JPS59225134A - １−（１−ヒドロキシエチル）−４−イソブチルシクロヘキサンの製造方法 - Google Patents
１−（１−ヒドロキシエチル）−４−イソブチルシクロヘキサンの製造方法Info
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- JPS59225134A JPS59225134A JP58099568A JP9956883A JPS59225134A JP S59225134 A JPS59225134 A JP S59225134A JP 58099568 A JP58099568 A JP 58099568A JP 9956883 A JP9956883 A JP 9956883A JP S59225134 A JPS59225134 A JP S59225134A
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- hydroxyethyl
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は式（１）
て示される１−（１−ヒドロキシエチル）−４−インブ
チルシクロヘキサン（以下Ｈ工Ｃと略す。）の製造方法
に関する。
チルシクロヘキサン（以下Ｈ工Ｃと略す。）の製造方法
に関する。
上記ＨＴＣは式（２）
で示されるｐ−イソブチルアセトフェノン（以下■ＢΔ
と略す。）を水素化することにより製造される。
と略す。）を水素化することにより製造される。
このＨＩＯは医薬品合成の中間体として用いらイする。
一般にアルキルアセトフェノンの１−（１−ヒドロキシ
エチル）−アルキルシクロヘキサ／への水素化の報告例
は見当らないが２本発明者らは実験の結果、ラネーニッ
ケル、パラジウム触媒又は能であることを知った。しか
し、その場合、 ＩＢＡのようにアルキル基がパラ位
にある場合は、下記反応式に示すように、水酸基が炭化
水素まで還元されてしまい、目的物（１）の収率が低下
するのが見られた。
エチル）−アルキルシクロヘキサ／への水素化の報告例
は見当らないが２本発明者らは実験の結果、ラネーニッ
ケル、パラジウム触媒又は能であることを知った。しか
し、その場合、 ＩＢＡのようにアルキル基がパラ位
にある場合は、下記反応式に示すように、水酸基が炭化
水素まで還元されてしまい、目的物（１）の収率が低下
するのが見られた。
（２） （１）
即ち、 ＨＩＯの収率を高めるためには、炭化水素の
生成を極力低くする必要があるが、単にＩＢＡに触媒を
加え水素化を行ったのではいかなる触媒を使用しても３
０係〜４０％の炭化水素の生成はさけらイ１なかった。
生成を極力低くする必要があるが、単にＩＢＡに触媒を
加え水素化を行ったのではいかなる触媒を使用しても３
０係〜４０％の炭化水素の生成はさけらイ１なかった。
本発明者らはＨＩＯの収率の高い水素化方法の検討を行
ったところ、ルテニウム触媒を使用し、溶媒としてエー
テル化合物又は飽和炭化水素を用いて水素化することに
より高収率でＨＩＣが得られることを見い出した。本発
明法で用いうる触媒として好ましいのはルテニウム−ア
ルミナ、ルテニウム−炭素、ルテニウム−シリカなどの
ルテニウム担持触媒であり、これらはラネーニッケル、
パラジウムなどの触媒よりも水素化活性及びＨＩＣの収
率が高い。又２本水素化反応では、ルテニウム触キＲ砧
寸 いて水素化した場合は、やはりＦＩ Ｉ Ｃの収率が約
６０チ〜７０チと低くなる。かかる好ましい溶媒として
はノルマルヘキサン、シクロヘキサンなどの飽和炭化水
素又はテトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル
化合物が最も良く。
ったところ、ルテニウム触媒を使用し、溶媒としてエー
テル化合物又は飽和炭化水素を用いて水素化することに
より高収率でＨＩＣが得られることを見い出した。本発
明法で用いうる触媒として好ましいのはルテニウム−ア
ルミナ、ルテニウム−炭素、ルテニウム−シリカなどの
ルテニウム担持触媒であり、これらはラネーニッケル、
パラジウムなどの触媒よりも水素化活性及びＨＩＣの収
率が高い。又２本水素化反応では、ルテニウム触キＲ砧
寸 いて水素化した場合は、やはりＦＩ Ｉ Ｃの収率が約
６０チ〜７０チと低くなる。かかる好ましい溶媒として
はノルマルヘキサン、シクロヘキサンなどの飽和炭化水
素又はテトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル
化合物が最も良く。
これ、らの溶媒を使用することにより９０％υ上の収率
でＨＩＯが得られる。これに反し、普通にメタノール、
エタノール、イソプロパツールなどの溶媒を使用した場
合はＨＩＣの収率が低く好ましくない。
でＨＩＯが得られる。これに反し、普通にメタノール、
エタノール、イソプロパツールなどの溶媒を使用した場
合はＨＩＣの収率が低く好ましくない。
本発明法におけるＩＢＡに対する溶媒の使用比率は高い
はどＨＩ Ｏの収率が高くなり好ましいが、実用的には
０１〜ｌ （ｗ／ｗ ）倍である。又、 ＩＢＡに対
するルテニウム触媒の使用分は５〜１０％が適当である
。反応温度は低いほど好ましいが、水素化速度が遅くな
るので５０〜１２０Ｕ、好ましくは６０〜９０ Ｕであ
る。水素圧は１０〜２ｏｏｍが適切である。
