JPS61159592A - 戻り塩水の処理方法 - Google Patents
戻り塩水の処理方法Info
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- JPS61159592A JPS61159592A JP19214685A JP19214685A JPS61159592A JP S61159592 A JPS61159592 A JP S61159592A JP 19214685 A JP19214685 A JP 19214685A JP 19214685 A JP19214685 A JP 19214685A JP S61159592 A JPS61159592 A JP S61159592A
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- Japan
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- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、イオン交換膜を隔膜として用−る隔膜法によ
る塩化アルカリ水溶液の電解工程より排出される戻り塩
水のうち脱塩素工程以後の部分Ｃ以下被処理戻り塩水と
もいう）の処理方法に関する。特に被処理戻り塩水と接
するパイプ、バルブ、タンク、容器、攪拌機その他の装
置にチタン材が使用されている場合の処理方法を提供す
るものである。
る塩化アルカリ水溶液の電解工程より排出される戻り塩
水のうち脱塩素工程以後の部分Ｃ以下被処理戻り塩水と
もいう）の処理方法に関する。特に被処理戻り塩水と接
するパイプ、バルブ、タンク、容器、攪拌機その他の装
置にチタン材が使用されている場合の処理方法を提供す
るものである。
ここでチタン材とは、純チタン材；パラジウムその他の
成分を意識的に又は不可避的に包含するチタン組成物、
例えばチタン含有合金等の総称であり、該チタンのみで
製られたもの及びチタン材をライニングその他の方法で
施したものが本発明の対象となる。
成分を意識的に又は不可避的に包含するチタン組成物、
例えばチタン含有合金等の総称であり、該チタンのみで
製られたもの及びチタン材をライニングその他の方法で
施したものが本発明の対象となる。
従来、イオン交換膜を隔膜として用−る隔膜法忙よる塩
化アルカリ、就中塩化ナトリウム、塩化カリウムの電解
（以下単に隔膜法電解ともいう）Ｉ／Ｃ１ｈつては、陰
極室内で生成する水酸イオンが陽イオン交換膜よりなる
隔膜を通して陽極室に水酸イオンが移行し、これが塩素
と反応又は放電するととくよる電流動車の低下を従たす
のを防ぐために塩酸を添加する場合が多くある。また陽
極室で発生する塩素に起因して塩酸も生成するため、必
然的に戻り塩水中に塩酸が存在する。
化アルカリ、就中塩化ナトリウム、塩化カリウムの電解
（以下単に隔膜法電解ともいう）Ｉ／Ｃ１ｈつては、陰
極室内で生成する水酸イオンが陽イオン交換膜よりなる
隔膜を通して陽極室に水酸イオンが移行し、これが塩素
と反応又は放電するととくよる電流動車の低下を従たす
のを防ぐために塩酸を添加する場合が多くある。また陽
極室で発生する塩素に起因して塩酸も生成するため、必
然的に戻り塩水中に塩酸が存在する。
一方、隔膜法電解装置にあっては、湿潤状態での塩素を
取り扱う関係で、装置の腐食な防止する必要があり、一
般に陽極室はチタン材で製られている。同様に、防食の
意味で戻り塩水の循環工程に屯しばしばチタン材が使用
される。また特に電解槽に塩水を供給するための供給口
ノズル等はチタン材よりなる場合が多い。
取り扱う関係で、装置の腐食な防止する必要があり、一
般に陽極室はチタン材で製られている。同様に、防食の
意味で戻り塩水の循環工程に屯しばしばチタン材が使用
される。また特に電解槽に塩水を供給するための供給口
ノズル等はチタン材よりなる場合が多い。
本発明者らの経験によると、これらのチタン材も塩化ア
ルカリと塩化水素との共存下にあっては、やはり腐食す
る。チタン材の腐食性について検討したところによると
、塩酸又は塩化ナトリウムの夫々の単独に対するより亀
、これらが共存する場合に腐食の進行は著しるしいので
ある。また隔膜法電解においては、一般にチタン材より
なる陽極室よりも、むしろ脱塩素処理後の装置類、特に
