JPS5944578B2 - 透明な被検査物の欠陥検出方法 - Google Patents

透明な被検査物の欠陥検出方法

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JPS5944578B2
JPS5944578B2 JP9042675A JP9042675A JPS5944578B2 JP S5944578 B2 JPS5944578 B2 JP S5944578B2 JP 9042675 A JP9042675 A JP 9042675A JP 9042675 A JP9042675 A JP 9042675A JP S5944578 B2 JPS5944578 B2 JP S5944578B2
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glass plate
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徳治 高橋
譲 秋元
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Konica Minolta Inc
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
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    • G01N21/89Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は透明なフィルム、ガラス板その他プラスチック
材料などの表面のみ又は裏面のみの欠陥を、検出する方
法に関するものである。
従来プラスチックフィルム及びガラス板等の被検査物に
傷やその上に被覆層を設けた場合などの被覆層の塗布む
ら等の欠陥の有無を検査する場合は、例えば第1図aに
示される如くレーザービームなどの光源部1からの光ビ
ーム2をガラス板3に照射しその透過ビーム7を受光素
子6により受光するが、このとき被検査物の表面4上に
欠陥8又は裏面5上に欠陥9があるときは入射ビームの
光量に比して透過ビーム光量が変り受光素子6において
異常が発見できるが、この検査方法においては表面の欠
陥8と裏面の欠陥9の区別ができない。
又例えば第1図bに示される如くレーザービームなどの
光源部1からの光ビーム2はガラス板3に照射され、ガ
ラス板3の表面4からの反射ビーム7aと裏面5からの
反射ビーム7bの両方の光量の和が受光素子6に受光さ
れる。
この場合被検査物であるガラス板3の表面4上に欠陥8
及び裏面に欠陥9がある場合は光ビーム2に対して反射
ビームTaと7bの和に変化を生じ、受光素子6におい
て異常が発見される。この方法においてはガラス板3の
表面4からの反射ビーム7aと、裏面5からの反射ビー
ム7bとの光の進行位置の差10を利用して表面の欠陥
8と裏面の欠陥9とを区別することも考えられるが、被
検査物であるガラス板3の厚さが薄く(1〜2mm)進
行位置の差10を利用して表面欠陥8と裏面欠陥9とを
区別することは光学的に極めて困難である。このように
従来透明な被検査物の表面のみ又は裏面のみの欠陥を検
出する有効な方法が見出されておらず、例えば裏面の欠
陥は製品の品質上重要性がなく欠陥検出の必要性はない
が、表面の欠陥は必ず検出する必要があるという場合が
あり、本願発明はこのような場合でも欠陥検出を効果的
に行う方法に関するものである。
即ち第2図aは本発明の方法の原理図であつて、レーザ
ー光などの光源部1a及びIbを用意し、1aからの照
射ビーム2aはガラス板3の表面4を透過し透過ビーム
7aとなり受光素子6aにより受光される。
同様に光源部Ibからの光ビーム2bもガラス板3の表
面4上の前記照射ビーム2bの照射位置と同一地点に照
射し、同じく表面4を透過し、透過光7bとなり受光素
子6bにより受光される。この場合ガラス板3の表面4
上に欠陥8があれば、受光素子6aと6bは同時に欠陥
を検出するが、裏面に欠陥9があつてもガラス板3の厚
さ分だけ光路差があるため受光部6aと6bとは同時に
欠陥を検出することがない。
又第2図bは第2図aからの信号の処理方法である。第
2図aの受光素子6aと受光素子6bからの信号11a
と11bはそれぞれ増巾回路12a及び12bにより増
巾され、さらに比較器13a及び13bにより一定以上
の信号のみとり出し、アンド回路14により同時に異常
信号が発生したときのみ出力回路15へ欠陥信号を発し
て欠陥を検出する。このような本発明の方法の原理をさ
らにわかりやすく第3図a、第3図b、第3図c及び第
3図dにより説明すれば、第3図aにおいて被検査物で
ある、例えばガラス板3の表面4上をビーム巾100μ
程度の2本のレーザービーム2a及び2bで光走査し、
かつ実質的にこれら2つのビームが同時にガラス板3の
表面上4の同一点を照射する如く光走査して、例えばガ
ラス板3の表面4上の一点8に欠陥があり、この点を照
射したときには、2つのレーザービーム共欠陥により散
乱又は吸収され残りのビームはガラス板3を屈折透過し
て、透過ビーム7a及び7bとなり、それぞれ受光部6
a及び6bに受光され光電変換され第3図bに示される
如く欠陥部8を通過したとき同時に22a及び22bの
2つの異常パルスを発生する。これに対して第3図cに
おいては被検査物であるガラス板3の表面4を同じくレ
ーザービーム2a及び2bで前記と同様光走査し、例え
ばガラス板3の裏面5に欠陥9があり、これに対応する
ガラス板3の表面上の欠陥のない点8′に照射したとき
には、レーザービーム2aはガラス板3を屈折透過して
欠陥部9を通ることなく透過光7aとなり、受光部6a
に受光された光電変換される。他方レーザービーム2b
はガラス板3を屈折透過して欠陥部9を通過し散乱又は
吸収され残りのビームは透過光7bとなり受光部6bに
受光され光電変換される。第3図cの場合は前記第3図
aの場合と異なつて第3図dに示される如く受光部6b
のみが異常パルス22bを発生する。従つて第2図bの
処理をへて第3図aは欠陥信号として検出され第3図c
