JPS5924409B2 - 写真乳剤層の液処理装置 - Google Patents
写真乳剤層の液処理装置Info
- Publication number
- JPS5924409B2 JPS5924409B2 JP56067743A JP6774381A JPS5924409B2 JP S5924409 B2 JPS5924409 B2 JP S5924409B2 JP 56067743 A JP56067743 A JP 56067743A JP 6774381 A JP6774381 A JP 6774381A JP S5924409 B2 JPS5924409 B2 JP S5924409B2
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- JP
- Japan
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- emulsion layer
- photographic emulsion
- liquid
- roller
- processing
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 46
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 title claims description 34
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 29
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 11
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 11
- 230000004323 axial length Effects 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D5/00—Liquid processing apparatus in which no immersion is effected; Washing apparatus in which no immersion is effected
- G03D5/04—Liquid processing apparatus in which no immersion is effected; Washing apparatus in which no immersion is effected using liquid sprays
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
- Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Photographic Developing Apparatuses (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は写真乳剤層の液処理装置に係り、さらに詳細に
は、上方仕切壁と下方仕切壁を備え、その挿入側と排出
側にそれぞれ移送ローラーが設けられ、また処理液を導
く導管が接続されたほマ水平に延びる処理室を有する写
真乳剤層、特にシート状フィルムを現像等液処理する写
真乳剤層の液処理装置に関するものである。
は、上方仕切壁と下方仕切壁を備え、その挿入側と排出
側にそれぞれ移送ローラーが設けられ、また処理液を導
く導管が接続されたほマ水平に延びる処理室を有する写
真乳剤層、特にシート状フィルムを現像等液処理する写
真乳剤層の液処理装置に関するものである。
従来のこのような液処理装置では、処理室は通常圧力室
として形成されており、この圧力室に小さな開口部を通
つて処理液が早い速度で供給される。
として形成されており、この圧力室に小さな開口部を通
つて処理液が早い速度で供給される。
しかし、このような従来の装置では、ポンプの出力がわ
ずかでも異なると、仕切面間の液は一定に供給されなく
なり、写真乳剤層は不均等にしか処理液に浸されないこ
とになる。この欠点を解消するための処理装置として例
えばドイツ特許出願P273lO45号が知られている
。
ずかでも異なると、仕切面間の液は一定に供給されなく
なり、写真乳剤層は不均等にしか処理液に浸されないこ
とになる。この欠点を解消するための処理装置として例
えばドイツ特許出願P273lO45号が知られている
。
この処理装置は仕切壁によつて主処理室と移送ローラー
を有する2個の副処理室に分かれており、仕切壁は移送
ローラーと協働するブロックを有し主処理室を密閉する
ように構成されている。このような構成により主処理室
には処理液槽が形成され、その液面は写真乳剤の層面の
上方にある。しかし、このような装置は、製造面で複雑
であるという欠点があり、さらに処理液が底側面から供
給されることにより、写真乳剤層の両表面が異なる速度
の処理液流を受けることになり、特にレントゲンフィル
