JPS5943556B2 - イオン交換膜を用いた食塩水の電解方法 - Google Patents

イオン交換膜を用いた食塩水の電解方法

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JPS5943556B2
JPS5943556B2 JP52044504A JP4450477A JPS5943556B2 JP S5943556 B2 JPS5943556 B2 JP S5943556B2 JP 52044504 A JP52044504 A JP 52044504A JP 4450477 A JP4450477 A JP 4450477A JP S5943556 B2 JPS5943556 B2 JP S5943556B2
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晋策 小川
嵩 西森
務 菅家
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B15/00Operating or servicing cells
    • C25B15/08Supplying or removing reactants or electrolytes; Regeneration of electrolytes

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、陽イオン交換膜を用いた電解槽にて、苛性ソ
ーダを製造するために食塩を溶解し、精製する際に、シ
リカが溶解するのを可及的に防止し、且つ、シリカを共
沈除去するために沈澱のスラリーを循環し、共存せしめ
た状態で、不純物を沈澱させるための薬剤を添加する塩
水の精製法に関するものである。
苛性ソーダを製造するのに、水銀法、隔膜法、陽イオン
交換膜法などが知られている。
このうち水銀法では、陰極面は水銀であり、流動するの
で陰極面への、シリカの蓄積などは問題になつていない
。隔膜法でも隔膜自身がアスベストであつて、ポリシリ
カそのものであるので、隔膜へのシリカの蓄積などは問
題になつていない。従つて、従来苛・比ソーダの製造に
際し、食塩水中のシリカを除去する必要性がなかつた。
これに対し、本発明に於て我々は、陽イオン交換膜を用
いた電解槽にて、苛性ソーダを製造する際に、食塩水中
に溶解したり、ゲル状もしくは、コロイド状に懸濁して
いるシリカ、特に、ポリシリカが陽イオン交換膜の陽極
側面に蓄積し、電解電圧を上げることを見出した。
さらに、従来、溶存した塩類が1重量%以下程度の水中
のシリカであれば、強塩基性樹脂で除去することも公知
であるが、10重量%以上も食塩が溶存する水溶液中で
は経済的に、強塩基性樹脂による除去は困難である。
又、溶存した塩類が、1重量?以下程度の水中のシリカ
であれば、アルミナ等で吸着除去されることも公知だが
、10重量?以上の食塩水中でも、吸着され、経済的に
除去可能であることは知られていない。これに対し、本
発明に於て、我々は、10重量?以上の食塩水中でも、
水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、水酸化鉄、硫酸
バリウム等の沈澱が析出する時にシリカを吸着し、共沈
することを見い出し、さらに、これらの沈澱を循環する
ことにより、シリカの吸着、共沈する量が増大すること
を見出した。
一般に、工業的に用いられる食塩中には、砂、泥などが
混入していて、シリカを含む。
これらは食塩を溶解する際に、溶解もしくは、ゲル状、
コロイド状に分散する。これを、まず、可及的に防止す
ることが大切である。このためには、食塩を溶解する時
のPHを調節するのが好ましいので、まずこの点につい
