JPS5935906B2 - 2,4,6−トリ(3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジル)フエノ−ルの製造方法 - Google Patents
2,4,6−トリ(3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジル)フエノ−ルの製造方法Info
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- JPS5935906B2 JPS5935906B2 JP55184953A JP18495380A JPS5935906B2 JP S5935906 B2 JPS5935906 B2 JP S5935906B2 JP 55184953 A JP55184953 A JP 55184953A JP 18495380 A JP18495380 A JP 18495380A JP S5935906 B2 JPS5935906 B2 JP S5935906B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は2,4,6−トリ(3,5−ジアルキル−4−
ヒドロキシベンジル)フエノールの新規な製造方法に関
する。
ヒドロキシベンジル)フエノールの新規な製造方法に関
する。
2,4,6−トリ(3,5−ジアルキル−4−ヒドロキ
シベンジル)フエノールは酸化防止剤として知られてい
る。
シベンジル)フエノールは酸化防止剤として知られてい
る。
この化合物の製造方法は米国特許第3,053,803
号、同第3,522,318号および同第3,925,
488号明細書などに教示されている。しかし、これら
従来方法では目的化合物を高収率で得ることができなか
つた。更に、2,4,6−トリ(3,5−ジアルキル−
4−ヒドロキシベンジル)フエノール自体の酸化防止効
果も必ずしも十分であるとは言い難い面があつた。本発
明者は2,4,6−トリ(3,5−ジアルキル−4−ヒ
ドロキシベンジル)フエノールを高収率で製造できる新
規な方法を発見した。更に、この化合物を出発物質とし
て使用し、一層高い酸化防止効果を有する多核ヒンダー
ドフエノールを製造できることを発見した。従つて、本
発明の目的は2,4,6−トリ(3,5−ジアルキル−
4−ヒドロキシベンジル)フエノールの新規な製造方法
を提供することである。
号、同第3,522,318号および同第3,925,
488号明細書などに教示されている。しかし、これら
従来方法では目的化合物を高収率で得ることができなか
つた。更に、2,4,6−トリ(3,5−ジアルキル−
4−ヒドロキシベンジル)フエノール自体の酸化防止効
果も必ずしも十分であるとは言い難い面があつた。本発
明者は2,4,6−トリ(3,5−ジアルキル−4−ヒ
ドロキシベンジル)フエノールを高収率で製造できる新
規な方法を発見した。更に、この化合物を出発物質とし
て使用し、一層高い酸化防止効果を有する多核ヒンダー
ドフエノールを製造できることを発見した。従つて、本
発明の目的は2,4,6−トリ(3,5−ジアルキル−
4−ヒドロキシベンジル)フエノールの新規な製造方法
を提供することである。
本発明は下記式(I)(式中、Rは同一または異なるC
1〜C4アルキル基であり;R7は水素またはメチル基
であり; R6は水素、ヒドロキシルまたはメチルである。
1〜C4アルキル基であり;R7は水素またはメチル基
であり; R6は水素、ヒドロキシルまたはメチルである。
)で表わされる化合物の製造方法であつて、該方法は、
3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジルアルコー
ル(但し、アルキル基は同一または異なる炭素原子1〜
4個のアルキル基である)または3,5−ジアルキル−
4−ヒドロキシベンジルアルキルエーテル(但し、エー
テルのアルキル基は1〜6個の炭素原子を有し、3,5
−ジアルキル基は同一または異なる炭素原子1〜4個の
アルキル基である)を、フエノール、m−ジヒドロキシ
ベンゼン、3−メチルフエノール及び3,5一ジメチル
フエノールからなる群から選ばれる芳香族ヒドロキシ化
合物と、蟻酸及び酢酸からなる群から選ばれる有機酸の