ムの場合、不均一な現像が行なわれることになる。従つ
て、本発明はこのような従来の欠点を解消するもので、
簡単な構造で良好な現像ができる写真乳剤層の液処理装
置を提供することを目的とする。
を有する2個の副処理室に分かれており、仕切壁は移送
ローラーと協働するブロックを有し主処理室を密閉する
ように構成されている。このような構成により主処理室
には処理液槽が形成され、その液面は写真乳剤の層面の
上方にある。しかし、このような装置は、製造面で複雑
であるという欠点があり、さらに処理液が底側面から供
給されることにより、写真乳剤層の両表面が異なる速度
の処理液流を受けることになり、特にレントゲンフィル
ムの場合、不均一な現像が行なわれることになる。従つ
て、本発明はこのような従来の欠点を解消するもので、
簡単な構造で良好な現像ができる写真乳剤層の液処理装
置を提供することを目的とする。
本発明によれば処理室をプラスチックによる型成形で簡
単に構成でき、さらに処理液がたとえば乳剤層の高さま
で適切に供給され、写真乳剤層の両側面が均一に液処理
される。
単に構成でき、さらに処理液がたとえば乳剤層の高さま
で適切に供給され、写真乳剤層の両側面が均一に液処理
される。
40G!RL以上の処理幅を有するものに関しては、勿
論処理室をV4Aの特殊鋼から形成することもでき、こ
の場合、優れた耐久性が保証される。
論処理室をV4Aの特殊鋼から形成することもでき、こ
の場合、優れた耐久性が保証される。
処理室の構成要素を簡単にし、処理液を側部から供給す
ることによつて、処理室自体を比較的小さな容積のもの
とすることができ、その結果処理室を備えた収納容器の
収容容積を1.25リットル以下とすることができ、こ
れにより循環ポンプもより少ない負荷で済ませることが
できる。また下方仕切壁と下方移送ローラー間が密封さ
れるので液のもれを防止できる。
ることによつて、処理室自体を比較的小さな容積のもの
とすることができ、その結果処理室を備えた収納容器の
収容容積を1.25リットル以下とすることができ、こ
れにより循環ポンプもより少ない負荷で済ませることが
できる。また下方仕切壁と下方移送ローラー間が密封さ
れるので液のもれを防止できる。
以下に本発明の詳細な説明を用いて説明する。
第1図において符号1で示すものは処理容器であつて、
その中に支持壁2,2′が配置されている。図において
フィルム移送方向の一方の側、すなわち図で後側に配置
された支持壁2はほゾその全部が図示されているのに対
し、移送方向の他方の側、すなわち前方側に位置してい
る支持壁2′は、その一部のみが図示されている。互い
に対向して位置する支持壁2,2′間には、第1の移送
ローラー3,4が処理室の挿入側に、また第2の移送ロ
ーラー5,6が処理室の排出側にそれぞれ設けられてい
る。ローラー3,4及び5,6のうち上方に位置するロ
ーラー3,5間には上方仕切壁7が設けられ、その仕切
壁7も同様に支持壁2,2′間に位置している。この上
方仕切壁7はフィルム移送方向8に対し傾斜して設けら
れているが、これは処理室内に万一空気が流入しても、
簡単に取り除きそれによつて特に現像室内が酸化される
危険性を防止できるようにしたものである。さらに支持
壁2,2′間には、波形の断面形状をした下方仕切壁9
が配置されている。
その中に支持壁2,2′が配置されている。図において
フィルム移送方向の一方の側、すなわち図で後側に配置
された支持壁2はほゾその全部が図示されているのに対
し、移送方向の他方の側、すなわち前方側に位置してい
る支持壁2′は、その一部のみが図示されている。互い
に対向して位置する支持壁2,2′間には、第1の移送
ローラー3,4が処理室の挿入側に、また第2の移送ロ
ーラー5,6が処理室の排出側にそれぞれ設けられてい
る。ローラー3,4及び5,6のうち上方に位置するロ
ーラー3,5間には上方仕切壁7が設けられ、その仕切
壁7も同様に支持壁2,2′間に位置している。この上
方仕切壁7はフィルム移送方向8に対し傾斜して設けら
れているが、これは処理室内に万一空気が流入しても、
簡単に取り除きそれによつて特に現像室内が酸化される
危険性を防止できるようにしたものである。さらに支持
壁2,2′間には、波形の断面形状をした下方仕切壁9
が配置されている。
この下方仕切壁9の挿入側のローラー3,4の後方にあ
る部分には小さな隆起部9aが設けられており、この後
にほマ処理室の長さにわたつて延びる凹部9bが続く。
一方排出側のローラー5,6の前方に位置する下方仕切
壁の端部9cでは再び傾斜が上昇し、下方の排出側ロー
ラー6の上方に向いている。このような仕切壁9の形状
によつて、挿入されたフィルムは隆起部9aによつて持
ち上げられ、ほぼ水平に前方へ移送させることができる
。凹部9bはフィルムが下方仕切壁に接触するのを防止
している。端部9cの傾斜が上昇することによつて再び
フィルムガイド縁が持ち上げられ、排出側ローラー5,
6の両ローラー間に導びかれる。下方仕切壁の両端部に
はローラーの全長にわたつて延びる弾性止め部材11,
12が設けられている。挿入側に向いている止め部材1