塩酸濃度の高す塩水供給系の装置が腐食されることを見
出し、その原因を研究した結果、本発明に至った。
ルカリと塩化水素との共存下にあっては、やはり腐食す
る。チタン材の腐食性について検討したところによると
、塩酸又は塩化ナトリウムの夫々の単独に対するより亀
、これらが共存する場合に腐食の進行は著しるしいので
ある。また隔膜法電解においては、一般にチタン材より
なる陽極室よりも、むしろ脱塩素処理後の装置類、特に
塩酸濃度の高す塩水供給系の装置が腐食されることを見
出し、その原因を研究した結果、本発明に至った。
即ち、本発明は、隔膜法電解の戻り塩水を脱塩素し、電
解槽に再供給するまでの工ａｋチタン材が使用されてい
る装置の腐食を防止する方法として、戻り塩水中に含ま
れる塩酸濃度を測定し、該塩酸量Ｘ規定に基づいて下式
（１）ｋより特定される値（Ｋ）以上で、且つその５０
重量以下の塩素を存在させることを特徴とする戻り塩水
の処理方法である。
解槽に再供給するまでの工ａｋチタン材が使用されてい
る装置の腐食を防止する方法として、戻り塩水中に含ま
れる塩酸濃度を測定し、該塩酸量Ｘ規定に基づいて下式
（１）ｋより特定される値（Ｋ）以上で、且つその５０
重量以下の塩素を存在させることを特徴とする戻り塩水
の処理方法である。
Ｋ＝ＡＸ ＋ＢＸ−１−Ｃ（１）
但し、Ｘは限婿塩素量（重量ＰＰＭ） ： Ａ 。
Ｂ及びＣは、適用する温度（℃）ｔｆｃよって次の各式
忙よって求められる定数である。
忙よって求められる定数である。
Ａ ＝ ５．５５ ｘ １ ｏ−３Ｔ”＋ １７．５
（２）Ｂ＝１．３９×１０−４Ｔ２＋（ＬＩ
Ｔ＋２９．５（３）Ｃ−１，８５Ｘ １０＝Ｔ２＋０．
０６’！’−１２，８（４） ”ここで、隔膜法電解
と社陽極及び陰極間に隔膜として、陽イオン交換膜を１
枚以上存在させて、所謂陽極室及び陰極室を形成し、陽
極室に塩化アルカリ水溶液を供給して電解を行う方法の
総称である。隔膜としては、実質的に非透水性である陽
イオン交換膜、一般にはパーフルオロカーボン系の陽イ
オン交換相脂膜が使用される。
（２）Ｂ＝１．３９×１０−４Ｔ２＋（ＬＩ
Ｔ＋２９．５（３）Ｃ−１，８５Ｘ １０＝Ｔ２＋０．
０６’！’−１２，８（４） ”ここで、隔膜法電解
と社陽極及び陰極間に隔膜として、陽イオン交換膜を１
枚以上存在させて、所謂陽極室及び陰極室を形成し、陽
極室に塩化アルカリ水溶液を供給して電解を行う方法の
総称である。隔膜としては、実質的に非透水性である陽
イオン交換膜、一般にはパーフルオロカーボン系の陽イ
オン交換相脂膜が使用される。
また隔膜法電解の工程を一般的に示すと第１図の如くな
る。本図において、１が電解槽であり、Ａが陽極室を、
Ｋが陰極室を夫々表す。電解された戻り塩水は、パイプ
１１より脱塩素塔２に導かれるが、通常食塩２．５〜４
０規定及び２００ ＰＰＭ １１度の塩素とｐＨ約１〜
２程度の塩酸を含む。しかるに、塩化アルカリの精製を
容易にするために、脱塩素処理を行うことにより、従来
ｔｆ１０ＰＰＭ以下の有効塩素量に減少させて、次の塩
化アルカリ飽和槽３へ、パイプ１２によって導入される
。
る。本図において、１が電解槽であり、Ａが陽極室を、
Ｋが陰極室を夫々表す。電解された戻り塩水は、パイプ
１１より脱塩素塔２に導かれるが、通常食塩２．５〜４
０規定及び２００ ＰＰＭ １１度の塩素とｐＨ約１〜
２程度の塩酸を含む。しかるに、塩化アルカリの精製を
容易にするために、脱塩素処理を行うことにより、従来
ｔｆ１０ＰＰＭ以下の有効塩素量に減少させて、次の塩
化アルカリ飽和槽３へ、パイプ１２によって導入される
。
ここで塩化アルカリ及び必要に応じて水を加えて、５規
定乃至は飽和塩化アルカリ溶液とし、パイプ１３にで精
製槽４に導く。ここで炭酸アルカリ又は苛性アルカリ等
を加えて、混在する不純物例えばカルシウム分、マグネ
シウム分又は重金属分を不溶性物質に変換し、パイプ１
４より、靜定檜５によってマッドを分離除去する。一般
に微量のカルシウム、マグネシウム又はイオン性の有機
物の存在が電解性能に影響をおよぼすため、図示してな
込が分離母液を更に高度な精製例えば、高性能濾過やキ
レート化剤（又は樹脂）によって処理することがある。
定乃至は飽和塩化アルカリ溶液とし、パイプ１３にで精
製槽４に導く。ここで炭酸アルカリ又は苛性アルカリ等
を加えて、混在する不純物例えばカルシウム分、マグネ