はどＨＩ Ｏの収率が高くなり好ましいが、実用的には
０１〜ｌ （ｗ／ｗ ）倍である。又、 ＩＢＡに対
するルテニウム触媒の使用分は５〜１０％が適当である
。反応温度は低いほど好ましいが、水素化速度が遅くな
るので５０〜１２０Ｕ、好ましくは６０〜９０ Ｕであ
る。水素圧は１０〜２ｏｏｍが適切である。
実施例 １
７りＯヘキｆ７１３０ ｆ／とＩＢＡ １５０ ？とを
混合し、こイ１を５５０ｍＡ容電磁攪拌付オートクレー
ブに入れ、アルミナに５係ルテニウムを担持させた触媒
１０９を加えて９回転数７５０ｒｐｍ、水素圧５０簿、
温度９０Ｕで反応させたところ、３時間で反応が終了し
た。反応終了液を冷却し、ｉｐ過し、Ｐ液を減圧下６０
ｔＺ’で濃縮して溶媒を除去した後、ガスクロマトグラ
フィーで分析を行ったところ、下記の結果が得られ、た
。
混合し、こイ１を５５０ｍＡ容電磁攪拌付オートクレー
ブに入れ、アルミナに５係ルテニウムを担持させた触媒
１０９を加えて９回転数７５０ｒｐｍ、水素圧５０簿、
温度９０Ｕで反応させたところ、３時間で反応が終了し
た。反応終了液を冷却し、ｉｐ過し、Ｐ液を減圧下６０
ｔＺ’で濃縮して溶媒を除去した後、ガスクロマトグラ
フィーで分析を行ったところ、下記の結果が得られ、た
。
上記反応ｐ液を１１４ ｃ／４ 聰Ｈｇて真空蒸留して
１３７２のＨＩＯを得た。
１３７２のＨＩＯを得た。
実施例 ２
ノルマルヘキサン１３ｏ２とＩＢＡ １５０ ？とを混
合し、これをオートクレーブに入れ、活性炭に５壬ルテ
ニウムを担持させた触媒ＩＱ５Ｊを加えて。
合し、これをオートクレーブに入れ、活性炭に５壬ルテ
ニウムを担持させた触媒ＩＱ５Ｊを加えて。
回転数７５０ ｒｐｍｙ水素圧５０ ｋｇ／ｄ 、温度
６０ｃて３．５時間反応させた。反応終了液を冷却し、
濾過し、Ｐ液を減圧下６０Ｕで溶媒を除去した後。
６０ｃて３．５時間反応させた。反応終了液を冷却し、
濾過し、Ｐ液を減圧下６０Ｕで溶媒を除去した後。
分析して下記の結果を得た。
（以下余白）
実施例 ３
テトラヒドロンラン１００ｆとＩＢＡ １５０ ｆとを
混合し、以下実施例１と同じ方法で操作したところ、４
時間で反応か終了した。その分析値は下記のとおりであ
った。
混合し、以下実施例１と同じ方法で操作したところ、４
時間で反応か終了した。その分析値は下記のとおりであ
った。
参考例 Ｉ
ＩＢＡ ２００ ？を５５０ｍ１容電磁攪拌オートクレ
ーブに入れ、５係ルテニウムを担持させたアルミナ触媒
１２２を加えて２回転数７５ｏｒｐｍ、水素圧５０に９
／Ｃｄ、温度９０ｉＣで反応させたところ。
ーブに入れ、５係ルテニウムを担持させたアルミナ触媒
１２２を加えて２回転数７５ｏｒｐｍ、水素圧５０に９
／Ｃｄ、温度９０ｉＣで反応させたところ。
１０時間で反応が終了した。反応終了液を冷却し。
濾過し２分析したところ、結果は下記のとおりであった
。
。
参考例 ２
ＩＢＡ ２００ Ｆを５５０ｍ１容電磁攪拌オートクＶ
−ブに入イ１，５％ルテニウムを担持さぜた炭素触媒１
２７を加えて２回転数７５Ｏｒｐｍ、水素圧５０＃／ｃ
ｉｆｔ ｖ 温度７０ｒで反応させたところ、７時間で
反応が終了した。反応終了液を冷却し、濾過し９分析し
たところ、結果は下記のとおりであった。
−ブに入イ１，５％ルテニウムを担持さぜた炭素触媒１
２７を加えて２回転数７５Ｏｒｐｍ、水素圧５０＃／ｃ
ｉｆｔ ｖ 温度７０ｒで反応させたところ、７時間で
反応が終了した。反応終了液を冷却し、濾過し９分析し
たところ、結果は下記のとおりであった。
参考例 ３
実施例１のシクロヘキサンがイソプロピルアルコールで
ある以外は同側と同じ方法で操作したところ２分析値は
下記のとおりであった。
ある以外は同側と同じ方法で操作したところ２分析値は
下記のとおりであった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ｐ−インブチルアセトフェノンをエーテル化合物又
は不飽和炭化水素溶媒中でルテニウム触媒の存在下、水
素気流中で加熱還元することを特徴きする１−（１−ヒ
ドロキシエチル）−４−インブチルシクロヘキサンの製
造方法。 ２ ルテニウムをアルミナ、シリカ又は炭素などに担持
させて用いる特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 加熱還元反応の温度が５０〜１２０Ｃである特許請
求の範囲Ａ・１項又は矛２項記載の方法。 ４ 溶媒がジオキサン、テトラヒドロフラン、シクロヘ
キサン又はノルマルヘキサンである特許請求の範囲第１
項又は第２項記載の方法。 ５ 溶媒がジオキサン、テトラヒドロフラン、シクロヘ
キサン又はノルマルヘキサンである特許請求の範囲第３
項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58099568A JPS59225134A (ja) | 1983-06-06 | 1983-06-06 | １−（１−ヒドロキシエチル）−４−イソブチルシクロヘキサンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58099568A JPS59225134A (ja) | 1983-06-06 | 1983-06-06 | １−（１−ヒドロキシエチル）−４−イソブチルシクロヘキサンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59225134A true JPS59225134A (ja) | 1984-12-18 |
