JPS5820934B2 - 多核ヒンダ−ドフエノ−ル - Google Patents

多核ヒンダ−ドフエノ−ル

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JPS5820934B2
JPS5820934B2 JP54040863A JP4086379A JPS5820934B2 JP S5820934 B2 JPS5820934 B2 JP S5820934B2 JP 54040863 A JP54040863 A JP 54040863A JP 4086379 A JP4086379 A JP 4086379A JP S5820934 B2 JPS5820934 B2 JP S5820934B2
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alkyl group
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ケネス・リチヤード・モルト
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は多核ヒンダードフェノール、これにより安定化
された有機組成物及び多核ヒンダードフェノールを製造
する方法に関する。
アルキル化フェノール、例えば2・6−シーtert−
ブチル−4−メチルフェノール及び各種ノ他のフェノー
ル誘導体、例えば2・6−ジ(3・5− シー ter
t −)fルー4−ヒドロキシベンジル)フェノールは
この分野でよく知られており、特に、酸化劣化、熱劣化
及び紫外線に誘発された分解を通常受は易い有機重合体
、自動車燃料、潤滑剤及び他の有機物質を安定化させる
ことに関連させて知られている。
市販の無数の有機物質(例えば、有機重合体、油、ワッ
クス及びグリース)が高温処理中及び使用中に劣化を受
け、従ってこのような物質をこのような劣化から保護す
るのが望ましい。
このような保護の一観点はこのような物質に酸化防止剤
を添加して酸化劣化を防ぐことである。
今までに、フェノール性化合物は低揮発性、着色、低水
準の活性、活性の短持続性及び高。
価というような様々な理由により高水準の酸化防止剤保
護を与えるのに困難であったり、用途が限られることが
見出されていた。
従ってこのような欠点を克服するのが非常に好ましい。
驚くべきことに、そして有利に、本発明の多核。
ヒンダードフェノールは、ポリオレフィンにたとえあっ
たとしても著しく着色を持たらすことなく、ポリオレフ
ィンに優れた劣化(例えば、熱及び/または酸化劣化)
に対する耐性を付与する。
不発※f明の多核ヒンダードフェノールはポリオレフィ
ンに優れた耐劣化性を付与するだけではなく、また他の
酸化に敏感な有機化合物により大きな耐劣化性を提供す
る。
本発明の目的は新規な多核ヒンダードフェノールを提供
することにある。
本発明の他の目的は従来技術のフェノール性酸化防止剤
の有する欠点が無い多核ヒンダードフェノール性酸化防
止剤を提供することにある。
本発明の更に別の目的は優れた安定化特性を有する多核
ヒンダードフェノールを提供することにある。
有機組成物に高水準の耐酸化性を付与する多核ヒンダー
ドフェノールを含有する有機組成物を提供することも更
に本発明の目的である。
本発明の更に別の目的は高収率で多核ヒンダードフェノ
ールを製造する方法を提供することにある。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明において優れた酸化防止活性を示し、従来のヒン
ダードフェノール酸化防止剤の顕著な欠点がない新規な
多核ヒンダードフェノールが見出された。
本発明の新規多核ヒンダードフェノールは酸化劣化を通
常受は易い有機物質における酸化防止剤として特に有用
である。
更に、酢酸及び蟻酸を用いる以下に示した一般式(I
)で表わされる多核ヒンダードフェノールを高収率で、
製造する新規方法が見出された。
本発明による多核ヒンダードフェノールはより詳しくは
以下の一般式による化合物である。
(式中、Rは同一または異なるC1−C8アルキル基で
あり: R1は水素またはメチル基であり; R2はcI C18アルキル基、 R3は水素、メチルまたはR2−0であり;R4はC,
−C1□アルキルであり;そしてXは1−4の整数であ
り: 但し、R3は水素またはメチルであるときはばならない
)更に、本発明によれば更に詳しくは酸化劣化を受は易
い有機物質及び上記一般式で表わされた多核ヒンダード
フェノール化合物を含有する安定化された有機組成物が
提供される。
本発明による多核ヒンダードフェノールの実施態様とし
て上記一般式中のRは同一または異なるアルキル基、特
に炭素原子1〜8個のアルキル基である。
このようなアルキル基は直鎖でも分枝していてもよい。
従って、Rはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル、インブチル、5ee−ブチル、tert−ブ
チル、ペンチル、インペンチル、ネオペンチル、1−メ
チルブチル、1−エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキ
シル、l−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3−
メチルペンチル、1−エチルブチル、3−エチルブチル
、オクチル、インオクチル、2−エチルヘキシル、■−
メチルヘプチルであってよい。
Rが炭素原子1〜8個のアルキル、更に好ましくはα炭
素原子上で分枝しているアルキル基であることが好まし
い。
本発明による多核ヒンダードフェノールの上記一般式に
よれば、R1は水素でもメチル基でもよい。
好ましくは、R2は分枝または直鎖アルキル基、例えば
メチル、エチル、ブチル、イソブチル、ヘキシル、オク
チル、2−エチルヘキシル、デシルおよびドデシルであ
ってよい。
R4は炭素原子17個以下の分枝または直鎖のアルキル
基であってよい。
かくして、R4はメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、5ee−ブチル、tert
−ブチル、ペンチル、インペンチル、ヘキシル、イソヘ
キシル、オクチル、2−エチルヘキシル、イソオクチル
、デシル、ドテシルまたはペプタデシルであってよい。
好ましい本発明の実施態様(実施態様■)において、(
1)下記の一般式による多核ヒンダードフェノール及び
(2)酸化劣化を受は易い有機物質及び下記の一般式に