存在下で反応させることを特徴とする。上記一般式中の
Rは同一または異なる炭素原子1〜4個のアルキル基で
ある。
3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジルアルコー
ル(但し、アルキル基は同一または異なる炭素原子1〜
4個のアルキル基である)または3,5−ジアルキル−
4−ヒドロキシベンジルアルキルエーテル(但し、エー
テルのアルキル基は1〜6個の炭素原子を有し、3,5
−ジアルキル基は同一または異なる炭素原子1〜4個の
アルキル基である)を、フエノール、m−ジヒドロキシ
ベンゼン、3−メチルフエノール及び3,5一ジメチル
フエノールからなる群から選ばれる芳香族ヒドロキシ化
合物と、蟻酸及び酢酸からなる群から選ばれる有機酸の
存在下で反応させることを特徴とする。上記一般式中の
Rは同一または異なる炭素原子1〜4個のアルキル基で
ある。
このようなアルキル基は直鎖でも分枝していてもよい。
Rは例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、Sec−ブチル、Tert−ブチ
ルである。
Rは例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、Sec−ブチル、Tert−ブチ
ルである。
好適な3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジルア
ルコールには3,5−ジ一t−ブチルー4−ヒドロキシ
ベンジルアルコール、3,5−ジエチル−4−ヒドロキ
シベンジルアルコール、3−メチル−5−t−ブチル−
4−ヒドロキシベンジルアルコール、及び3,5−ジイ
ソプロピル−4−ヒドロキシベンジルアルコールが含ま
れる。
ルコールには3,5−ジ一t−ブチルー4−ヒドロキシ
ベンジルアルコール、3,5−ジエチル−4−ヒドロキ
シベンジルアルコール、3−メチル−5−t−ブチル−
4−ヒドロキシベンジルアルコール、及び3,5−ジイ
ソプロピル−4−ヒドロキシベンジルアルコールが含ま
れる。
3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジルアルキル
エーテルとしては3,5−ジ一t−ブチル−4−ヒドロ
キシベンジルメチルエーテル、3,5−ジオクチル−4
−ヒドロキシベンジルブチルエーテル、3−メチル−5
−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルエチルエーテル
、及び3,5−ジイソプロピル−4−ヒドロキシベンジ
ルヘキシルエーテルが使用できる。
エーテルとしては3,5−ジ一t−ブチル−4−ヒドロ
キシベンジルメチルエーテル、3,5−ジオクチル−4
−ヒドロキシベンジルブチルエーテル、3−メチル−5
−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルエチルエーテル
、及び3,5−ジイソプロピル−4−ヒドロキシベンジ
ルヘキシルエーテルが使用できる。
公知文献の教示するところによれば強酸、例えば塩化水
素、硫酸またはFriedel− Crafts触媒(
例えば、塩化第二鉄、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、及
び三弗化ホウ素)の存在下、3,5一ジアルキル一4−
ヒドロキシベンジルアルコールまたはそのアルキルエー
テル誘導体及び1)式(式中、Xは任意に置換されたア
ルキル、シクロアルキル、アラルキルまたはアリール基
であり、Yは同一または異なつていてもよい水素または
アルキル基、例えばジメチルアニソール(米国特許第3
,522,318号、1970年7月28田S・Ash
tOnetal),2)環炭素原子に結合した1〜3個
のヒドロキシル置換基を有し、少なくとも1個の、環炭
素原子に結合した置換可能な水素原子を有している単環
アリール化合物、例えば、モノ、ジ及びトリヒドロキシ
ベンゼン(米国特許第3,053,803号、1962
年9月11日、GS.Jeffeetal)またはp−
トルエンスルホン酸の存在下でメシチレン(米国特許第
3,925,488号、1975年12月9日K.H.