シウム分又は重金属分を不溶性物質に変換し、パイプ１
４より、靜定檜５によってマッドを分離除去する。一般
に微量のカルシウム、マグネシウム又はイオン性の有機
物の存在が電解性能に影響をおよぼすため、図示してな
込が分離母液を更に高度な精製例えば、高性能濾過やキ
レート化剤（又は樹脂）によって処理することがある。
このような場合には、塩水中の有効塩素含量は更に低下
し、実質的ｋＯになる場合もある。かくして得られた塩
水は、パイプ１５により貯槽６に入り、濃塩酸を１６よ
り供給して、通常０．０５規定乃至０．７規定の塩酸を
含む塩化アルカリ水溶液として、パイプ１７より電解槽
のＡＶｃ供給される。従って、チタン材の腐食は、脱塩
素基２より後に生ずるのであるが、特に塩酸濃度が高い
貯槽６以降において著じるしい。
し、実質的ｋＯになる場合もある。かくして得られた塩
水は、パイプ１５により貯槽６に入り、濃塩酸を１６よ
り供給して、通常０．０５規定乃至０．７規定の塩酸を
含む塩化アルカリ水溶液として、パイプ１７より電解槽
のＡＶｃ供給される。従って、チタン材の腐食は、脱塩
素基２より後に生ずるのであるが、特に塩酸濃度が高い
貯槽６以降において著じるしい。
本発明は、上記実状に鑑み検討した結果、塩酸を共存す
る塩化アルカリ水溶液によるチタン材の防食方法として
、塩素を存在させる方法を見出した。
る塩化アルカリ水溶液によるチタン材の防食方法として
、塩素を存在させる方法を見出した。
通常、塩素もまた金属材料に対して強い腐食性を有する
物質であることはよく知られている。チタン材は通常塩
素に対する耐食性は大きい材料とされて込るが、例えば
、「チタニウム・ジルコニウム１誌第１５巻２号（昭和
４２年２月）４０頁表２によるとＣＡＯ２：５〜６１７
１ 、 Ｃ１２： １．１５〜１．３４１１／Ｌで侵食
度け０，２５■／ｙｒである。また塩酸に塩素が共存す
る系においては、前記文献の表７ｋかいてチタンが０．
７５０ｍ／ｙｅａｒの割合で侵食されることが示されて
偽る。勿論塩酸のみｋよってもチタン材は腐食される。
物質であることはよく知られている。チタン材は通常塩
素に対する耐食性は大きい材料とされて込るが、例えば
、「チタニウム・ジルコニウム１誌第１５巻２号（昭和
４２年２月）４０頁表２によるとＣＡＯ２：５〜６１７
１ 、 Ｃ１２： １．１５〜１．３４１１／Ｌで侵食
度け０，２５■／ｙｒである。また塩酸に塩素が共存す
る系においては、前記文献の表７ｋかいてチタンが０．
７５０ｍ／ｙｅａｒの割合で侵食されることが示されて
偽る。勿論塩酸のみｋよってもチタン材は腐食される。
更に塩化アルカリ例えば食塩水また腐食性の物質である
ことが一般に知られている。
ことが一般に知られている。
一方、チタン材の防食方法として、種々の酸化性物質を
加えると有効であることが知られている。しかるに先に
述ぺた如＜、Ｃ１０２５〜６ｇ／ｌ混入した系ですら、
チタン材は腐食されるのである。即ち、チタンの防食手
段は、単に空気の吹き込みや酸化剤の使用が常に有効で
あるとは限らないのである。特に塩酸の存在する系では
酸化剤の選定と量によ 。
加えると有効であることが知られている。しかるに先に
述ぺた如＜、Ｃ１０２５〜６ｇ／ｌ混入した系ですら、
チタン材は腐食されるのである。即ち、チタンの防食手
段は、単に空気の吹き込みや酸化剤の使用が常に有効で
あるとは限らないのである。特に塩酸の存在する系では
酸化剤の選定と量によ 。
つて腐食量は大きく変化する。即ち、腐食に関与する系
の状態により、区々である。
の状態により、区々である。
そこで本発明は、隔膜法電解の戻り塩水即ち５０℃乃至
１００℃の間の温度にあり且つ塩化アルカリを５０１１
７１乃至飽和濃度で、これに０．７規定以下、特に０．
０５規定乃至０．６規定の塩酸を含有する場合における
最も経済的なチタン材の防食方法を提供する本のである
。従って隔膜法電解に訃いて、通常電解槽に供給される
時の如く０．１規定以上の塩酸を含有する場合は極めて
有効となる。
１００℃の間の温度にあり且つ塩化アルカリを５０１１
７１乃至飽和濃度で、これに０．７規定以下、特に０．
０５規定乃至０．６規定の塩酸を含有する場合における
最も経済的なチタン材の防食方法を提供する本のである
。従って隔膜法電解に訃いて、通常電解槽に供給される