よる多核ヒンダードフェノールを含有する安定化された
有機組成物が提供される。
(式中、Rは同一または異なる炭素原子1〜8個のアル
キル基であり; R1は水素またはメチル基であり; R2は炭素原子1〜18個のアルキル基またはであり; R3は水素、メチルまたはR2−0−であり;R4は炭
素原子1〜17個のアルキル基であり;Xは1〜4の整
数であり; 但し、R3が水素またはメチルであるとき、ばならない
)本発明の更に好ましい実施態様(実施態様l)におい
て、実施態様Iの式(1)(但し、Rは同一または異な
る炭素原子3〜8個の分校状飽和アルキル基である)に
よる多核ヒンダードフェノール及び酸化劣化を受は易い
有機物質及び実施態様■の式(1)による多核ヒンダー
ドフェノールを含有する安定化された有機組成物が提供
される。
本発明の更に別の好ましい実施態様(実施態様■)にお
いて実施態様■の式(1)(但し、Rはα炭素原子上で
分枝しており、3〜8個の炭素原。
子を有しているアルキル基である)による多核ヒンダー
ドフェノール及び酸化劣化を受は易い有機物質及び実施
態様■の式口1による多核ヒンダードフェノールを金石
する安定化された有機組成物が提供される。
本発明の追加の好ましい実施態様として、各種変数が下
記の意義を有する実施態様■の式(1)で表わされるミ
多核ヒンダードフェノール及び酸化劣化を受は易い有機
物質及び該多核ヒンダードフェノールを含有する安定さ
れた有機組成物が提供される。
すなわち、R2が炭素原子1〜18個のアルキル基であ
るとき(実施態様■)、R3カR2−0−であり、R2
が炭素原子1〜18個のアルキル基であるとき(実施態
様■)、R3が水素であり、R2が であるとき(実施態様■)、R3がメチルであるとる(
実施態様■)、R4が炭素原子1〜17個のアルキル基
であるとき及び酸化劣化を受は易い有機物質が通常固体
のポリオレフィンであるとき(実施態様■)、更に詳し
くはポリエチレン(実施態様X)またはポリプロピレン
であるとキ(実施態様X)。
一般式(I)で門わされる本発明の特定なヒ・ダートフ
ェノールには以下のものが含まれるが、これらに限定さ
れるわけで畔ない。
各種の有機物質が特に高温条件下、例えば加工中及び/
またはこのような物質の使用中に遭遇する条件下で酸化
劣化を受は易いことがこの分野でよく知られている。
酸化劣化を受は易い有機物質には、例えば炭化水素油、
炭化水素グリース、ワックス、動物油脂、植物油脂、天
然及び合成ゴム及び重合体、例えばポリオレフィン、ポ
リアミド、ポリスチレン、ポリエステル、ポリ塩化ビニ
ル及びポリウレタン等が含まれるがこれらに限定されな
い。
従って、(1)酸化劣化を受は易い有機物質及び(2)
下記式 (式中、R,R’、R2及びR3は上記と同一の意義を
有する)で表わされる多核ヒンダードフェノールを含有
する有機組成物に関する本発明は酸化劣化を受は易い有
機物質が炭化水素油もしくはグリースであるとき(実施
態様M)、動物性油脂であるとき(実施態様XU)、植
物性油脂であるとき(実施態様XtV)、合成または天
然ゴムであるとき(実施態様xV)、ポリアミドである
とき(実施態様XM )、ポリスチレンであるとき(実
施態様XVU)、ポリエステルであるとき実施態様xm
)、好ましくはアクリロニトリル/ブタジェン/スチレ
ン共重合体であるとき(実施態様XK)、なお好ましく
はポリ塩化ビニルであるとき(実施態様xx)、または
より好ましくはポリオレフィン、最も好ましくはポリエ
チレンまたはポリプロピレンであるとき(実施態様XX
[)に実施できる。
好ましくは、本発明の有機組成物は(1)酸化劣化を受
は易い有機物質、より好ましくは酸化劣化を受は易いポ
リオレフィン及び(2)式(III)で表わされる多核
ヒンダードフェノールを含有する。
本発明の実施に有用なポリオレフィンとして、エチレン
、ブテン−1、プロピレン、ペンテン−1゜ヘキセン−
1,3−メチル−ペンテン−114−メチル−ペンテン
−1及び4−メチル−ヘキセン−1の単重合体及び共重
合体が含まれる。
ポリオレフィンの混合物も本発明に従って使用できる。
本発明の実施に有用な他の重合体の中には塩化ビニル、
臭化ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビ
ニル、塩化ビニリデン、安息香酸ビニル、アクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、スチレ
ン、ジビニルベンゼン、α−メチルスチレン、フタジエ
ン、イソプレン、アクリロニトリル、アクリルアミド及
びメタクリルアミドがある。
塩素化重合体、例えば塩素化ポリスチレン及び塩素化ポ
リエチレンもまた使用できる。
本発明による有機組成物が(1)酸化劣化を受は易い有
機重合体及び(2)式(m>で表わされる多核ヒンダー
ドフェノールを含有するとき、この分野でよく知られた
通常の添加剤、例えば充填剤、顔料、染料、滑剤、紫外
線安定化剤、補強剤、帯電防止剤、可塑剤、難燃剤及び
架橋剤を使用してもよい。
本発明による有機組成物はこの分野でよく知られた方法
により製造される。
このような方法には通常の装置を用い室温下でまたは室
温より高いが低い温度で乾式または湿式配合することを
含む。
本発明による多核ヒンダードフェノールは3・5−ジア
ルキル−4−ヒドロキシベンジルアルコール化合物(但
し、アルキル基は同一または異なる炭素原子1〜8個の
アルキル基である)または3・5−ジアルキル−4−ヒ
ドロキシベンジルアルキルエーテル(但し、エーテルの
アルキル基は1〜6個の炭素原子を有し、3・5−ジア
ルキル基は同一または炭素原子1〜8個のアルキル基で
ある)を例えば または のような活性化ベンゼン環と反応させることにより、一
般式 (式中、R及びR′は上記と同一の意義を有し、R6は
水素またはヒドロキシルまたはメチルである)で表わさ
れる中間体を形成させ、次いで好適に式(W)の中間体
を適当な試案(例えば、有機酸、有機無水物、アシルハ
ライドまたはアルキルハライド)と反応させることによ
り中央ベンゼン核をエステル化またはエーテル化するこ
とにより通常製造できる。
上記中間体(式■)を製造する従来方法が米国特許第3
053803号(G、S。
Jeffe、et al )に開示されている。
好適な3・5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジルア
ルコールには3・5−シーt −フチルー4−ヒドロキ
シベンジルアルコール、3・5−ジエチル−4−ヒドロ
キシベンジルアルコール、3−メチル−5−t−7”チ