Shin)の反応が行なわれている。
素、硫酸またはFriedel− Crafts触媒(
例えば、塩化第二鉄、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、及
び三弗化ホウ素)の存在下、3,5一ジアルキル一4−
ヒドロキシベンジルアルコールまたはそのアルキルエー
テル誘導体及び1)式(式中、Xは任意に置換されたア
ルキル、シクロアルキル、アラルキルまたはアリール基
であり、Yは同一または異なつていてもよい水素または
アルキル基、例えばジメチルアニソール(米国特許第3
,522,318号、1970年7月28田S・Ash
tOnetal),2)環炭素原子に結合した1〜3個
のヒドロキシル置換基を有し、少なくとも1個の、環炭
素原子に結合した置換可能な水素原子を有している単環
アリール化合物、例えば、モノ、ジ及びトリヒドロキシ
ベンゼン(米国特許第3,053,803号、1962
年9月11日、GS.Jeffeetal)またはp−
トルエンスルホン酸の存在下でメシチレン(米国特許第
3,925,488号、1975年12月9日K.H.
Shin)の反応が行なわれている。
これら公知文献の教示は式田で表わされる化合物を製造
するための本発明の新規な蟻酸または酢酸で促進させる
方法とは、反応触媒として塩化水素、硫酸、Fried
el−Crafts触媒(例えば、塩化第二鉄、塩化亜
鉛、塩化アルミニウム及び三弗化ホウ素)またはp−ト
ルエンスルホン酸を本発明の蟻酸または酢酸の代りに用
いていることにより明確に異なる。式山で表わされる化
合物の従来技術の製造方法の強酸触媒はこの方法中脱ア
ルキル化反応を促進する。
するための本発明の新規な蟻酸または酢酸で促進させる
方法とは、反応触媒として塩化水素、硫酸、Fried
el−Crafts触媒(例えば、塩化第二鉄、塩化亜
鉛、塩化アルミニウム及び三弗化ホウ素)またはp−ト
ルエンスルホン酸を本発明の蟻酸または酢酸の代りに用
いていることにより明確に異なる。式山で表わされる化
合物の従来技術の製造方法の強酸触媒はこの方法中脱ア
ルキル化反応を促進する。
これらの脱アルキル化反応は1)所望のトリス3,5−
ジアルキル−4−ヒドロキシベンジル置換ベンゼン核生
成物の収率を下げ、2)望ましくない副生成物(例えば
、モノ及びジ3,5一ジアルキル一4−ヒドロキシベン
ジル置換ベンゼン核生成物)の濃度を高め、3)所望の
トリス置換生成物を単離するための分離工程を複雑にす
る及び/または長びかせることにより処理上の困難さを
高め、そして4)所望のトリス置換生成物を生成させる
反応速度を低下させる反応条件の使用を必要とし、従つ
て所望のトリス置換生成物を製造するための処理時間及
び費用を高める。式(I)で表わされる化合物を製造す
るための本発明の方法によれば、公知文献に記載されて
いたような強酸触媒の使用はもはや必要ではない。
ジアルキル−4−ヒドロキシベンジル置換ベンゼン核生
成物の収率を下げ、2)望ましくない副生成物(例えば
、モノ及びジ3,5一ジアルキル一4−ヒドロキシベン
ジル置換ベンゼン核生成物)の濃度を高め、3)所望の
トリス置換生成物を単離するための分離工程を複雑にす
る及び/または長びかせることにより処理上の困難さを
高め、そして4)所望のトリス置換生成物を生成させる
反応速度を低下させる反応条件の使用を必要とし、従つ
て所望のトリス置換生成物を製造するための処理時間及
び費用を高める。式(I)で表わされる化合物を製造す
るための本発明の方法によれば、公知文献に記載されて
いたような強酸触媒の使用はもはや必要ではない。
かくして、式(I)で表わされる化合物の製造に関する
上述した本発明の方法は有利なことに1)公知方法に従
つて知られた、付随する不利な強酸により誘発されたジ
アルキル化反応を克服し、かつ2)公知方法より著しく
改善された収率で式田の化合物を提供する。当業者によ
く知られているように、フエノール核(すなわち、環炭
素原子に結合している1個のヒドロキシル基を有するベ
ンゼン環)の環構造上の置換に対する反応性は環置換反
応が行なわれるべきとき環上に存在する他の置換基のタ
イプと数により変化する。
上述した本発明の方法は有利なことに1)公知方法に従
つて知られた、付随する不利な強酸により誘発されたジ
アルキル化反応を克服し、かつ2)公知方法より著しく
改善された収率で式田の化合物を提供する。当業者によ
く知られているように、フエノール核(すなわち、環炭
素原子に結合している1個のヒドロキシル基を有するベ
ンゼン環)の環構造上の置換に対する反応性は環置換反