は検出されない。
前記本願発明の方法において照射ビームは検出性能を向
上するため、普通の光ビームでもよいが好ましくは、例
えばレーザービームの如く指向性があり、できるだけ細
いビーム巾の光を用いることがよい。又被検査物の表面
を光走査する2つの照射光ビームは同一点を同時に照射
する如く光走査して同時に2つの異常信号がでるように
するのが取扱上好都合であるが実質的に同一点を制限時
間内の時間差で光走査し制限時間内に2つの異常信号が
発するようにしてもよく、いづれにしろ2つの異常信号
が発生したときにのみ欠陥信号として検出する必要があ
る。又欠陥を検出するための照射光は2つの光ビームが
通常用いられるが必要に応じてそれ以上の数のビームを
用いてもよい。又被検査物の厚みが大であるほど検出性
能は上昇するから、薄い被検査物の場合は光ビームはよ
り細いビームを使用する必要があり、通常レーザービー
ムを用いるときは少なくとも100μ以下の巾をもつビ
ームがつかわれる。又勿論ガラス板3の裏面5の同一点
に2つの光ビームが同時に照射される如く光走査して裏
面5上の欠陥のみを検出することもできる。又被検査物
は透明又は半透明体であつて照射ビームが透過して本発
明の検出機構により検出しうる光透過性を有する必要が
あり、かつ表面又は裏面はできうれは平滑であることが
のぞましい。次に本発明の実施例を第4図にもとづき具
体的に説明するがこれにより本発明の実施の態様が限定
されるものではない。
第4図a及び第4図bにおいてレーザー光源1からのレ
ーザービーム2は回転鏡16により走査光17とされ、
半透明鏡18により透過光19aと19bに分けられ、
さらに透過光19aは反射鏡20aにより正反射され反
射光21aとなり、又別に透過光19bは反射光20b
により正反射され反射光21bとなり、これら2つの反
射光21a及び21bは被検査物であるガラス板3の表
面4の同一点を同時に(又は実質的に同一点を制限時間
内に)照射する如く光走査しガラス板3を屈折透過して
7a及び7bとなり受光素子6a及び6bに受光される
このときガラス板3の表面4上に欠陥8がある場合は受
光素子6a及び6bは同時に異常信号を発生し出力回路
に欠陥信号を発するが、裏面に欠陥9がある場合は第2
図aと同じ原理により6aと6bは同時に異常信号を発
することはなく従つて欠陥信号は発しない。またこの回
路の電気処理は第2図bと同じ方法が用いられる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の欠陥検査方法で、第1図aは光ビームの
透過による欠陥検査方法を示し、第1図bは反射による
欠陥検査方法を示す。 第2図は本発明に係る欠陥検査方法の原理及び処理方法
を示す図で、第2図aは欠陥検査方法の原理図、第2図
bは第2図aで受光した信号を処理する電気回路のプロ
ツク図を示す。第3図は本発明に係る欠陥検査方法を理
解するための説明図で、第3図a及びcはそれぞれガラ
ス板3の表面4に欠陥8がある場合及びガラス板3の裏
面5に欠陥9がある場合の光ビームの光路を示す図であ
り、第3図b及びdはそれぞれ受光部6a及び6bに発
生する異常パルスを示す図であり、横軸tは光走査時間
及び縦軸は出力電圧を示す。第4図は本発明に係る欠陥
検査方法の1実施例を示す図で、第4図aは光源部1よ
り受光部6a及び6b迄の光路を示す見取り図を示し、
第4図bは半透明鏡18より受光部6a及び6bまでの
光路図を示す。1,1a及び1bは光源部、2,2a及
び2bは照射光ビーム、3は被検査物、4は被検査物3
の表面、5は被検査物3の裏面、6a及び6bは受光部
、7a及び7bは透過光ビーム、8は被検査物3の表面
欠陥、8′は被検査物3の裏面の欠陥9を通過する照射
ビーム2bの被検査物3の表面上の照射点、9は被検査
物3の裏面欠陥、11a及び11bはそれぞれ6a及び
6bの受光部において受光した光信号を光電変換して得
られる電気信号、12a及び12bはそれぞれ該電気信
号を増巾する装置、13a及び13bは基準値以上の信
号をとりたすための比較器(コンパレーター)、14は
該2つの基準値以上の信号が共に発生したときのみ欠陥
信号をとりだすためのアンド回路を示し、15は最終出
力回路を示す。 16は光ビーム2を左右に走査するための回転鏡、17
は回転鏡16からの反射光、18は半透明鏡、19a及
び19bはそれぞれ半透明鏡18の反射及び透過光、2
0a及び20bはそれぞれ19a及び19bを反射する
ための反射鏡、21a及び21bはそれぞれ19a及び
19bの20a及び20bによる反射光、22a及び2
2bは受光部6a及び6bから発生する異常パルス信号
を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 入射角の異なる2つの光ビームを透明な被検査物の
    欠陥検出表面上に、実質的に一点となる如く照射し、照
    射後の2つの光ビームを2つの光電素子で別々に受光し
    て2つの電気信号に変換し、これら2つの電気信号が同
    時又は制限時間内に共に発したとき欠陥信号として検出
    することを特徴とする透明な被検査物の欠陥検出方法。
JP9042675A 1975-07-24 1975-07-24 透明な被検査物の欠陥検出方法 Expired JPS5944578B2 (ja)

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JPH0266921U (ja) * 1988-10-20 1990-05-21
JP3087384B2 (ja) * 1991-10-08 2000-09-11 松下電器産業株式会社 異物検査装置
EP1816466B1 (en) 2004-11-24 2010-06-23 Asahi Glass Company, Limited Method and device for inspecting defect of transparent plate body

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