ル−4−ヒドロキシベンジルアルコール、3−t−7”
チル−5−イソへキシル−4−ヒドロキシベンジルアル
コール、3・5−ジイソプロピル−4−ヒドロキシベン
シルアルコール及び3−ネオペンチル−5−エチル−4
−ヒドロキシベンシルアルコールカ含まれる。
3・5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジルアルキル
エーテルとしては3・5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシベンジルメチルエーテル、3・5−シオクチル−4
−ヒドロキシベンジルブチルエーテル、3−メチル−5
−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルエチルエーテル
、3・5−ジイソヘキシル−4−ヒドロキシベンジルプ
ロピルエーテル、3・5−ジイソプロピル−4−ヒドロ
キシベンジルヘキシルエーテル及び3−ネオペンチル−
5−t−7”チル−4−ヒドロキシベンジルエチルエー
テルが使用できる。
本発明の新規多核ヒンダードフェノールを製造するのに
使用できる有機酸には酢酸、プロピオン酸、酪酸、ペン
タン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン
酸、デカン酸、トチカン酸、イソ酪酸、3−メチルブタ
ン酸、4−メチルペンタン酸、3−メチルペンタン酸、
2−メチルペンタン酸、2−メチルヘキサン酸、2−エ
チルヘキサン酸、4−メチルヘキサン酸、3・5−ジメ
チル−4−ヒドロキシフェニル酢酸、3・5−シーt−
7”チル−4−ヒドロキシフェニルプロパン酸、3・5
−ジオクチル−4〜ヒドロキシフエニルブタン酸及び3
・5−ジイソプロピル−4−ヒドロキシフェニルプロパ
ン酸が含まれる。
有機酸の代りに例えば無水酢酸、無水路°酸、無水ヘキ
サン酸または無水オクタン酸のような有機無水物が使用
できる。
あるいは、アシルハライド、好ましくはアシルクロライ
ド、例えば塩化アセチル、塩化プロピオニル、塩化ブチ
リル、塩化ペンタノイル、塩化ヘキサノイル、塩化オク
タノイル、塩化2−メチルヘキサノイル、塩化4−メチ
ルペンタノイル、塩化2−エチルペンタノイル、塩化3
−メチルヘキサノイル、塩化4−メチルヘキサノイル、
塩化デカノイル、塩化3・5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルグロパノイル、塩化3・5−ジメチル
−4−ヒドロキシフェニルアセチル、塩化3−メチル−
5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルブチリル、塩
化3・5−ジイソプロピル−4−ヒドロキシフェニルグ
ロパノイル、塩化3・5−ジー2−エチルへキシル−4
−ヒドロキシフェニルアセチル及び塩化3−メチル−5
−プロピル−4−ヒドロキシフェニルアチルカ用いられ
る。
アルキルハライドを用いるときは塩化アルキル、例えば
塩化メチル、塩化エチル、塩化ブチル、塩化ペンチル、
塩化ヘキシル、塩化オクチル、塩化デシル、塩化ドテシ
ル、塩化イングロビル、塩化イソブチル、塩化t−ブチ
ル、2−クロルヘキサン、1−クロル−3−エチルヘキ
サン、2−クロルペンタン、2−クロル−4−メチルペ
ンタン、2−クロル−3−エチルペンタン、3−クロル
−3−エチルペンタン及び3−クロル−3−メチルオク
タンを用いるのが好ましい。
塩化物と称されているところはその代りに対応する臭化
物及びヨウ化物が使用できることが理解されるべきであ
る。
対応する臭化物及びヨウ化物の活性の等何件はこの分野
でよく認識されている。
下記式 (式中、Rは同一または異なるC1−08アルキル基で
あり; R1は水素またはメチル基であり; R2はc、 CI8アルキル基、 R3は水素、メチルまたはR2−0−であり;R4はC
,−C1□アルキルであり;そしてXは1−4であり: 但し、R3が水素またはメチルであるとき、R2は でなげればなら らない)で表わされる多核ヒンダードフェノールの新規
な製造方法が発見され、これは(1)3・5−ジアルキ
ル−4−ヒドロキシベンジルアルコール(但し、アルキ
ル基は同一または異なる炭素原子1〜8個のアルキル基
である)または3・5−ジアルキル−4−ヒドロキシベ
ンジルアルキルエーテル(但し、エーテルのアルキル基
は1〜6個の炭素原子を有し、3・5−ジアルキル基は
同一または異なる炭素原子1〜8個のアルキル基であル
)ヲ、フェノール、m−ジヒドロキシベンゼン、3−メ
チルフェノール及び3・5−ジメチルフェノールからな
る群から選ばれる芳香族ヒドロキシ化合物と、蟻酸及び
酢酸からなる群から選ばれる有機酸の存在下で反応させ
ることにより式(式中、Rは同一または異なるC1−C
8アルキル基であり、R1は水素またはメチルであり、
R6は水素、ヒドロキシルまたはメチルである)で表わ
される中間体を生成させ、次いで(2)工程(1)で生
成した中間体をc、 C18アルキルハライド、C,
−C,□の硫黄のオキシ酸のアルキル塩、C2−C17
アルキルモノカルボン酸、C4−C26非環式アルキル
無水物、C,C1□モノアルカノイルハライド、3・5
−ジ(C1−C8アルキル)−4−ヒドロキシフェニル
C2−C5アルカン酸及び3・5−ジ(C,−C8アル
キル)−4−ヒドロキシフェニルC2−C5アルカノイ
ルハライドからなる群より選ばれる化合物と反応させる
ことからなる。
工程(1)では蟻酸の使用が好ましい。
式(V)による化合物の用途はすでに記載した通りであ
る。
上述した式(V)で表わされる化合物を製造する新規方
法は不活性溶媒の存在下、好ましくは不活性水不溶性溶
媒(例えば、塩化メチレン、ヘキサン及びVM&Pナフ
サ)中で行なうことができる。
工程(2)を行なうには公知の方法が使用できる。
更に、式(V)で表わされる新規多核ヒンダードフェノ
ールを製造する上述した新規方法の工程(1)による方
法が見出された。
これは式(’Vl)で表わされる中間体を製造する新規
かつ従前技術方法より有利な方法である。
かくして、上述した式(lで表わされる化合物の新規製
造方法がここで示され、すなわちこれは3・5−ジアル
キル−4−ヒドロキシベンジルアルコール(但し、アル
キル基は炭素原子1〜8個の同一または異なるアルキル
基である)または3・5−ジアルキル−4=ヒドロキシ
ベンジルアルキルエーテル(但し、エーテルのアルキル
基は1〜6個の炭素原子を有し、3・5−ジアルキル基
は同一または異なる炭素原子1〜8個のアルキル基であ