1は下方移送ローラー4に、また排出側に向いている止
め部材12は、下方移送ローラー6に接触している。両
部材11,12はローラーとの接線に対して90゜より
小さい角度で配置されており、この場合止め部材の傾斜
方向はそれぞれのローラー4もしくは6の表面の移動方
向に向いている。処理室は2つの側壁10によつて前面
が仕切られている。
る部分には小さな隆起部9aが設けられており、この後
にほマ処理室の長さにわたつて延びる凹部9bが続く。
一方排出側のローラー5,6の前方に位置する下方仕切
壁の端部9cでは再び傾斜が上昇し、下方の排出側ロー
ラー6の上方に向いている。このような仕切壁9の形状
によつて、挿入されたフィルムは隆起部9aによつて持
ち上げられ、ほぼ水平に前方へ移送させることができる
。凹部9bはフィルムが下方仕切壁に接触するのを防止
している。端部9cの傾斜が上昇することによつて再び
フィルムガイド縁が持ち上げられ、排出側ローラー5,
6の両ローラー間に導びかれる。下方仕切壁の両端部に
はローラーの全長にわたつて延びる弾性止め部材11,
12が設けられている。挿入側に向いている止め部材1
1は下方移送ローラー4に、また排出側に向いている止
め部材12は、下方移送ローラー6に接触している。両
部材11,12はローラーとの接線に対して90゜より
小さい角度で配置されており、この場合止め部材の傾斜
方向はそれぞれのローラー4もしくは6の表面の移動方
向に向いている。処理室は2つの側壁10によつて前面
が仕切られている。
図では支持壁2の前に位置する側壁10のみが図示され
ており、この側壁10は上方と下方の両仕切壁7,9な
いし止め部材11,12と一体化される。この側壁のロ
ーラーに向つた側面でローラーと近接するところでは、
ローラーの表面に相応する形状となつている。側壁10
の側縁はこの近接領域においてローラー表面部から約0
.5m1Lの間隔を隔て\配置されており、両ローラー
の接触線近くまで達している。処理室13は、移送ロー
ラー3,4と5,6、上方仕切壁7、止め部材11,1
2を有する下方仕切壁9並びに両側壁10によつてほマ
密閉された状態で形成される。
ており、この側壁10は上方と下方の両仕切壁7,9な
いし止め部材11,12と一体化される。この側壁のロ
ーラーに向つた側面でローラーと近接するところでは、
ローラーの表面に相応する形状となつている。側壁10
の側縁はこの近接領域においてローラー表面部から約0
.5m1Lの間隔を隔て\配置されており、両ローラー
の接触線近くまで達している。処理室13は、移送ロー
ラー3,4と5,6、上方仕切壁7、止め部材11,1
2を有する下方仕切壁9並びに両側壁10によつてほマ
密閉された状態で形成される。
支持壁2には乳剤層の移送軌道のほマ高さに位置する流
入開口部14が形成されており、この開口部は処理室1
3の外部とつながつている導管15に接続している。
入開口部14が形成されており、この開口部は処理室1
3の外部とつながつている導管15に接続している。
導管15は容器の底部1に設けられた管支持体16に差
し込まれており、この支持体16は導管17を通じて容
器底部1から外部に通じている流出開口部18につなが
つている。導管17には循環ポンプ19が設けられてい
る。循環ポンプ19が5駆動されると流出開口部18を
通じて容器1からの処理液が吸引され、処理液は、導管
17、容器底部を通つてつながつている管支持体16、
導管15を通じて、支持壁2の流入開口部14へと導び
かれる。
し込まれており、この支持体16は導管17を通じて容
器底部1から外部に通じている流出開口部18につなが
つている。導管17には循環ポンプ19が設けられてい
る。循環ポンプ19が5駆動されると流出開口部18を
通じて容器1からの処理液が吸引され、処理液は、導管
17、容器底部を通つてつながつている管支持体16、
導管15を通じて、支持壁2の流入開口部14へと導び
かれる。
このようにしてまず処理室13が処理液で満たされる。
対向する支持壁2″には流出開口部(図示せず)が設け
られ、この開口部により余分な処理液が再び容器1内へ
戻される。こうすると処理室の容積が非常に小さくなり
、写真乳剤層の移送方向8を横切る処理液の速度を比較
的大きくすることができる。処理室の容積を小さくでき
ることにより50あるいは60CTn幅の写真乳剤層を
処理する場合でも1.25リットルの大きさの容器で済
ませることができる。これはまたポンプ19の負荷をか
なり少なくすることにもなる。第2図には本発明の他の
実施例が図示されており、図中第1図と同一部分には同
一の参照番号が付されている。
対向する支持壁2″には流出開口部(図示せず)が設け
られ、この開口部により余分な処理液が再び容器1内へ
戻される。こうすると処理室の容積が非常に小さくなり
、写真乳剤層の移送方向8を横切る処理液の速度を比較
的大きくすることができる。処理室の容積を小さくでき
ることにより50あるいは60CTn幅の写真乳剤層を
処理する場合でも1.25リットルの大きさの容器で済
ませることができる。これはまたポンプ19の負荷をか
