてo
−トリフルオロメチルフエニルアセチレン、沸点65.
5℃/30聰、13.27(収率78%)を得た。実施
例 2 0−(トリフルオロメチル)−β,β−ジクロロ−α−
フロオロスチレン5.37(0.020モル)のエーテ
ル(50d)溶液に−34〜−45℃でn−プロピルリ
チウム(0.054モル)のエーテル溶液(32m1)
を滴下したのち、反応混合物の温度が0℃付近になるの
を待つてドライアイス片を加えしばらく攪拌を続け水3
0meを加えて全体をしんとうしろ過した。
水層を分離して2回エーテルで洗浄し、稀塩酸て蓋性に
して生じた結晶性沈澱をエーテルで抽出、乾燥後、エバ
ポレーターで揮発物を除くと粗製のo−トリフルオロメ
チルフエニルプロピオール酸3.67(収率82%)が
得られた。四塩化炭素から再結晶後の融点G灯40〜1
41℃であつた。実施例 3 p−ビス( トリフルオロメチル)ベンゼン63.8t
(0.30モル)とエーテル100dをジムロート還流
冷却器を付したフラスコに入れ、n−ブチルリチウム(
0.37モル)のエーテル溶液(230m1)を滴下し
た(ゆるやかな発熱)のち4時間還流した。
還流の最初の2時間程の間はブタンの発生が明瞭に認め
られた。別のフラスコ(1t)に1,1−ジクロロ−2
,2−ジフルオロエチレン90t(0.68モル)とエ
ーテル100dを入れ内部温度を−20〜−30℃に保
つようにドライアイス−アセトン浴で冷却し、上記で得
た2.5−ビス(トリフルオロメチル)フエニルリチウ
ムの溶液を滴下した。冷却浴をとつて攪拌を続け2℃に
なつたとき加水分解、エーテル層の洗浄と乾燥ののち9
8%を蒸留し2,5−ビス(トリフルオロメチル)−β
,β−ジクロロ−d−フルオロスチレン、沸点96℃/
301Trm、69.3V(収率73%)を得た。この
うち43.9?(0.13モル)をとつてエーテル50
r!1eに溶かし内部温度を一50℃前後に保つように
ドライアイス−アセトン浴で冷却し、n−ブチルリチウ
ム(0.30モル)のエーテル溶液(180me)を滴
下した。加水分解・エーテル層の洗浄・乾燥後その96
%を蒸留し2,5−ビス(トリフルオロメチル)フエニ
ルアセチレン、沸点67℃/30T!m、23.8V(
収率78%)を得た。実施例 4 m−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン22.0f(
0.10モル)とn−ブチルリチウム0.16モルを含
むエーテル溶液(約180m1,)を30分間還流した
後、氷水浴で冷却した1,1−ジクロロ−2.2−ジフ
ルオロエチレン357(0.27モル)のエーテル(7
5d)溶液に滴下し蒸留によつて2,4−ビス(トリフ
ルオロメチル)−β,β−ジクロロ−α−フルオロスチ
レン沸点90.5〜91.5℃/30Tr0n、10.
9f(収率32%)を得た。
2,4−ビス(トリフルオロメチル)−β,β−ジクロ
ロ−α−フルオロスチレン22.4t(0.068モル
)のエーテル溶液にn−ブチルリチウム(0.22モル
)のエーテル溶液を約−30℃で滴下した後加水分解し
、蒸留によつて2,4一ビス(トリフルオロメチル)フ
エニルアセチレン、沸点約75℃/50wm、109f
(収率71%、蒸留したのは全体の94%)を得た。
実施例 5 2,4−ビス(トリフルオロメチル)−β,β−ジクロ
ロ−α−フルオロスチレン16.7r(0.05モル)
のエーテル(50d)溶液にn−プロピルリチウム(0
.13モル)のエーテル溶液(80d)を約−40℃で
33分間に滴下し、温度が−4℃まで上昇した後クロロ
トリメチルシラン16t(0.14モル)を加え1時間
攪拌を続けた後塩酸と氷片で加水分解し、エーテル層の
洗浄乾燥後蒸留によつて〔2,4−ビス(トリフルオロ
メチル)フエニルエチニル]トリメチルシラン、沸点8
8〜89.5℃/29wr!N,lO.8t(収率70
%)を得た。
実施例 6 ブロモ−3,5−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン
22.0V(0.075モル)のエーテル溶液にn−ブ
チルリチウム(0.25モル)のエーテル溶液を加えて
(−38〜−51℃)得られた溶液を1,1−ジクロロ
−2,2−ジフルオロエチレン27t(0.20モル)
のエーテル溶液に逆滴下して(−29〜−23℃)3,
5−ビス(トリフルオロメチル)−β,β−ジクロロ−
α−フルオロスチレン、沸点100℃/29r1r1n
113.8V(収率58%、蒸留したのは全体の97%
)を得た。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 トリフルオロメチル基を有するフェニルリチウム類
    と1,1−ジクロロ−2,2−ジフルオロエチレンとの
    反応で得られるトリフルオロメチル基を有するβ,β−
    ジクロロ−α−フルオロスチレン類をアルキルリチウム
    と反応させることを特徴とするトリフルオロメチル基を
    有するフェニルアセチレン類およびその誘導体の製造方
    法。
JP3332982A 1982-03-03 1982-03-03 トリフルオロメチル基を有するフエニルアセチレン類およびその誘導体の製造方法 Expired JPS5946931B2 (ja)

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JPS58150523A JPS58150523A (ja) 1983-09-07
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11446016B2 (en) 2013-08-20 2022-09-20 Boston Scientific Scimed, Inc. Braided hemostasis shaft for improved torsional response

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US11446016B2 (en) 2013-08-20 2022-09-20 Boston Scientific Scimed, Inc. Braided hemostasis shaft for improved torsional response

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