る)をフェノール、m−ジヒドロキシベンゼン、3−メ
fルフェノール及び3・5−ジメチルフェノールからな
る群より選ばれる化合物と蟻酸及び酢酸からなる群から
選ばれる有機酸の存在下で反応させる工程からなる。
この新規工程の生成物は合成重合体において酸化防止活
性を有する。
公知文献の教示するところによれば強酸、例えば塩化水
素、硫酸またはFr1edel −Crafts触媒(
例えば、塩化第二鉄、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、及
び三弗化ホウ素)の存在下、3・5−ジアルキル−4−
ヒドロキシベンジルアルコールまたはそのアルキルエー
テル誘導体及び(1)式(式中、Xは任意に置換された
アルキル、シクロアルキル、アラルキルまたはアリール
基であり、Yは同一または異なっていてもよい水素また
はアルキル基、例えばジメチルアニソール(米国特許第
3522318号、1970年7月28日、S。
Ashton et al ) 、(2) 環炭素原
子に結合した1〜3個のヒドロキシル置換基を有し、少
なくとも1個の、環炭素原子に結合した置換可能な水素
原子を有している単環アリール化合物、例えば、モノ、
ジ及びトリヒドロキシベンゼン(米国特許第30538
03号、1962年9月11日、G。
S、Jeffe et al )またはp−トルエンス
ルホン酸の存在下でメシチレン(米国特許第 3925488号、1975年12月9日に、H。
5hin )の反応が行なわれている。
これら公知文献の教示は式(Vl)で表わされる化合物
を製造するための本発明の新規な蟻酸または酢酸で促進
させる方法とは、反応触媒として塩化水素、硫酸、Fr
1edel−Crafts触媒(例えば、塩化第二鉄、
塩化亜鉛、塩化アルミニウム及び三弗化ホウ素)または
p−)ルエンスルホン酸を本発明の蟻酸または酢酸の代
りに用いていることにより明確に異なる。
式(■)で表わされる化合物の従来技術の製造方法の強
酸触媒はこの方法中脱アルキル化反応を促進する。
これらの脱アルキル化反応は(1)所望のトリス3・5
−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジル置換ベンゼン核
生成物の収率を下げ、(2)望ましくない副生成物(例
えば、モノ及びジ3・5−ジアルキル−4−ヒドロキシ
ベンジル置換ベンゼン核生成物)の濃度を高め、(3)
所望のトリス置換生成物を単離するだめの分離工程を複
雑にする及び/または長びかせることにより処理上の困
難さを高め、そして(4)所望のトリス置換生成物を生
成させる反応速度を低下させる反応条件の使用を必要と
し、従って所望のトリス置換生成物を製造するための処
理時間及び費用を高める。
式(Vl)で表わされる化合物の製造に関する上述した
本発明によれば、公知文献に記載されていたような強酸
触媒の使用は有利なことにもはや必要ではない。
かくして、式(Vl)で表わされる化合物の製造に関す
る上述した本発明は有利なことに(1) 公知方法に
従って知られた、付随する不利な強酸により誘発された
ジアルキル化反応を克服し、かつ(2)公知方法より著
しく改善された収率で式(M)化合物を提供する。
当業者によく知られているように、フェノール核(すな
わち、環炭素原子に結合している1個のヒドロキシル基
を有するベンゼン環)の環構造上の置換に対する反応性
は環置換反応が行なわれるべきとき環上に存在する他の
置換基のタイプと数により変化する。
かくして、式(Vl)で表わされる化合物を製造する上
述の本発明に従って用いられるフェノール、ジヒドロキ
シベンゼン、3−メチルフェノール及び3・5−ジメチ
ルフェノールは3・5−ジアルキル−4−ヒドロキシベ
ンジル置換反応に関して異なる反応性を呈すると期待さ
れる。
反応性におけるこのような変化は式(■)の生成物の収
率の変化において反映される。
式(Vl)で表わされる化合物を製造する上述の本発明
方法において、これは3・5−ジアルキル−4−ヒドロ
キシベンジルアルコールまたは3・5−ジアルキル−4
−ヒドロキシベンジルアルキルエーテルをフェノール、
m−ジヒドロキシベンゼン、3−メチルフェノール及び
3・5−ジメチルフェノールからなる群より選ばれる化
合物と蟻酸及び酢酸からなる群より選択される有機酸の
存在下で反応させる工程からなるものであるが、このと
き、無毒の溶媒、好ましくは水に不溶の溶媒が使用でき
る。
更に、この方法は0〜20o℃、好ましくは70〜13
0℃の温度で行なうことができる。
更に、この方法は減圧下、大気圧下または加圧下で行な
うことができる。
空気または好ましくは不活性雰囲気(例えば、N2、C
02、He またはAr )が使用できる。
蟻酸または酢酸触媒の使用里は3・5−ジアルキル−4
−ヒドロキシベンジルアルコールまたは3・5−ジアル
キル−4−ヒドロキシベンジルアルコールエーテル1モ
ル轟す50〜750グと変化できるが、反応条件の支配
に応じ、これより多いまたは少ない量の蟻酸または酢酸
が使用できる。
以下、本発明の実施例を示すが、これらは本発明を限定
するものではない。
実施例中、特記しない限り割合や百分率は全て重量によ
り、また温度は摂氏による。
参考例 1 この参考例は式(Vl)で表わされる中間体の公知力法
による製造を示したものである。
従ってこれは参考例である。
0.05Mのレゾルシノール及び0.165Mの3・5
−ジーt−7”チル−4−ヒドロキシベンジルアルコー
ルを2001rLlの塩化メチレンに溶解した溶液に0
℃で501の80%H2SO4を30分分間上て添加し
た。
混合物をO−5℃で3時間攪拌し、150fの水で4回
洗浄した。
塩化メチレンを真空ストリッピングにより除去し、粗生
成物な jrl OOPのへブタン及び15グのキシ
レンから再結晶した。
収量=29.51(理論量の77.3%)融点=155
−165℃ IR=上記構造と一致する。
参考例 2 レゾルシノール(0,05M)を0.16Mの3・5−
シーt−フチルー4−ヒドロキシベンジルアルコール、
100グの蟻酸及び100グのVM&Pナフサと混合し
た。
混合物を窒素雰囲気中で5時間還流した。
静置後、下層の酸相(911)を除去し、ナフサ層から
水分及び蟻酸を還流により水捕集器に入れることによっ
て除去した。
20℃まで冷却することにより、生成物は白色結晶とし
て分離した。
収量−36,31(理論量の95.0%)融点−151
−154℃ IR=ノンヒンダードOH−3510cm’ で広い吸
収帯。
ヒンダード0H−3642CrrL−1で狭い吸収帯。