て述べる。一般に天然に存在するシリカは、アルミナと
共存する。この両性物質であるアルミナの溶解に関連が
あるのであろうが、PH2以下、もしくは、PHl2以
上ではシリカは、著しく溶解度が高い。又、食塩中のマ
グネシウムは、一旦、溶解した後、共沈させた方が、好
ましいので、マグネシウムが溶解するPH9以下で食塩
を溶解することが好ましい。一方、陽イオン交換膜を用
いた電解槽では、塩素ガス中の酸素の含量を少なくする
ためには、陽極室中の食塩水のPHを4以下、さらに、
電解槽中の陽イオン交換膜面へのシリカの蓄積を可及的
にへらすためには、PH2以下に保つことが好ましい。
この様な低いPHの陽極液に、そのまま食塩を溶解する
と、シリカが溶解しやすいので、陽極液を脱塩素したの
ち、苛性ソーダなどのアルカリを添加し、PHを4乃至
9に調整した淡塩水に、食塩を溶解することが好ましい
。かくしてえられたほぼ飽和の食塩水中には、カルシウ
ム、マグネシウム、鉄、クロム、マンガン等の陽イオン
、硫酸根等の不純物が溶存している。これらの不純物を
沈降分離するために、食塩溶液に、苛性ソーダ、炭酸ソ
ーダ、水酸化カルシウム、塩化カルシウム、塩化バリウ
ム、炭酸バリウム等の薬剤が添加される。
その結果不純物は、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウ
ム、水酸化鉄、硫酸バリウム、石膏等として沈澱する。
この様な不純物の沈澱のスラリーを循環し、共存せしめ
た状態で上記の如き薬剤を食塩溶液に添加すると、シリ
カの共沈する量が増大することに、本発明は基くもので
ある。すでに、不純物の沈澱のスラリーを循環し、共存
せしめた状態で、薬剤を添加すれば、沈澱が大きくなり
、沈降速度が増大し、沈澱の圧縮性がよくなり、沢過仕
が著るしく増大することは、公知であるが、この様な手
段によりシリカの共沈する量がほぼ飽和の食塩水溶液中
で増大することは知られていないし、これが陽イオン交
換膜による、苛姓ソーダの製造法の電圧を低下せしめる
ことに、関連があり、必須であることは知られていない
次に、本発明を適用しうる薬剤の添加法について述べる
。薬剤の添加法としては一段法、二段法、塩化カルシウ
ム法、バリウム塩法、アクセラレーダーもしくは、サイ
クレータ一法として知られた方法等がいずれも適用しう
る。即ち、炭酸ソーダ、苛性ソーダが同時に添加される
一段法:先づ、炭酸ソーダが添加されたのち、苛姓ソー
ダが添加される二段法;硫酸根を除去するために、塩化
カルシウムを添加し、石膏として除去した後、炭酸ソー
ダ、苛姓ソーダを添加する塩化カルシウム法:塩化バリ
ウムもしくは、炭酸バリウムと苛性ソーダ、炭酸ソーダ
等が同時に添加されるバリウム塩法のいずれも、シツク
ナ一が設けられ、ここで沈降する不純物の沈澱のスラリ
ーを、薬剤を添加する反応槽中に循環し、添加すること
により、本発明を適用しうる。
又、アクセラレーダー、サイクレータ一に見られる様に
、薬剤を添加する反応室と沈降槽が一体化して、反応室
中に沈澱が滞溜し、濃縮されて、スラリー濃度が上げら
れた状態で、薬剤を添加することによつても本発明を適
用しうる。
次に、薬剤を添加する時に、共存せしめる不純物の沈澱
のスラリー濃度の量について述べる。
一般に業的に用いられる食塩中の不純物の量は、カルシ
ウム・・・0.2乃至0.02重量?、マグネシウム・
・゜0.2乃至0.01重量70、硫酸根・・・0.6
乃至0.1重量?、シリカなど・・・0.5乃至0.0
1重量?程度である。亦、イオン交換膜法での陽極室中
の食塩濃度は、1009/t乃至2009/t程度であ
つて、この淡塩水に食塩が溶解され、約300g/t乃
至315g/t程度になつて、再び陽極液系に供給され
る。従つて、通常は、食塩を溶解した後の溶液中からは