時の如く０．１規定以上の塩酸を含有する場合は極めて
有効となる。
本発明者らの実験によれば、本発明の効果は極めて顕著
であり、使用する塩素の有効量の下限は、溶存する塩酸
量（規定）と温度とｋよって、明確に決まるのである。
であり、使用する塩素の有効量の下限は、溶存する塩酸
量（規定）と温度とｋよって、明確に決まるのである。
例えば、第２図（６０℃の場合）及び第３図（９０℃の
場合）ｋ数例を示す。
場合）ｋ数例を示す。
とれらの図は、縦軸に腐食速度（ｑ／ｄ−・ｄａｙ ）
を、横軸に使用塩素量を採り、溶液は４〜５規定の食塩
水（電解槽に供給する濃度範囲）を用い、塩酸量が０．
１規定、０．２規定及び０．５規定存在する場合につい
て示したものである。いずれの場合に訃いても、塩素存
在量が一定値まで減少して来ると急激に腐食が始まるこ
とがわかる。本明細書では、この腐食の始まり初める時
の塩素量を限界塩素量と称する。また、第２図における
６０℃の場合とｔＫ３図における９０℃の場合を比較す
ると明らかな如く、限界塩素量は、温度によって変化す
るのである。これらの関係を第４図により、更に明確に
示す。本図は３０℃、６０℃及び９０℃における食塩水
中の塩酸量と限界塩素量との関係であり、例えば０．２
規定の塩酸が存在する９０℃の食塩溶液に訃ける限界塩
素量は約２０ＰＰＭであるが、６０℃においては約７．
５ＰＰＭとなることを表す。本発明者らは、上述の関係
について極めて多くの実験を行う仁と忙より１重要な法
則を見出したのである。即ち、限界塩素量は、５０℃乃
至１００℃の間ではどの温度につ偽て亀、ほぼ塩ａｍ度
を変数とする二次曲線上にあることである。
を、横軸に使用塩素量を採り、溶液は４〜５規定の食塩
水（電解槽に供給する濃度範囲）を用い、塩酸量が０．
１規定、０．２規定及び０．５規定存在する場合につい
て示したものである。いずれの場合に訃いても、塩素存
在量が一定値まで減少して来ると急激に腐食が始まるこ
とがわかる。本明細書では、この腐食の始まり初める時
の塩素量を限界塩素量と称する。また、第２図における
６０℃の場合とｔＫ３図における９０℃の場合を比較す
ると明らかな如く、限界塩素量は、温度によって変化す
るのである。これらの関係を第４図により、更に明確に
示す。本図は３０℃、６０℃及び９０℃における食塩水
中の塩酸量と限界塩素量との関係であり、例えば０．２
規定の塩酸が存在する９０℃の食塩溶液に訃ける限界塩
素量は約２０ＰＰＭであるが、６０℃においては約７．
５ＰＰＭとなることを表す。本発明者らは、上述の関係
について極めて多くの実験を行う仁と忙より１重要な法
則を見出したのである。即ち、限界塩素量は、５０℃乃
至１００℃の間ではどの温度につ偽て亀、ほぼ塩ａｍ度
を変数とする二次曲線上にあることである。
即ち、限界塩素量（Ｋ）は、次の式によって示される。
Ｋ＝ＡＸ ＋ＢＸ＋Ｃ（１）
尚上式は、第一現象だけをとり、Ｋの値は正であること
は言うまでもない。第４図において破線の部分は、塩素
が存在しな（でも、腐食を生じなりことを表している。
は言うまでもない。第４図において破線の部分は、塩素
が存在しな（でも、腐食を生じなりことを表している。
また（１）式中Ａ、Ｂ及びＣで示される定数は、温度に
よって変化する本のであるが、各種の温度に対する多く
の実験から、温度Ｔ（’Ｃ）ｋ：関する式として次の（
２）〜（４）に示す関係式ｂｔ得られた。即ち Ａ＝５．５５Ｘ１０−’Ｔ”＋１７．５ （
２）Ｂ＝１．５５）Ｘ１０＝Ｔ２＋０．２３Ｔ＋２９．
５ （３）ｃ＝１．８５ｘ１ｏ−’ｙ２十〇、Ｑ、６
Ｔ−１２，８（４）これらの（２）〜（４）式により、
求められる各Ａ、Ｂ及びＣの値を（１）弐に代入するこ
とにより、その温度での一酸濃度に対する限界塩素量が
求められるのである。それら数例を示すと第１表の如き
値となる。
よって変化する本のであるが、各種の温度に対する多く
の実験から、温度Ｔ（’Ｃ）ｋ：関する式として次の（
２）〜（４）に示す関係式ｂｔ得られた。即ち Ａ＝５．５５Ｘ１０−’Ｔ”＋１７．５ （
２）Ｂ＝１．５５）Ｘ１０＝Ｔ２＋０．２３Ｔ＋２９．
５ （３）ｃ＝１．８５ｘ１ｏ−’ｙ２十〇、Ｑ、６
Ｔ−１２，８（４）これらの（２）〜（４）式により、
求められる各Ａ、Ｂ及びＣの値を（１）弐に代入するこ
とにより、その温度での一酸濃度に対する限界塩素量が
求められるのである。それら数例を示すと第１表の如き