NMR−ノンヒンダードOH−4,77p pmでプロ
トンの吸収。
NMR−ヒンダード0H−4,99及び5.O5ppm
でプロトンの吸収。
分子量−760(計算値765)ゲル透過クロマ・トゲ
ラフイーによる。
参考例 3 参考例2から回収した蟻酸(9i)及び補充分として9
vの新しい蟻酸を用いて参考例2を繰返した。
収量−36,91(理論量の96.5%)融点−150
−154℃ 外観=白色粉末 IR−実施例1と同一 この参考例は適当量の補充酸の添加により蟻酸が再循環
可能であることを示している。
参考例 4 0.16Mの3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロ
キシベンジルアルコールを用いた以外は参考例2の方法
を繰返した。
生成物を融点124−128℃の白色結晶固体として得
た。
分子量−645(計算値639)ゲル透過クロマトグラ
フィーによる。
NMR−ノンヒンダードOH−4,74p pmにプロ
トン吸収 NMR−ヒンダード0H−4,97及び5.O3ppm
にプロトン吸収。
実施例 1 参考例に従って製造した化合物(0,03M)を0.1
6Mの無水酢酸と5時間還流した。
未反応無水酢酸及び酢酸を190℃/ 2. OmmH
gまでストリッピングすることにより除去した。
粗生成物を1001のVM&Pナフサから再結晶dた。
収量=24.1?(理論量の94.5%)融点−173
−176℃′ 外観−白色粉末 IR−参考例2のノンヒンダードOHは消失してしまい
、これらOHが反応したことを示している。
3650cm’ に強いヒンダードOH吸収帯が存在す
る。
実施例 2 参考例4の方法に従って製造した化合物をアセチル化す
るため実施例1の方法を用いた。
収量−理論量の93% 融点=13’6−140℃ 外観=白色粉末 IR−上記構造と一致する。
実施例 3 参考例3の方法に従って製造した化合物0.04Mを1
301のアセトンに151の水及び9.62の50%N
aOHに入れた混合物に0.12Mの硫酸ジメチルを添
加した。
混合物を3時間還流し、80グのVM&Pナフサで希釈
し、100グの水及び充分な酢酸で洗浄してpHを7ま
で下げた。
ナフサ層を還流により水桶集器へとることにより・乾燥
させ、次いで20℃まで冷却させて生成物を結晶化させ
た。
収量=25.5?(理論量の80.2%)融点−175
−178℃ NMR及びIRいずれもノンヒンダードOHがないこと
を示し、これは完全な反応を示した。
実施例 4 参考例2に従って製造した0、03Mの化合物に、10
0グのトリエチルアミン及び0.08Mの塩化オクタノ
イルを添加した。
混合物を25−30℃で10時間攪拌し、1001のへ
ブタンで希釈し、沢過することによりアミン塩酸塩を除
去した。
ヘプタン及び過剰のトリエチルアミンを140℃/15
mmHgまで真空ストリッピングすることにより除去し
た。
粗生成物をメタノール及びイソプロパツールの混合物か
ら結晶化させた。
収量−21グ 融点=112−115℃ IR−上記構造と一致。
実施例 5 参考例2により製造した化合物0.04Mに0.16M
の塩化n−オクチル、0.10MのNa2’C03,2
,0?のKt及び100グのジメチルホルムアミドを添
加した。
混合物を10時間還流し、次いで140℃/ 15 m
mHgまでストリッピングすることによりジメチルホル
ムアミド及び過剰の塩化n−オクチルを除去した。
粗生成物をヘプタンに溶解し、水洗し、140℃/15
imHgにストリッピングすることによりヘプタンを除
去した。
メタノール及びエタノールの混合物から再結晶すること
により生成物を79−83℃で融解する黄色結晶として
得た。
実施例 6 参考例2に従って製造した化合物0.03Mに0.07
Mの3−(3・5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロピオニル゛クロライド及び100グのトリ
エチルアミンを添加した。
混合物を20−30℃で24時間攪拌した。
1001のへブタンを添加し、アミン塩酸塩を沢過によ
り除去した。
140℃715mmHgにストリッピングした後、粗生
成物をメタノール及びイソプロパノールの混合物から再
結晶することにより89−94℃で融解する黄色結晶を
得た。
IR及びNMRスペクトルは上記構造と一致していた。
参考例 5 0.05Mの3・5−ジメチルフェノールに0.16M
の3・5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルメ
チルエーテル、1001の蟻酸及び100グのVM&P
ナフサを添加した。
混合物を窒素雰囲気中で4時間還流した。
静置後、下層の酸相(89P)を除去し、ナフサ層から
残留する水分及び蟻酸を、水捕集器に還流することによ
って除去した。
20℃に冷却した後、生成物は白色結晶として分離した
収量−37,02(理論量の95゜2%)融点=2’0
3−205℃ NMRJびIRスペクトルはいずれも上記構造と一致し
た。
参考例 6 蟻酸の代りに酢酸を用いた以外は参考例5と同じであっ
た。
収量−34,12(理論値の87,8%)融点=203
−205℃ 参考例 7 3・5−ジメチルフェノールの代りにメタクレゾールを
用いた以外は参考例5の方法を用いた。
収量−21,0(理論量の55,1%) 融点=155−160℃ IR−上記構造と一致した。
外観−白色結晶 参考例 8 3・5−ジメチルフェノールの代りにフェノールを用い
た以外は参考例5の方法を用いた。
収量−20,4!/(理論量の54.5%)融点−12
2−125℃ 外観=白色粉末 IR=上記構造と一致した。
実施例 7 参考例8の方法に従って製造した化合物0.02MK0
.025Mの3−(3・5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)フロピオニルクロライド及び5oft
のトリエチルアミンを添加した。
混合物を室度で24時間攪拌した。
ヘプタン(100P)を添加し、アミン塩酸塩を沢過に
より除去した。
ヘプタン及びトリエチルアミンをストリッピングした後
、粗生成物をメタノール及びエタノールから再結晶した
外観−白色粉末 融点=81−85℃ IR−中央核のノンヒンダードOHが反応したことを確
認した。
実施例 8 3−(3・5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)アセチルクロライドを用いた以外は実施例7と同一
の方法を用いた。