、不純物が沈澱として、約0.3重量?〜0.03重量
?生成する。
これに対して、不純物を沈澱させるための、薬剤を添加
する反応槽中には、不純物の沈澱が、3乃至0.3重量
70程度共存する様に、スラリーを循環させるのが好ま
しい。循環するスラリー量が増大するほど、吸着される
シリカの量は増大するが循環するスラリー濃度が大きく
なりすぎると閉塞などの問題が生じる。シリカを共沈さ
せる時のPHは4以下、12以上では、シリカは共沈し
ない。
又、共沈していても再溶解する。従つて、シリカを共沈
させるには、PHを8乃至11に保つのが最も好ましい
。薬剤を添加し、反応させ、沈澱を生成させ、シリカを
共沈させたのちシツクナ一で沈降させる。この時高分子
凝集剤を添加するのが好ましい。例えば、アルカリデン
プンであれば、10乃至20PP111(0.001−
0.002重量%)、ポリアクリル酸ナトリウム系、又
は、アクリルアマイド系等の合成有機高分子であれば、
0.5乃至2PPII1(5×10−5乃至2×10−
4重量%)程度添加される。スラリーを循環することに
より、沈澱の大きさは大きくなり、沈降速度は増大し、
沈澱のf過性、圧縮性はよくなるので、1乃至2m/時
の上昇速度のシツクナ一を用いてえられるオーバーフロ
ー中の沈澱量は、20乃至5PF(0.002乃至5×
10−4重量%つ程度になしうる。従つて、この上澄液
を直接リーフフイルタ一もしくは、活性炭等を沢過助剤
としたフイルタ一等にかけて、沢過することが出来る。
この沢液中には、また、カルシウムイオンは、20P潟
(0.002重量%)以下、マグネシウムイオンは1p
pIn(1X10−4重量?)以下、その他鉄等の重金
属イオン等が溶存しているので、さらに、キレート樹脂
にて、イオン交換させ、カルシウム、マグネシウム、鉄
等の重金属イオン等は、いずれも0.1PPII1(1
×10−5重量?)以下にするのが陽イ゛オン交換膜の
電解槽に対して好ましい。これ以上では、陽イオン交換
膜に蓄積し、電圧る上昇させる恐れがある。次に、シリ
カと陽イオン交換膜との関連について述べる。
天然に存在するシリカは、共重合している重金属イオン
の種類や量、生成条件、液のPH等により、溶解度や重
合度、コロイドやゲルの安定性や等電点等が、著しく変
化することが知られている。
食塩溶液中に溶解もしくは、分散しているポリシリカを
正確に定量することは困難だが、可溶性シリカについて
は、ケイモリブデン酸ブルー法により、定量できる。従
つて、ポリシリカと平衡関係にある可溶性シリカを定量
することにより、これを指標として、塩水精製工程を管
理することが出来る。従つて、可溶性シリカの量で管理
してみると、陽極系、食塩溶解系、塩水精製系は、クロ
ーズドシステムであり、不純物の沈澱と共に排出させる
以外に、シリカが排出される場所がないので、本発明を
用いなければシリカは、順次系内に蓄積し、精製した塩
水中の可溶性/シリカの量は、20乃至30pp[n(
0.002乃至0.003重量%)にもなりうる。この
様な状態では、陽イオン交換膜の陽極側面にはポリシリ
カが約19/TI程度蓄積し、附着し、これが原因で、
50A/dイの電流密度で電解した場合、約0.2乃至
0.3Vの電解電圧が上昇する。
この様な状態をさけるためには、本発明を適用すること
により、精製塩水中の可溶性シリカの量を4PI1n(
0.0004重量%)以下にすることが必要である。シ
リカ量4PP1I1(0.0004重量%)をモル/リ
ツトルの単位で表示すれば次の通りである。
SiO2分子量・・・60.09飽和食塩水比重(15
℃ 5.018NNaCt・・・293.2929/t
)・・・1.18961g/Cc4PP[11=4×1
0−69−SiO2/9一塩水4X10−6×100F
/TXl.l896l2虐=7.91X10−560.