値となる。
第１表
また塩素の添加量の上限は、単にチタン材の腐食の観点
からは、特に問題はないが１本発明が隔膜法電解に関す
るものであり、プロセス上からも存在する塩素によるチ
タン材以外の部材の腐食を考慮しなければならない。
からは、特に問題はないが１本発明が隔膜法電解に関す
るものであり、プロセス上からも存在する塩素によるチ
タン材以外の部材の腐食を考慮しなければならない。
即ち、極〈微量の範囲で、しかも戻り塩水に存在する範
囲の塩酸による腐食を防止し得る量を用いる点に特徴が
あるのであって、これらの点から、使用する塩素は限界
塩素量乃至七の５０重量以下、好ましくは２０重量以下
の範囲に特定されるのである。
囲の塩酸による腐食を防止し得る量を用いる点に特徴が
あるのであって、これらの点から、使用する塩素は限界
塩素量乃至七の５０重量以下、好ましくは２０重量以下
の範囲に特定されるのである。
本発明の範囲内において、隔膜法電解プロセスの−かな
る部分に対しても、全く無害で且つ戻り塩水を処理する
工程におけるチタン材の腐食をも完全に防止し得るので
ある。
る部分に対しても、全く無害で且つ戻り塩水を処理する
工程におけるチタン材の腐食をも完全に防止し得るので
ある。
更に、本発明を実施するにあたっては、第１図に示した
フローシートに特に限定されるものではない。例えば、
脱塩素量での脱塩素量を調節することｋより、必要な塩
素含有量を適宜保つことができる。しかしながら、比較
的高温又は高塩酸濃度となる部分のある場合等で、比較
的高す塩素量を必要とする場合は次の精製１檻での性能
を低下させる場合本あり、破線１８で示す如く、脱塩前
の戻り塩水を一部バイパスして、必要な工程での塩素濃
度を確保することも好まし一方法である。
フローシートに特に限定されるものではない。例えば、
脱塩素量での脱塩素量を調節することｋより、必要な塩
素含有量を適宜保つことができる。しかしながら、比較
的高温又は高塩酸濃度となる部分のある場合等で、比較
的高す塩素量を必要とする場合は次の精製１檻での性能
を低下させる場合本あり、破線１８で示す如く、脱塩前
の戻り塩水を一部バイパスして、必要な工程での塩素濃
度を確保することも好まし一方法である。
勿論、別途に塩素を必要な部分に供給することも可能で
ある。
ある。
実施例
第１図に示す如き戻り塩水処理工程によって約１００ｔ
／ｈｒ塩水をイオン交換膜を隔膜として用いた電解＠に
供給して食塩の電解を行った場合、第２表の組成となる
。
／ｈｒ塩水をイオン交換膜を隔膜として用いた電解＠に
供給して食塩の電解を行った場合、第２表の組成となる
。
第２表
し二゛・７
タン板片を吊り下げて、その腐食の状況を検討したとこ
ろ、上表１７の条件では１ケ月の平均的１６ＯＮ９／ｄ
−・ｄａｙの割合で腐食された。しかるに第１図１８の
パイプを蕗いて一部の戻り塩水を直接貯槽６に導入し槽
内の塩素量を４０ ＰＰＭ に保ったところ、１ケ月間
での腐食は全く認められなかった。
ろ、上表１７の条件では１ケ月の平均的１６ＯＮ９／ｄ
−・ｄａｙの割合で腐食された。しかるに第１図１８の
パイプを蕗いて一部の戻り塩水を直接貯槽６に導入し槽
内の塩素量を４０ ＰＰＭ に保ったところ、１ケ月間
での腐食は全く認められなかった。
第」図は本発明の隔膜法電解に関する代表的な工種図で
ある。１は電解槽、２は脱塩素基、′５は塩化アルカリ
飽和槽、４は精製槽。 ５は静定槽、６は貯槽である。第２図および第３図はそ
れぞれ６０℃と９０℃におけるチタンの腐食率と塩素量
との関係を示すものである。ｔＪＥ４図は各温度ｋ）け
る食塩水中の塩酸量と限界塩素量との関係を示すもので
ある。
ある。１は電解槽、２は脱塩素基、′５は塩化アルカリ
飽和槽、４は精製槽。 ５は静定槽、６は貯槽である。第２図および第３図はそ
れぞれ６０℃と９０℃におけるチタンの腐食率と塩素量
との関係を示すものである。ｔＪＥ４図は各温度ｋ）け
る食塩水中の塩酸量と限界塩素量との関係を示すもので
ある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、イオン交換膜を隔膜として用いる隔膜法塩化アルカ
リ電解の戻り塩水を脱塩素し電解槽に再供給するまでの
工程にチタン材が使用されている装置の腐食を防止する
方法として、該戻り塩水中に含まれる塩酸濃度を測定し