応が行なわれるべきとき環上に存在する他の置換基のタ
イプと数により変化する。
かくして、式(I)で表わされる化合物を製造する上述
の本発明の方法に従つて用いられるフエノール、ジヒド
ロキシベンゼン、3一メチルフエノール及び3,5−ジ
メチルフエノールは3,5−ジアルキル−4−ヒドロキ
シベンジル置換反応に関して異なる反応性を呈すると期
待される。反応性におけるこのような変化は式(I)の
生成物の収率の変化において反映される。式田で表わさ
れる化合物を製造する上述の本発明方法において、これ
は3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジルアルコ
ールまたは3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジ
ルアルキルエーテルをフエノール、m−ジヒドロキシベ
ンゼン、3−メチルフエノール及び3,5−ジメチルフ
エノールからなる群より選ばれる化合物と蟻酸及び酢酸
からなる群より選択される有機酸の存在下で反応させる
工程からなるものであるが、このとき、無毒の溶媒、好
ましくは水に不溶の溶媒が使用できる。
の本発明の方法に従つて用いられるフエノール、ジヒド
ロキシベンゼン、3一メチルフエノール及び3,5−ジ
メチルフエノールは3,5−ジアルキル−4−ヒドロキ
シベンジル置換反応に関して異なる反応性を呈すると期
待される。反応性におけるこのような変化は式(I)の
生成物の収率の変化において反映される。式田で表わさ
れる化合物を製造する上述の本発明方法において、これ
は3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジルアルコ
ールまたは3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジ
ルアルキルエーテルをフエノール、m−ジヒドロキシベ
ンゼン、3−メチルフエノール及び3,5−ジメチルフ
エノールからなる群より選ばれる化合物と蟻酸及び酢酸
からなる群より選択される有機酸の存在下で反応させる
工程からなるものであるが、このとき、無毒の溶媒、好
ましくは水に不溶の溶媒が使用できる。
更に、この方法は0〜200℃、好ましくは70〜13
0℃の温度で行なうことができる。更に、この方法は減
圧下、大気圧下または加圧下で行なうことができる。空
気または好ましくは不活性雰囲気(例えば、N2,CO
2,HeまたはAr)が使用できる。蟻酸または酢酸触
媒の使用量は3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベン
ジルアルコールまたは3,5−ジアルキル−4−ヒドロ
キシベンジルアルキルエーテル1モル当り50〜750
gと変化できるが、反応条件の支配に応じこれより多い
または少ない量の蟻酸または酢酸が使用できる。本発明
の方法により得られた式田の化合物を出発物質とし、こ
れをC1〜C,8アルキルハライドC,〜Cl2の硫黄
のオキシ酸のアルキル塩、C2〜C,7アルキルモノカ
ルボン酸、C4〜C26非環式アルキル無水物、C2〜
C,7モノアルカノイルハライド、3,5−ジ(C1〜
C8アルキル)−4一ヒドロキシフエニルC2〜C5ア
ルカン酸及び3,5−ジ(C1〜C8アルキル)−4−
ヒドロキシフエニルC2〜C,アルカノイルハライドか
らなる群より選ばれる化合物と反応させることにより次
式()で示される化合物を製造できる。
0℃の温度で行なうことができる。更に、この方法は減
圧下、大気圧下または加圧下で行なうことができる。空
気または好ましくは不活性雰囲気(例えば、N2,CO
2,HeまたはAr)が使用できる。蟻酸または酢酸触
媒の使用量は3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベン
ジルアルコールまたは3,5−ジアルキル−4−ヒドロ
キシベンジルアルキルエーテル1モル当り50〜750
gと変化できるが、反応条件の支配に応じこれより多い
または少ない量の蟻酸または酢酸が使用できる。本発明
の方法により得られた式田の化合物を出発物質とし、こ
れをC1〜C,8アルキルハライドC,〜Cl2の硫黄
のオキシ酸のアルキル塩、C2〜C,7アルキルモノカ
ルボン酸、C4〜C26非環式アルキル無水物、C2〜
C,7モノアルカノイルハライド、3,5−ジ(C1〜
C8アルキル)−4一ヒドロキシフエニルC2〜C5ア
ルカン酸及び3,5−ジ(C1〜C8アルキル)−4−
ヒドロキシフエニルC2〜C,アルカノイルハライドか
らなる群より選ばれる化合物と反応させることにより次
