JPS5928385A - 太陽電池の製造方法 - Google Patents

太陽電池の製造方法

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Publication number
JPS5928385A
JPS5928385A JP57137900A JP13790082A JPS5928385A JP S5928385 A JPS5928385 A JP S5928385A JP 57137900 A JP57137900 A JP 57137900A JP 13790082 A JP13790082 A JP 13790082A JP S5928385 A JPS5928385 A JP S5928385A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
annealing
solar cell
amorphous
solar battery
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57137900A
Other languages
English (en)
Inventor
Eisuke Nakanishi
英介 中西
Seishiro Mizukami
水上 誠志郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumco Techxiv Corp
Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
Komatsu Electronic Metals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Komatsu Ltd, Komatsu Electronic Metals Co Ltd filed Critical Komatsu Ltd
Priority to JP57137900A priority Critical patent/JPS5928385A/ja
Publication of JPS5928385A publication Critical patent/JPS5928385A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0224Electrodes
    • H01L31/022408Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/022425Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、太陽電池、詳しくはアモルファス太陽電池の
製造方法に関するものである。
従来のアモルファス太陽電池の製造方法を第1図を参照
して以下に述べる。
〔第1工程〕−第1図(イ) ガラス基板1にITO,SnO,などの透明電極2をス
パッタリング、真空蒸着、スプレ法などで積層し、電流
の取出し電極とする。
〔第2工程〕−第1図CB) プラズマCVD法によってアモルファスシリコンpr 
i、oを順次積層して太陽電池3を構成する。
〔第3工程〕−第1図(O 蒸着法によって金属電極、例えば八Cを積層して裏面電
極4とする。
〔第4工程〕−第1図の) 透明電極2、裏面電極4からリード線5,6を取り出し
、さらに太陽電池保護用の被覆7を行なう。
このような従来の製造方法では金属′1に極として一般
に八gが使用されておシ、その形成方法とし、ては、真
空蒸着法、抵抗加熱式真空蒸着法および電子ビーム式真
空蒸着法およびスパッタリング法がとられている。
電子ビームによる蒸着を行なった場合の太陽電池の変換
効率は下表に示すような効率しか得られず低い値であっ
た。
なお変換効率とは、1dの面積にあたる太陽光のエネル
ギをl OOmW/c−としたときの入力した光を電力
に変換する率をいう。
上記表に示されるように、同一の太陽電池でも、常温放
置することによって変換効率が3係から4係に向上する
のが認められた。これは従来から太陽電池の耐久試験で
報告されている現象と異なシ、太陽電池の大幅な効率向
上という特異な現象である。
本発明は上記の点に着目してなされたものである。
すなわち、本発明者は上記常温時効を効果的に行なうた
めに、裏面にA、[を電極を蒸着した太陽電池を種々の
温度でアニール(熱処理)シ、変換効率がどのように変
化するか試験した。第2図はその結果を示す。なお常温
時効とは30℃で放置したときの時効をいう。
上記試験から明らかなように、太陽電池は短時間のアニ
ールで急速に変換効率が改善される。
変換効率はアニール時間が長くなると良くなp1アニー
ル効果は200℃まで温度が高くなる程顕著となる。そ
してアニール温度が250℃になると短時間の′アニー
ルでは効率が向上するが、その後低下する。
以上のように、太陽電池は200℃、20分間アニール
することによって効率は3係から1.6係まで上昇し、
著しい改善が認められた。
上記アニールの効果がアモルファス膜質の変化によるも
のか、Al電極もしくはM−アモルファス界面現象に基
因するものか調べた。
すなわち、第3図(3)に示すようにガラス基板lに透
明電極2を積層し、その上にアモルファスシリコンp、
1+”を順次積層してから、これの上に、Mからなる裏
面電極4を部分的に蒸着して太陽電池を構成した。この
太陽電池の特性は第4図(ト)に示すようになり、七〇
%性は良くない。
しかし上記太陽電池を150℃、1.5時間アニールす
ると、第4図(B)に示すようにその特性は改善された
ついで第3図(B’)に示すように上記太陽電池に他の
裏面電極4′を蒸着し、その部分の太陽電池特性を測定
すると、第4図(Oに示すように第4図囚に示すものと
同様に悪い特性を示す。これはアニールによってアモル
ファス膜の特性が改善されるのではなく、裏面電極4の
蒸着の改善に関係しているのがわかる。上記再蒸着した
他の裏面電極4′を150℃、1.5時間ア、−一ルす
るとその特性は第4図の)に示すように効率が改善され
、これにより上記アニールにより蒸着後の裏面電極4.
4′が改善されることが裏付けられる。
本発明の実施例としては、第1図に示す従来の製造工程
において、第3工程と第4工程の間にアニールを行なう
なお、上記アニールの効果は、抵抗加熱式真空蒸着法に
より裏面電極を形成した太陽電池においても同様の効果
が得られている。
本発明は以上のようになり、アモルファス太陽電池でM
を電極としたアモルファス太陽は池において、電極を形
成した後アニールしたことにより、裏面′rIL極とア
モルファス間の状縛もしくは裏面電極が改善され、変換
効率が大幅に改善された。なお表面電極、例えばくし形
紙極に関しても、実験の結果、同様の効果が得られた。
この現象は従来から学会などで報告されているアニール
による太陽電池の劣化と異なって非常に有利なものであ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図(C)〜ω)は従来の太陽電池の製殆工程を示す
説明図、第2図は太陽電池をアニールしたときの各アニ
ール温度におけるアニール時間に対する変換効果の関係
を示す線図、第3図(3)。 (B)はアニール効果を調べるために作った太陽電池の
斜視図、第4図囚〜(ハ)はアニールしたときとしない
ときの変換効率を示す線図である。 第1 図 +B) (D) (A) (C) (8) (D) 電瓜(V) 手続補正書(自発) 昭和57年11月 9日 特許庁長官 若杉和夫 殿 1、事件の表示  特願昭 57−1379oo 号2
、発明の名称  太陽電池の製造方法3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都港区赤坂2丁目3番6号氏名  小松電
子金属株式会社(ほか1名)代表者   油 井   
− 自発補正 6、補正の刻象 l補正の内容 (1)明細書中第2頁2行目の「p、i、oを順次・・
・・・・」を「p、i、n各層を順次・・・・・・」と
補正する。 (2)第4頁11行目の「基因」を「起因」と補正する

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (リ Ali電極としたアモルファス太陽電池において
    、電極を形成した後アニールすることを特徴とする太陽
    電池の製造方法。 (2)  100〜200℃の温度範囲で、5〜90分
    間アニールすることを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載の太陽電池の製造方法。
JP57137900A 1982-08-10 1982-08-10 太陽電池の製造方法 Pending JPS5928385A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2015060434A1 (ja) * 2013-10-25 2017-03-09 シャープ株式会社 光電変換素子、光電変換モジュール、並びに、太陽光発電システム

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5638873A (en) * 1976-09-29 1981-04-14 Rca Corp Semiconductor device with amorphous silicon layer

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