09m0t/t 尚.本発明に適用しうる陽イオン交換膜としては、弗素
樹脂を母体としたパーフロロスルホン酸型や、パーフロ
ロカルボン酸型や、パーフロロスルホンアミド型の陽イ
オン交換基をもつものが好ましい。
本発明を適用しうる電解槽としては、陽イオン交換膜に
より、陰極室と陽極室に分割され、陽極室には、゜食塩
水が供給せられ、塩素ガスを発生し、陰極室には、苛性
ソーダと水素ガスを生成するものが好ましい。実施例
1 第1図のフローシートに於て、1は陽イオン交換膜、2
は陽極室、3は陰極室、4は陽極液タンク、5は陰極液
タンク、6は塩素ガスライン、7は水素ガスライン、8
は濃度3109/tの食塩を含む精製塩水ライン、9は
陰極室中の苛性ソーダ濃度を調節するための純水ライン
、4と2とは循環されていて、この一部の淡塩水がライ
ン10をへて排出される。
5と3も循環されていて、生成された苛性ソーダが、ラ
イン11をへて排出される。
12は、脱塩素塔、13は苛性ソーダのラインで、食塩
溶解塔15での団が4乃至9になる様に、添加される。
14は水のラインで、陽イオン交換膜を通して、陽極室
より陰極室へ移動する水や、塩素ガスに同伴される水な
ど、系中で消費される水を補給する。
15は食塩溶解塔である。
16は固形の食塩、17は反応槽、18は苛性ソーダ、
19は炭酸ソーダ、20は塩化バリウム、又は炭酸バリ
ウム、21は不純物の沈澱を循環するライン、22はシ
ツクナーへのフイードライン、23は凝集剤の添加ライ
ン、24はシツクナー、25は系外に排出される不純物
の沈澱、26はシツクナーのオーバーフローを沢過する
フイルター27はキレート樹脂による陽イオン交換塔、
28は陽極室の団を一定に保つための塩酸のフイードラ
インである。
このフローに於いて、ライン8より食塩3109/t、
カルシウムイオン20ppb(2×10−6重量%)、
マグネシウムイオン10ppb(1X10−6重量部)
、硫酸根1.5g/t1になる様に精製された塩水が添
加され、かつ35%塩酸が、ライン28より添加される
ことにより陽極室タンクの中の塩水は、1809/t.
PH2に保たれている。
これと同一組成の塩水が、ライン10をへて排出される
ライン13によりpHが4乃至9に調節され、食塩溶解
塔に送られる。
16より添加される食塩の組成は、平均してのものであ
つた。
これを溶解し反応させて、フイルタ−26の沢液中に溶
存するになる様に、反応槽にて、苛性ソーダ、炭酸ソー
ダ、炭酸バリウムを添加した。
従つて、食塩飽和槽出口液1t当り の沈澱が生成される。
これに対し、シツタナーのアンダーフローより約80f
l/tの沈澱を含有するスラリーを、反応槽に循環させ
、反応槽出口の沈澱の濃度を種々に変化させた時、フイ
ルタ−26の出口沸液中の可溶性シリカや、その他の重
金属濃度を測定した結果を第1表に示す。
尚、反応槽の温度は、60℃で滞留時間約10分、pH
は約10.2である。
ライン23より、ポリアクリルアマイド系高分子凝集剤
を0.7PF(7×10−5重量%)添加した。
シツクナーは、約1m/時の上昇速度になる様に使用し
た結果、シツクナーのオーバーフロー中の沈澱量は、約
10PPIIl(0.001重量%)であつた。第1表
を見れば、スラリーの循環量が増大するにつれて、可溶
性シリカや重金属類が共沈して、濃度が下がるのがわか
る。
かくして、可溶性シリカの濃度を約4PF1(0.00
04重量%)に保ち、且つ、さらに、キレート樹脂の入
つた陽イオン交換塔27にて、カルシウムイオン20p
pb1マグネシウムイオン10ppb(1×10−5重
量%)になるまで精製された食塩水を、陽極液タンクに
添加して電解した。
パーフロロスルホン酸型の陽イオン交換膜を用いて、5
0A/Dwlの電流密度で90℃で電解した時、電解電
圧は4.2Vであつた。尚、ライン21により、スラリ
ーを循環しなかつた時には、ライン8における可溶性シ
リカの濃度は約19PF(0.0019重量%)に迄上
昇して平衡し、その時の電解電圧は、約4.5であつた
。実施例 2 本実施料に於ては塩化カルシウム法を用いて、塩水精製
が行われた。
第2図の如く食塩溶解槽出口ライン34の一部を分枝し
て、ライン29をへて、アクセラレーダー31に於て、
塩化カルシウムをライン30により添加する。