Family
ID=14250727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58099568A Pending JPS59225134A (ja) | 1983-06-06 | 1983-06-06 | １−（１−ヒドロキシエチル）−４−イソブチルシクロヘキサンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59225134A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62185032A (ja) * | 1986-02-06 | 1987-08-13 | Taiho Yakuhin Kogyo Kk | １−（１−ヒドロキシエチル）−アルキルシクロヘキサンの製造方法 |
| US5104851A (en) * | 1988-02-10 | 1992-04-14 | Kao Corporation | 2-(alkyl-cyclo)-1-propanol, a process for preparing the same and perfumery composition containing the same |
| JP2007063255A (ja) * | 2005-08-03 | 2007-03-15 | Central Glass Co Ltd | 含フッ素ジオール及びその誘導体の製造方法 |
| EP2479163A4 (en) * | 2009-09-18 | 2015-08-19 | Mitsubishi Gas Chemical Co | PROCESS FOR THE PREPARATION OF CYCLOHEXYL ALKYLKETONES |
| WO2022264874A1 (ja) * | 2021-06-14 | 2022-12-22 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 脂環式アルコール、脂環式アルコール組成物、及び香料組成物 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51105035A (ja) * | 1975-02-12 | 1976-09-17 | Givaudan & Cie Sa | |
| JPS5395942A (en) * | 1977-02-01 | 1978-08-22 | Givaudan & Cie Sa | New perfumous compound * its preparation and its perfumous compound |
-
1983
- 1983-06-06 JP JP58099568A patent/JPS59225134A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51105035A (ja) * | 1975-02-12 | 1976-09-17 | Givaudan & Cie Sa | |
| JPS5395942A (en) * | 1977-02-01 | 1978-08-22 | Givaudan & Cie Sa | New perfumous compound * its preparation and its perfumous compound |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62185032A (ja) * | 1986-02-06 | 1987-08-13 | Taiho Yakuhin Kogyo Kk | １−（１−ヒドロキシエチル）−アルキルシクロヘキサンの製造方法 |
| US5104851A (en) * | 1988-02-10 | 1992-04-14 | Kao Corporation | 2-(alkyl-cyclo)-1-propanol, a process for preparing the same and perfumery composition containing the same |
| JP2007063255A (ja) * | 2005-08-03 | 2007-03-15 | Central Glass Co Ltd | 含フッ素ジオール及びその誘導体の製造方法 |
| EP2479163A4 (en) * | 2009-09-18 | 2015-08-19 | Mitsubishi Gas Chemical Co | PROCESS FOR THE PREPARATION OF CYCLOHEXYL ALKYLKETONES |
| WO2022264874A1 (ja) * | 2021-06-14 | 2022-12-22 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 脂環式アルコール、脂環式アルコール組成物、及び香料組成物 |
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