−MP=92〜95℃ 外観−白色粉末 実施例 9 参考例5の方法に従って製造した生成物を用いて実施例
8の方法により製造した。
収量−231(理論量の74.1%) 外観−白色粉末 融点−208−210℃ IR及びNMRスペクトルいずれも上記構造と一致。
実施例 10 この化合物は米国特許第3522318号記載の方法に
より製造した。
融点223−225℃。・実施例 11 この化合物は米国特許第3265661号記載の方法(
第5欄第63行〜第6欄第5行)により製造した。
融点142−144℃実施例 12 実施例7の方法に従い、参考例8の化合物0、02 m
oleを塩化ステアロイ/L/ 0.025 mole
と反応させることにより下記式で表わされる化合物を製
造した。
実施例 13 実施例4の方法を用い、参考例2の化合物0、03 m
oleを塩化ラウロイル0.08 moleと反応させ
ることにより下記式で表わされる化合物を製造した。
ポリプロピレン中で0.05%で0.15%のジステア
リルチオジプロピオネートと共に試験したとき、化合物
は、実施例11の場合は912時間で、実施例12の場
合は944時間で失格した。
本発明の多核ヒンダードフェノールをポリプロピレン(
Profax 6501 )の安定化剤として150℃
で循環空気炉内所定の化合物0.05%及びジステアリ
ルチオジプロピオネート0.15%を用いて普通に製造
した30ミルのプレス艶出ブラックについて試験した。
劣化は激しい黒化ともろくなったことにより示された。
実施例の化合物 劣化までの時間(時間)無
50 1 1528 2 964 3 1528 4 1396 実施例の化合物 劣化までの時間(時間)5
1416 6 1642 7 1540 8 1548 9 1516 0.05%の所定化合物を含有する線状ポリエチレンは
120°Cで所定時間後以下の引張強さの低下を示した
引張強さ低下 実施例の化合物 時間(週) (%)無
2 100 1 12 92
12 243
12 84
12 125
12 106
12 87 12
98 12
9 9 12 90.5%
のジメチル錫ビス−イソオクチルチオグリコレート、0
.5%のステアリン酸及び0.1%の所定化合物を含有
する塩化ビニル(geon103、goodyear
) を二本ロールミル上で処理した。
得られたシートを30ミルのブラックに圧縮し、ブラッ
クを循環空気炉で180℃で加熱した。
4時間後の色の変化を以下に記載する。
実施例の化合物 色 ■黄 3黄 6 薄黄 8黄 9黄 無 黒 実施例1の化合物0.5%を含有するアルキル樹脂ワニ
スは紫外線光に曝露1ケ月間で添加物不合の対照パネル
より色が薄い。
高温潤滑剤であるジイソオクチルアゼレートを実施例3
の化合物2.0%の添加により150℃の2週間の加熱
試験による着色及び粘度変化に対して安定化させる。
パラフィンワックスを実施例3の化合物0.01%の添
加により安定化させる。
白色鉱油は0.1%の実施例1の化合物で安定化させる
と着色がより少ない。
本発明の多核ヒンダードフェノールの数種につき0.2
5%含量で天然ゴムラテックス処方において着色及び柔
軟性低下防止効果を試験する。
サイズしていない錦上の10ミルの湿潤フィルムを10
0°Cで100時間老化させる。
結果は以下の通りである。
実施例の化合物 色 柔軟性 無 褐色 不良 1 黄 優秀 3 黄 優秀 6 黄 優秀 8 黄 優秀 9 黄 優秀 ポリアミドホットメルト接着剤(GeneralMil
ls Versamid 741 )のスキニングを
防止することにおける以下の多核ヒンダードフェノール
(0,5%で)の効果を試料を200℃で8時間加熱す
ることにより決定する。
実施例の化合物 スキニング 無 激しく・ 1 非常に軽度 3 非常に軽度 6無 9 非常に軽度 0.5%の所定の化合物を含有する耐衝撃性ポリスチレ
ンをクロロホルムに溶解し、ガラス板に流灘し、乾燥さ
せ30ミルの細片に成型し、次いで炉内で2ケ月間70
℃で老化させる。
引張強さの低下を下記に示す。
実施例の化合物 引張強さの低下(%) 無 90 1 30 3 28 実施例の化合物 引張強さの低下(%) 6 22 9 29 実施例3の化合物0.25%を含有するアクリロニトリ
ル/ブタジェン/スチレン三元共重合体は添加物不含の
試料より120℃における着色が少ない。
実施例3の化合物0.5%を含有するポリウレタンは紫
外線光に曝露したとき添加物不含の試料より黄化が少な
い。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記一般式で表わされる化合物。 (式中、Rは同一または異なるC1−C8アルキル基で
    あり; R1は水素またはメチル基であり; R2はcl etaアルキル基、 R3は水素、メチルまたはR2−0−であり:R4はc
    、 CI?アルキル基であり;そしてXは1〜4の整
    数であり; 但し、R3が水素またはメチルであるとき、ればならな
    い。 2 RはC3−08分枝アルキル基である特許請求の範
    囲第1項記載の化合物。 3 Rは同一である特許請求の範囲第1項記載の化合物
    。 4 Rは異なる特許請求の範囲第1項記載の化合物。 5 Rはtert−ブチル基である、特許請求の範囲第
    2項記載の化合物。 6 Rはメチルである特許請求の範囲第1項記載の化合
    物。 7 R’ は水素である特許請求の範囲第1項記載の
    化合物。 8 R’はメチルである特許請求の範囲第1項記載の
    化合物。 9 R2はc、 CI2アルキル基である特許請求の
    範囲第1.3.4または5項記載の化合物。 でありR4はCI CI2アル キル基である特許請求の範囲第1.3.4または□5項
    記載の化合物。 る特許請求の範囲第1.3.4または5項記載の化合物
    。 12 xはlである特許請求の範囲第11項記載の化
    合物。 13 xは2である特許請求の範囲第11項記載の化
    合物。 14 R3は水素である特許請求の範囲第1.3.4ま
    たは5項記載の化合物。 15 R3はメチル基である特許請求の範囲第1.3.
    4または5項記載の化合物。 16R3はR2−0−(ここで、R2はc、 CI2
    アルキル基である)である特許請求の範囲第1または5
    項記載の化合物。 17R3はR2−0−(ここでR2は 求の範囲第1または5項記載の化合物。 18 xは1である、特許請求の範囲第17項記載の
    化合物。 19 xは2である特許請求の範囲第17項記載の化