式()で示される化合物を製造できる。
(式中、Rは同一または異なるC1〜C4アルキ基であ
り;R1は水素またはメチル基であり; R2はC1〜Cl8アルキル基、R4− C −または
であり;R3は水素、メチルまたはR2− O −であ
り:R4はC1〜Cl7アルキルであり;そしてXは1
〜4であり;但し、R3が水素またはメチルであるとき
、R2はでなければならない 式()の化合物は式(I)の2,4,6−トリ(3,5
−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジル)フエノールよ
りもすぐれた酸化防止性を有する。
り;R1は水素またはメチル基であり; R2はC1〜Cl8アルキル基、R4− C −または
であり;R3は水素、メチルまたはR2− O −であ
り:R4はC1〜Cl7アルキルであり;そしてXは1
〜4であり;但し、R3が水素またはメチルであるとき
、R2はでなければならない 式()の化合物は式(I)の2,4,6−トリ(3,5
−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジル)フエノールよ
りもすぐれた酸化防止性を有する。
式()の化合物の酸化防止性は特公昭58−20934
号公報に詳細に説明されている。以下、本発明の実施例
を示すが、これらは本発明を限定するものではない。
号公報に詳細に説明されている。以下、本発明の実施例
を示すが、これらは本発明を限定するものではない。
実施例中、特記しない限り割合や百分率は全て重量によ
り、また温度は摂氏による。比較例 この実施例は式(I)で表わされる中間体の公知方法に
よる製造を示したものである。
り、また温度は摂氏による。比較例 この実施例は式(I)で表わされる中間体の公知方法に
よる製造を示したものである。
従つてこれは比較例である。0.05Mのレゾルシノー
ル及び0.165Mの3,5−ジ一t−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジルアルコールを200ゴの塩化メチレン
に溶解した溶液に0゜Cで50gの80%H2SO4を
30分間要して添加した。
ル及び0.165Mの3,5−ジ一t−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジルアルコールを200ゴの塩化メチレン
に溶解した溶液に0゜Cで50gの80%H2SO4を
30分間要して添加した。
混合物を0−5゜Cで3時間撹拌し、1509の水で4
回洗浄した。塩化メチレンを真空ストリツピングにより
除去し、粗生成物を100Iのヘプタン及び159のキ
シレンから再結晶した。収量= 29.5g(理論量の
77.3%)融点=155−165℃IR=上記構造と
一致する。
回洗浄した。塩化メチレンを真空ストリツピングにより
除去し、粗生成物を100Iのヘプタン及び159のキ
シレンから再結晶した。収量= 29.5g(理論量の
77.3%)融点=155−165℃IR=上記構造と
一致する。
実施例 1
レゾルシノール(0.05M)を0.16Mの3,5−
ジ一 t −ブチル−4−ヒドロキシベンジルアルコー
ル、100gの蟻酸及び100gのVM&Pナフサと混
合した。
ジ一 t −ブチル−4−ヒドロキシベンジルアルコー
ル、100gの蟻酸及び100gのVM&Pナフサと混
合した。
混合物を窒素雰囲気中で5時間還流した。静置後、下層
の酸相(911)を除去し、ナフサ層から水分及び蟻酸
を還流により水捕集器に入れることによつて除去した。
20℃まで冷却することにより、生成物は白色結晶とし
て分離した。
の酸相(911)を除去し、ナフサ層から水分及び蟻酸
を還流により水捕集器に入れることによつて除去した。
20℃まで冷却することにより、生成物は白色結晶とし
て分離した。
収量= 36.39(理論量の95.0%)融点151
−154℃実施例 2 実施例1から回収した蟻酸(91g)及び補充分として
99の新しい蟻酸を用いて実施例1を繰返した。
−154℃実施例 2 実施例1から回収した蟻酸(91g)及び補充分として
99の新しい蟻酸を用いて実施例1を繰返した。
収量= 36.9g(理論量の96.5%)融点=15
0−154℃外観=白色粉末 IR=実施例と同一 この実施例は適当量の補充酸の添加により蟻酸が再循環
可能であることを示している。
0−154℃外観=白色粉末 IR=実施例と同一 この実施例は適当量の補充酸の添加により蟻酸が再循環
可能であることを示している。
実施例 3