なり少なくすることにもなる。第2図には本発明の他の
実施例が図示されており、図中第1図と同一部分には同
一の参照番号が付されている。
第2図実施例では止め部材11,12を有する下方仕切
壁9の代わりに、3個のローラーが互いに接触して設け
られ、下方仕切面を形成している。そのローラーのうち
第1のローラー20は、挿入側ローラーの下方ローラー
4に接触し、第2のローラー21は排出側ローラーのう
ちの下方ローラー6に接触している。ローラー20,2
1間には、両ローラーに接触するローラー22が設けら
れている。このようにして第1図と同様に処理室13″
内の処理液を確実に密封することができる。
壁9の代わりに、3個のローラーが互いに接触して設け
られ、下方仕切面を形成している。そのローラーのうち
第1のローラー20は、挿入側ローラーの下方ローラー
4に接触し、第2のローラー21は排出側ローラーのう
ちの下方ローラー6に接触している。ローラー20,2
1間には、両ローラーに接触するローラー22が設けら
れている。このようにして第1図と同様に処理室13″
内の処理液を確実に密封することができる。
第1図は本発明の液処理装置の構造を示す断面図、第2
図は本発明の他の実施例を示す断面図である。 1・・・・・・容器、2,2′・・・・・・支持壁、3
,4,5,6・・・・・・移送ローラー、7,9・・・
・・・仕切壁、9a・・・・・・隆起部、9b・・・・
・・凹部、9c・・・・・・端部、10・・・・・・側
壁、11,12・・・・・・止め部材、13,13′・
・・・・・処理室、14・・・・・・流入開口部、18
・・・・・・流出開口部、19・・・・・・循環ポンプ
、20,21,22・・・・・・ローラー。
図は本発明の他の実施例を示す断面図である。 1・・・・・・容器、2,2′・・・・・・支持壁、3
,4,5,6・・・・・・移送ローラー、7,9・・・
・・・仕切壁、9a・・・・・・隆起部、9b・・・・
・・凹部、9c・・・・・・端部、10・・・・・・側
壁、11,12・・・・・・止め部材、13,13′・
・・・・・処理室、14・・・・・・流入開口部、18
・・・・・・流出開口部、19・・・・・・循環ポンプ
、20,21,22・・・・・・ローラー。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 それぞれ上方及び下方仕切壁を備えその挿入及び排
出側にそれぞれ移送ローラーが配置され、また処理液を
導びく導管が接続された水平に延びる処理室を有する写
真乳剤層の液処理装置において、前記上方及び下方仕切
壁並びに挿入排出側の移送ローラーにより囲まれた写真
乳剤層を処理する処理室13が形成され、また下方仕切
壁9と下方移送ローラー4、6の間に移送ローラー4、
6の軸方向の全長にわたつて接触する止め部材11、1
2がそれぞれ設けられ、それにより液が密封されて下方
仕切壁と下方移送ローラーから漏れることが防止され、
また処理室13内で写真乳剤層の移送方向8を横切つて
ほぼ写真乳剤層の高さに処理液が供給されるように構成
したことを特徴とする写真乳剤層の液処理装置。 2 前記止め部材11、12は弾性があることを特徴と
する特許請求の範囲第1項に記載の写真乳剤層の液処理
装置。 3 前記止め部材11、12は90゜以下の角度で移送
ローラーに接触しており、その場合、止め部材の向きは
移送ローラーの回転方向に向いていることを特徴とする
特許請求の範囲第1項あるいは第2項に記載の写真乳剤
層の液処理装置。 4 挿入側の移送ローラー3、4の近傍にある下方仕切
壁9は、写真乳剤層を支える隆起部9aを有し、この隆
起部に凹部9bが続き、さらに排出側ローラー5、6へ
と導くガイド部9cが続くことをを特徴とする特許請求
の範囲第1項、第2項又は第3項に記載の写真乳剤層の
液処理装置。 5 それぞれ上方及び下方仕切壁を備えその挿入及び排
出側にそれぞれ移送ローラーが配置され、また処理液を
導びく導管が接続された水平に延びる処理室を有する写
真乳剤層の液処理装置において、前記上方及び下方仕切
壁並びに挿入排出側の移送ローラーにより囲まれた写真
乳剤層を処理する処理室13が形成され、下方移送ロー
ラー4、6間に奇数個のローラー20、21、22が設
けられ、その第1のローラー20は、下方の挿入側ロー
ラー4に、最後のローラー21は、下方の排出側ローラ
ー6に、またその間に位置するローラー22はその前の
ローラーと後続するローラーの間にそれぞれ接触して配
置され、それにより液が密封されて下方仕切壁と下方移
送ローラーから漏れることが防止され、また処理室13
内で写真乳剤層の移送方向8を横切つてほぼ写真乳剤層
の高さに処理液が供給されるように構成したことを特徴
とする写真乳剤層の液処理装置。 6 前記処理室13;13′の前面は側壁10によつて
仕切られ、その側端部は円筒形ローラーの表面に相当す
る形状に成形され、ローラー3、4;5、6とほぼ接触
するようになつていることを特徴とする特許請求の範囲
第5項に記載の写真乳剤層の液処理装置。 7 前記側壁10の側縁部はローラー表面から約0.5
mm離れて配置されていることを特徴とする特許請求の