    合物。 20 下記の一般式で表わされる化合物を有効成分と
    する、酸化劣化をうけやすい有機物質用安定剤。 (式中、Rは同一または異なり、C1〜C8アルキル基
    であり: R1は水素またはメチル基であり; R2はc、 CI8アルキル基、 R3は水素、メチル基またはR2−0−であり;R4は
    C,−C1□アルキル基であり; −Xは1〜4の整数であり; 但し、R3が水素またはメチル基であるとき、ばならな
    い)。 21 Rは同一である特許請求の範囲第20項記載の
    安定剤。 22Rは異なる特許請求の範囲第20項記載の安定剤。 23 Rはjert−ブチルである特許請求の範囲第
    20項記載の安定剤。 24R1は水素である特許請求の範囲第20項記載の安
    定剤。 25R1はメチルである特許請求の範囲第20項記載の
    安定剤。 であり、R4はC,−C1□ア ルキル基である特許請求の範囲第20.21゜22、ま
    たは23項記載の安定剤。 ある特許請求の範囲第20.21.22または23項記
    載の安定剤。 28xは1である特許請求の範囲第27項記載の安定剤
    。 29 xは2である特許請求の範囲第2T項記載の安
    定剤。 30R3は水素である特許請求の範囲第20項記載の安
    定剤。 31R3はR2−0−であり、R2は である特許請 求の範囲第22項または第24項記載の安定剤。 32 xは1または2の整数である、特許請求の範囲
    第31項記載の安定剤。 33R3はR2−0−(ここで、R2は であり、R4はc、 CI2アルキル基である)であ
    る特許請求の範囲第26項記載の安定剤。 馴 下記一般式 (式中、Rは同一または異なるC1−C8アルキル基で
    あり; R1は水素またはメチル基であり; R2はcl ctaアルキル基、 R3は水素、メチルまたはR2−0−であり;R4はC
    1−C1□アルキル基であり;そしてXは1〜4の整数
    であり; 但し、R3が水素またはメチルであるとき、ればならな
    い)で表わされる化合物の製造方法において、 (a) 3・5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジ
    ルアルコール(但し、アルキル基は同一または異なる炭
    素原子1〜8個のアルキル基である)または3・5−ジ
    アルキル−4−ヒドロキシベンジルアルキルエーテル(
    但し、エーテルのアルキル基は炭素原子を1〜6個有し
    、3・5−ジアルキル基は同一または異なり、炭素原子
    1〜8個のアルキル基である)をフェノール、m−ジヒ
    ドロキシベンゼン、3−メチルフェノール及び3・5−
    ジメチルフェノールからなる群より選ばれる芳香族ヒド
    ロキシ化合物と蟻酸及び酢酸からなる群より選ばれる有
    機酸の存在下で反応させることにより、下記式 (式中、R及びR1は上記と同一の意義を有し、R6は
    水素、ヒドロキシルまたはメチルである)で表わされる
    中間体を生成させ、次いで (b) 工程(a)で生成した中間体を(i)cl
    c1□アルキルハライド、 硫黄のオキシ酸のc、 CI2アルキル塩、C2Cl
    3アルキルモノカルボン酸、C4−C26非環式アルキ
    ル無水物、C2C13モノアルカノイルハライド、3・
    5−ジ(C1−C8アルキル)−4−ヒドロキシフェニ
    ルC2〜C5アルカン酸及ヒ3・5−ジ(C,−C8ア
    ルキル)−4−ヒドロキシフェニルC2−C5アルカノ
    イルハライドからなる群より選ばれる化合物と反応させ
    る工程からなる前記製造方法。 35 工程(a)における蟻酸または酢酸の量は3・
    5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジルアルコールま
    たは3・5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジルアル
    キルエーテル1モル当り50〜750グである特許請求
    の範囲第34項記載の方法。 353・5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジルアル
    コールマタは3・5−ジアルキル−4−ヒドロキシベン
    ジルアルキルエーテルは各々3・5−ジーtert −
    7”チル−4−ヒドロキシベンジルアルコールまたは3
    ・5−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシベンジル
    アルキルエーテルである特許請求の範囲第34項記載の
    方法。 37 3・5−ジアルキル−4−ヒドロキシアルコール
    または3・5−ジアルキル−4−ヒドロキシベンジルア
    ルキルニーテルハ各々3−メチル−5−tert−フチ
    ルー4−ヒドロキシベンジルアルコールまたは3−メチ
    ル−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルア
    ルキルエーテル1モル特許請求の範囲第34項記載の方
    法。 3B 芳香族ヒドロキシル化合物はフェノール、m−
    ジヒドロキシベンゼンまたは3−メチルフェノールであ
    る特許請求の範囲第34項記載の方法。 鵠 工程(b)においてアルキルモノカルボン酸、アル
    キル無水物、モノアルカノイルハライド、3・5−ジア
    ルキル−4−ヒドロキシフェニルアルカン酸または3・
    5−ジアルキル−4−ヒドロキシフェニルアルカノイル
    ハライドを用いる特許請求の範囲第34項記載の方法。 40 化合物のR3がR2−0−である特許請求の範
    囲第34項記載の方法。 41 フェノールを使用する特許請求の範囲第34項
    記載の方法。 423−メチルフェノールを用いる特許請求の範囲第3
    4項記載の方法。 433・5〜ジメチルフエノールを用いる特許請求の範
    囲第34項記載の方法。 44 m−ジヒドロキシベンゼンを用いる特許請求の
    範囲第34項記載の方法。 45 蟻酸を工程(a)中で用いる特許請求の範囲第
    34.35.36.37.38.39.40.41.4
    2.43、または44項記載の方法。 46 酢酸を工程(a)で用いる特許請求の範囲第3