0.16Mの3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロ
キシベンジルアルコールを用いた以外は実施例1の方法
を繰返した。
キシベンジルアルコールを用いた以外は実施例1の方法
を繰返した。
生成物を融点124−128℃の白色結晶固体として得
た。分子量−645(計算値639)ゲル透過クロマト
グラフイ一による。
た。分子量−645(計算値639)ゲル透過クロマト
グラフイ一による。
NMR
NMR
実施例
トグラフイ一による。
ノンヒンダード0H−4.74pprT1にプロトン吸
収ヒンダード0H−4.97及び5.03ppmにプロ
トン吸収。
収ヒンダード0H−4.97及び5.03ppmにプロ
トン吸収。
0.05Mの3,5−ジメチルフエノールに0.16M
の3,5−ジ一t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルメ
チルエーテル、1009の蟻酸及び1009のVM&P
ナフサを添加した。
の3,5−ジ一t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルメ
チルエーテル、1009の蟻酸及び1009のVM&P
ナフサを添加した。
混合物を窒素雰囲気中で4時間還流した。静置後、下層
の酸相(899)を除去し、ナフサ層から残留する水分
及び蟻酸を、水捕集器に還流することによつて除去した
。20℃に冷却した後、生成物は白色結晶として分離し
た。
の酸相(899)を除去し、ナフサ層から残留する水分
及び蟻酸を、水捕集器に還流することによつて除去した
。20℃に冷却した後、生成物は白色結晶として分離し
た。
収量=37.09(理論量の95.2(:!))融点=
203−205℃ NMR及びIRスペクトルはいずれも上記構造と一致し
た。
203−205℃ NMR及びIRスペクトルはいずれも上記構造と一致し
た。
実施例 5
蟻酸の代りに酢酸を用いた以外は実施例4と同じであつ
た。
た。
収量−34.19(理論量の8
融点−203−205論C
実施例 6
7.8(:f))
3,5−ジメチルフエノールの代りにメタクレゾールを
用いた以外は実施例4の方法を用いた。
用いた以外は実施例4の方法を用いた。
収量=21.09(理論量の55.101))融点=1
55−160℃ 卜1R=上記構造と一致した。
55−160℃ 卜1R=上記構造と一致した。
外観=白色結晶
実施例 7
3,5−ジメチルフエノールの代りにフエノールを用い
た以外は実施例4の方法を用いた。
た以外は実施例4の方法を用いた。
収量=20.4f!(理論量の54.5%)融点−12
2−125℃ 外観=白色粉末 IR=上記構造と一致した。
2−125℃ 外観=白色粉末 IR=上記構造と一致した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I )(式中、R
は同一または異なるC_1−C_4アルキル基であり;
R^1は水素またはメチル基であり; R^6は水素、ヒドロキシルまたはメチルである。 )で表わされる2,4,6−トリ(3,5−ジアルキル
−4−ヒドロキシベンジル)フェノールの製造方法にお
いて、3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジルア
ルコール(但し、アルキル基は同一または異なる炭素原
子1〜4個のアルキル基である)または3,5−ジアル
キル−4−ヒドロキシベンジルアルキルエーテル(但し
、エーテルのアルキル基は炭素原子を1〜6個有し、3
,5−ジアルキル基のアルキル基は同一または異なる炭
素原子1〜4個のアルキル基である)をフェノール、m
−ジヒドロキシベンゼン、3−メチルフェノール及び3
,5−ジメチルフェノールからなる群より選ばれる芳香
族ヒドロキシル化合物と、蟻酸及び酢酸からなる群より
選ばれる有機酸の存在下反応させる工程からなる前記製
造方法。2 有機酸の使用量は3,5−ジアルキル−4
−ヒドロキシベンジルアルコールまたは3,5−ジアル
キル−4−ヒドロキシベンジルアルキルエーテル1モル
当り50〜750gである特許請求の範囲第1項記載の
方法。 3 Rはtert−ブチルである特許請求の範囲第1項
記載の方法。 4 化合物の各3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベ
ンジル部分は1個のアルキル基としてメチル基及びもう
一方のアルキル基としてtert−ブチル基を有する特
許請求の範囲第1項記載の方法。 5 芳香族ヒドロキシル化合物はフェノールである特許