範囲第6項に記載の写真乳剤層の液処理装置。 8 前記処理室13;13′の一方の側にある側壁10
には、処理液のための流入開口部14が形成され、写真
乳剤層の移送軌道の高さに位置することを特徴とする特
許請求の範囲第6項あるいは第7項に記載の写真乳剤層
の液処理装置。 9 他方の側壁10には排出開口部が設置され、この排
出開口部は容器1に通じており、この容器から循環ポン
プ19を介して処理液が流入開口部14に供給されるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第8項に記載の写真乳剤
層の液処理装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3017946A DE3017946C2 (de) | 1980-05-10 | 1980-05-10 | Vorrichtung zur Naßbehandlung fotografischer Schichttträger |
DE30179465 | 1980-05-10 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS574045A JPS574045A (en) | 1982-01-09 |
JPS5924409B2 true JPS5924409B2 (ja) | 1984-06-09 |
Family
ID=6102066
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56067743A Expired JPS5924409B2 (ja) | 1980-05-10 | 1981-05-07 | 写真乳剤層の液処理装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4327988A (ja) |
EP (1) | EP0039876B1 (ja) |
JP (1) | JPS5924409B2 (ja) |
AT (1) | ATE5281T1 (ja) |
DE (1) | DE3017946C2 (ja) |
DK (1) | DK205581A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60178017U (ja) * | 1984-05-07 | 1985-11-26 | 崔 弘寛 | 道路用安全標識板 |
JPS6158212U (ja) * | 1984-09-14 | 1986-04-19 | ||
JPS6168113U (ja) * | 1984-10-11 | 1986-05-10 | ||
JPS62133711U (ja) * | 1986-02-12 | 1987-08-22 |
Families Citing this family (19)
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---|---|---|---|---|
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DE3364266D1 (en) * | 1982-10-05 | 1986-07-31 | Ciba Geigy Ag | Device for the wet treatment of photosensitive sheets |
DE3347354A1 (de) * | 1983-12-28 | 1985-07-11 | Maschinenfabrik Gehring Gmbh & Co Kg, 7302 Ostfildern | Werkzeugwechseleinrichtung fuer honmaschinen |
DE3437329A1 (de) * | 1984-10-11 | 1986-04-24 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Vorrichtung zum behandeln von druckplatten mit einer fluessigkeit |
US4736221A (en) * | 1985-10-18 | 1988-04-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and device for processing photographic film using atomized liquid processing agents |
JP2807826B2 (ja) * | 1988-06-27 | 1998-10-08 | コニカ株式会社 | 感光材料処理装置 |
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JPH02119248U (ja) * | 1989-03-06 | 1990-09-26 | ||
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