そして、石膏を32より排出させる。オーバーフローは
、ライン33をへて、再びライン34にもどし、次いで
、反応槽17へ添加し、ここで、苛゛囲ソーダ、又は消
石灰18、炭酸ソーダ19、塩化第二鉄35及び、沈澱
のスラリー21が添加される。その他は、すべて、第1
図と同じフローであり運転条件もほぼ、実施例1と同じ
である。
(尚、第2図中、第1図の番号と同一番号は、第1図と
同じ意味である。)16より添加される、食塩の組成は
平均して、のものであつた。
これを溶解し、反応させて、 沢液中に溶存する成分が、 フイルタ一26の になる様に、苛姓ソーダ、炭酸ソーダ、及び塩化第二鉄
を添加した。
尚、塩化カルシウムは、バツチ式に添加して運転した。
従つて、食塩飽和槽出口液1t当り の沈澱が生成される。
これに対し、アクセラレーダー31の反応室には、石膏
の沈澱を約1009/tの濃度で懸濁させ、反応槽17
の出口ライン中の沈澱のスラリー濃度は、約69/tに
保つ様に、シツクナ一24のアンダーフロー21を循環
した。
かくして、フイルタ一26の出口液中の、可溶性シリカ
の濃度を、約4pp[n(0.0004重量%)に保ち
得た。
さらに、キレート樹脂の入つた陽イオン交換塔27にて
、カルシウムイオン、約20ppb(2X10−6重量
70)、マグネシウムイオン、約10ppb(1×10
−6重量%)になるまで、精製された食塩水を陽極液タ
ンクに添加して電解した。
パーフロロスルホン酸型の陽イオン交換膜を用いて、5
0A/dイの電流密度で、90℃で電解した時の電解電
圧は、4.2Vであつた。尚、21のラインにより、ス
ラリーを循環しなかつた時には、ライン8に於ける可溶
性シリカの濃度は、約19PF(0.0019重量%)
に迄上昇して平衡し、その時の電解電圧は、約4.4V
であつた。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の塩水精製法を適用した食塩の電解方
法のフローシートを示したものである。 第2図は、第1図の一部を変更し、塩化カルシウムによ
る精製法を用いて本発明を適用したフローシートを示す
ものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 陽イオン交換膜により陽極室と陰極室とに分割した
    電解槽の陽極室に食塩水を供給しつつ電解し、塩素と苛
    性ソーダを製造する際に、陽極室に供給する食塩水が、
    不純物の沈澱スラリーを循環し、共存せしめた状態で、
    pH8乃至11の範囲に維持し、不純物を沈降分離する
    ための薬剤を添加することによつてシリカを共沈させ、
    シリカ濃度4ppm(0.0004重量%)以下に維持
    し、さらにキレート樹脂により重金属イオンを除去した
    精製食塩水であることを特徴とする電解方法。 2 不純物の沈澱のスラリー濃度が、0.3重量%以上
    に保たれた状態に於いて、不純物を沈降分離させるため
    の薬剤を添加する特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 シツクナーにて沈降した不純物の沈澱を循環する特
    許請求の範囲第1項又は第2項記載の方法。 4 不純物の沈澱が水酸化マグネシウム、炭酸カルシウ
    ム、水酸化鉄、硫酸バリウム、石膏より選ばれたもので
    ある特許請求の範囲第1項〜第3項のいずれか一項に記
    載の方法。 5 不純物を沈降分離するための薬剤が、苛性ソーダ、
    炭酸ソーダ、水酸化カルシウム、塩化カルシウム、塩化
    バリウム、炭酸バリウム、塩化第2鉄より選ばれたもの
    である特許請求の範囲第1項〜第4項のいずれか一項に
    記載の方法。 6 食塩を溶解する際に、電解槽の陽極室より排出され
    た淡塩水に、アルカリを加えpHを4乃至9に保つたの
    ち食塩を溶解する特許請求の範囲第1項〜第6項のいず
    れか一項に記載の方法。
JP52044504A 1977-04-20 1977-04-20 イオン交換膜を用いた食塩水の電解方法 Expired JPS5943556B2 (ja)

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