請求の範囲第1項記載の方法。 6 芳香族ヒドロキシル化合物はm−ジヒドロキシベン
ゼンである特許請求の範囲第1項記載の方法。 7 芳香族ヒドロキシル化合物は3−メチルフェノール
である特許請求の範囲第1項記載の方法。 8 芳香族ヒドロキシル化合物は3,5−ジメチルフエ
ノールである特許請求の範囲第1項記載の方法。 9 3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジルアル
コールを用いる特許請求の範囲第1項記載の方法。 10 3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジルア
ルキルエーテルを用いる特許請求の範囲第1項記載の方
法。 11 有機酸は蟻酸である特許請求の範囲第1、2、3
、4、5、6、7、8、9または10項記載の方法。 12 有機酸は酢酸である特許請求の範囲第1項記載の
方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US912171 | 1978-06-05 | ||
US05/912,171 US4173541A (en) | 1978-06-05 | 1978-06-05 | Polynuclear hindered phenols and stabilized organic materials containing the phenols |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS56138134A JPS56138134A (en) | 1981-10-28 |
JPS5935906B2 true JPS5935906B2 (ja) | 1984-08-31 |
Family
ID=25431482
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP54040863A Expired JPS5820934B2 (ja) | 1978-06-05 | 1979-04-04 | 多核ヒンダ−ドフエノ−ル |
JP55184953A Expired JPS5935906B2 (ja) | 1978-06-05 | 1980-12-25 | 2,4,6−トリ(3,5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジル)フエノ−ルの製造方法 |
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---|---|---|---|
JP54040863A Expired JPS5820934B2 (ja) | 1978-06-05 | 1979-04-04 | 多核ヒンダ−ドフエノ−ル |
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DE (1) | DE2917761C3 (ja) |
ES (1) | ES479875A1 (ja) |
FR (1) | FR2428020A1 (ja) |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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BE595512A (ja) | 1959-09-28 | |||
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NL131910C (ja) | 1960-07-11 | |||
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-
1979
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- 1979-03-22 BE BE0/194160A patent/BE875027A/xx not_active IP Right Cessation
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- 1979-06-04 GB GB7919434A patent/GB2024212B/en not_active Expired
-
1980
- 1980-12-25 JP JP55184953A patent/JPS5935906B2/ja not_active Expired
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