JPS59216655A - 回転する基板上に一様な厚さの膜を形成させる塗布装置 - Google Patents

回転する基板上に一様な厚さの膜を形成させる塗布装置

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JPS59216655A
JPS59216655A JP58093229A JP9322983A JPS59216655A JP S59216655 A JPS59216655 A JP S59216655A JP 58093229 A JP58093229 A JP 58093229A JP 9322983 A JP9322983 A JP 9322983A JP S59216655 A JPS59216655 A JP S59216655A
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Takashi Murata
敬 村田
Yoshiharu Hoshi
星　芳春
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Victor Company of Japan Ltd
Nippon Victor KK
Original Assignee
Victor Company of Japan Ltd
Nippon Victor KK
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63198330A (ja) * 1987-02-13 1988-08-17 Tokyo Electron Ltd レジスト塗布方法およびその装置
JPS63248471A (ja) * 1987-04-03 1988-10-14 Tokyo Electron Ltd 塗布装置及びそれを用いた塗布方法
JPS64737A (en) * 1987-03-27 1989-01-05 Toshiba Corp Applicator for resist
JP2004095726A (ja) * 2002-08-30 2004-03-25 Ckd Corp 液膜形成方法、または液膜形成装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63198330A (ja) * 1987-02-13 1988-08-17 Tokyo Electron Ltd レジスト塗布方法およびその装置
JPS64737A (en) * 1987-03-27 1989-01-05 Toshiba Corp Applicator for resist
JPS63248471A (ja) * 1987-04-03 1988-10-14 Tokyo Electron Ltd 塗布装置及びそれを用いた塗布方法
JP2004095726A (ja) * 2002-08-30 2004-03-25 Ckd Corp 液膜形成方法、または液膜形成装置

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