    4項記載の方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0275236U (ja) * 1988-11-25 1990-06-08

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4261912A (en) * 1979-08-01 1981-04-14 Gaf Corporation Ester of ω,ω-bis(dialkylhydroxyphenyl) alkanols as effective antioxidants
US4340767A (en) * 1981-05-14 1982-07-20 Ethyl Corporation Antioxidant process using formaldehyde
DE3264944D1 (en) * 1981-12-03 1985-08-29 Ciba Geigy Ag Phenols and their use as stabilizers
JPS59122742A (ja) * 1982-12-28 1984-07-16 Mazda Motor Corp エンジンのスロツトル弁制御装置
DE3639383A1 (de) * 1986-11-18 1988-05-26 Huels Chemische Werke Ag Ester von 3-tert.-butyl- bzw. 3-tert.-butyl-5-alkyl-4-hydroxyphenyl-(alkan)-carbonsaeuren mit oxethylaten von polyhydroxy-aromaten, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als stabilisatoren
JP2536003B2 (ja) * 1988-01-13 1996-09-18 住友化学工業株式会社 ハイドロキノン系化合物およびこれを有効成分とする合成樹脂用安定剤
US5032634A (en) * 1988-12-02 1991-07-16 Akzo America Inc. Stabilized vinyl halide resins and stabilizer combination
US6197819B1 (en) 1990-11-27 2001-03-06 Northwestern University Gamma amino butyric acid analogs and optical isomers
US5410015A (en) * 1991-06-22 1995-04-25 Basf Aktiengesellschaft Polyamides having a low water absorptivity
RU94046105A (ru) * 1992-05-20 1997-06-20 Нортвестерн Юниверсити (Us) АНАЛОГИ γ -АМИНОМАСЛЯНОЙ КИСЛОТЫ И L-ГЛУТАМИНОВОЙ КИСЛОТЫ И СПОСОБЫ ИХ ПОЛУЧЕНИЯ
JPH0915446A (ja) * 1995-06-29 1997-01-17 Nec Corp マイクロ光コネクタ
JP2002130225A (ja) * 2000-10-21 2002-05-09 Shizuo Mishima 部材間の接続構造

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3067259A (en) * 1957-12-19 1962-12-04 Distillers Co Yeast Ltd Alkoxy tri-nuclear phenols
GB892261A (en) 1959-07-30 1962-03-21 Shell Int Research A process for the preparation of hydroxyphenyl substituted methanes
BE595512A (ja) 1959-09-28
US3052728A (en) * 1959-11-30 1962-09-04 Shell Oil Co Decolorization of cryptophenols by treatment with carbon dioxide
NL266894A (ja) * 1960-07-11
BE605950A (ja) 1960-07-11
US3265661A (en) * 1962-04-19 1966-08-09 Shell Oil Co 2, 4, 6-tris (3, 5-di-tert butyl-4-hydroxybenzyl) phenyl alkanoates and polypropylene compositions stabilized therewith
US3309339A (en) * 1963-11-12 1967-03-14 Allied Chem New trisphenols and epoxide resins prepared therefrom
GB1216838A (en) * 1967-06-26 1970-12-23 Ici Ltd Phenols
GB1229574A (ja) 1967-06-28 1971-04-28
US3644538A (en) * 1967-08-22 1972-02-22 Exxon Research Engineering Co Hindered trisphenols
US3925488A (en) * 1971-05-24 1975-12-09 Ethyl Corp Process for the production of 1,3,5-trimethy-2,4,6-tris(3,5-di-tert-alkyl-4-hydroxybenzyl)benzene
IT1043743B (it) 1975-10-30 1980-02-29 Sir Soc Italiana Resine Spa Fenoli poliussiorilici e procedimento per la loro preparazione

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0275236U (ja) * 1988-11-25 1990-06-08

Also Published As

Publication number Publication date
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