、該塩酸量Ｘ（規定で表示する）に基づいて下式により
特定される値（Ｋ）以上で且つその５０重量以下の塩素
を存在させることを特徴とする戻り塩水の処理方法 Ｋ＝ＡＸ＾２＋ＢＸ＋Ｃ 但し、Ｋは限界塩素量（重量ＰＰＭ）；Ａ。 Ｂ及びＣは使用温度（Ｔ℃）によつて、次の各式によつ
て求められる定数である。 Ａ＝５．５５×１０＾−＾３Ｔ＾２＋１７．５Ｂ＝１．
３９×１０＾−＾４Ｔ＾２＋０．２３Ｔ＋２９．５Ｃ＝
１．８５×１０＾−＾３Ｔ＾２＋０．０６Ｔ−１２．８
２、被処理戻り塩水が５０℃〜９０℃である特許請求の
範囲第１項記載の方法 ３、被処理戻り塩水が０．７規定以下の塩化水素を含有
している特許請求の範囲第１項記載の方法 ４、被処理戻り塩水が５０ｇ／ｌ乃至飽和濃度の食塩水
である特許請求の範囲第１項記載の方法 ５、脱塩素処理される以前の戻り塩水の一部を被処理戻
り塩水に混合することにより、塩素存在量を調整する特
許請求の範囲第１項記載の方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19214685A JPS61159592A (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 戻り塩水の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19214685A JPS61159592A (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 戻り塩水の処理方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51113586A Division JPS5910436B2 (ja) | 1976-09-24 | 1976-09-24 | 戻り塩水の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61159592A true JPS61159592A (ja) | 1986-07-19 |
| JPH0141715B2 JPH0141715B2 (ja) | 1989-09-07 |
Family
ID=16286459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19214685A Granted JPS61159592A (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 戻り塩水の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61159592A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6425992A (en) * | 1987-07-21 | 1989-01-27 | Toa Gosei Chem Ind | Method for removing chlorate in salt water |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50120492A (ja) * | 1974-03-07 | 1975-09-20 |
-
1985
- 1985-09-02 JP JP19214685A patent/JPS61159592A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50120492A (ja) * | 1974-03-07 | 1975-09-20 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6425992A (en) * | 1987-07-21 | 1989-01-27 | Toa Gosei Chem Ind | Method for removing chlorate in salt water |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0141715B2 (ja) | 1989-09-07 |
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