JPS59206462A - ポリアリーレンスルフィド変性物の製造方法 - Google Patents
ポリアリーレンスルフィド変性物の製造方法Info
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- JPS59206462A JPS59206462A JP8151183A JP8151183A JPS59206462A JP S59206462 A JPS59206462 A JP S59206462A JP 8151183 A JP8151183 A JP 8151183A JP 8151183 A JP8151183 A JP 8151183A JP S59206462 A JPS59206462 A JP S59206462A
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- polyarylene sulfide
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は熱、紫外線などに対して安定なポリアリーレン
スルフィドに関するものである。
スルフィドに関するものである。
従来ポリアリーレンスルフィド、特てポリフェニレンス
ルフィドは耐熱性のすぐれたポリマとしてコーティング
用途や成形品用途に使用されるに到っている。しかしな
がら、これらの用途はポリマが酸化性の雰囲気、特に空
気中で加熱されたとき架橋しやすい性質を利用したもの
である。フィルムやシート等の薄葉材料ではこのような
麓温下での加熱時に架橋あるいはポリマ鎖の切断が起き
たり、紫外線等の高エネルギー下に劣化が起きると使用
寿命が短くなり好ましくない。寸だ、ポリアリーレンス
ルフィドを変性したり、添加剤を加える方法により高温
下や高エイ・ルギー下でポリマを得るべく種々な検討が
行なわれているが現在のところ、得られたポリマは安定
性が充分であると6廿いえないなどの欠点があった。
ルフィドは耐熱性のすぐれたポリマとしてコーティング
用途や成形品用途に使用されるに到っている。しかしな
がら、これらの用途はポリマが酸化性の雰囲気、特に空
気中で加熱されたとき架橋しやすい性質を利用したもの
である。フィルムやシート等の薄葉材料ではこのような
麓温下での加熱時に架橋あるいはポリマ鎖の切断が起き
たり、紫外線等の高エネルギー下に劣化が起きると使用
寿命が短くなり好ましくない。寸だ、ポリアリーレンス
ルフィドを変性したり、添加剤を加える方法により高温
下や高エイ・ルギー下でポリマを得るべく種々な検討が
行なわれているが現在のところ、得られたポリマは安定
性が充分であると6廿いえないなどの欠点があった。
本発明は、高温下または高エネルギー下に置いた際に分
子量変化が少なく9着色や硫黄系のガスの発生が軽減さ
れるとともに成形品の劣化の少ないポリアリーレンスル
フィド組成物を提供せんとするものである。
子量変化が少なく9着色や硫黄系のガスの発生が軽減さ
れるとともに成形品の劣化の少ないポリアリーレンスル
フィド組成物を提供せんとするものである。
すなわち本発明は、一般式 +R−8÷(ここでRは炭
素数6以上の芳香核を示す〕で示される構成単位を主成
分とすtポリアリーレンスルフィSから選ばれる基)で
示されるペテロ環含有基おIは水素−またはアルキル、
アリール基から選ばれる基)で示されるヒドラジド基を
含有する化合物を各々の基に換算して005〜10重量
係含有重量ポリアリーレンスルフィド組成物を特徴とす
るものである。
素数6以上の芳香核を示す〕で示される構成単位を主成
分とすtポリアリーレンスルフィSから選ばれる基)で
示されるペテロ環含有基おIは水素−またはアルキル、
アリール基から選ばれる基)で示されるヒドラジド基を
含有する化合物を各々の基に換算して005〜10重量
係含有重量ポリアリーレンスルフィド組成物を特徴とす
るものである。
本発明におけるポリアリーレンスルフィドは。
その構成単位として一般式 +R−S+を主成分とする
ものであり、Rとしては炭素数6以上の芳香核を表わし
ている。この芳香核とばpクエニレン9mフェニレン、
2,6ナフタレン、4,4/ビンエニレン+ p’+
I”ビベンジル、およびこれらの核置換体が代表的な例
として挙げられるが核無置侯のpフェニレン核であるも
の、つまシ一般式吾S−+なる構成単位で示されるボI
J pフェニレンスルフィドが成形性、取扱いの容易さ
等から最も好ましい。ここで主成分とは上B己構成単位
を少なくとも70モル係以上含有していることを意味す
る。この主成分が70モルチ未満であると得られるポリ
マの結晶性が低下したり、転移温度が低かったり、成形
品とした場合の物性が悪化する等好ましくない結果を生
ずる。30モル幅未満であれば6価以上の結合手を有す
る芳香核1例えば1、2.4結合フェニレン核や脂肪族
基、ヘテロ原子含有基等を含んでいてもさしつかえない
。
ものであり、Rとしては炭素数6以上の芳香核を表わし
ている。この芳香核とばpクエニレン9mフェニレン、
2,6ナフタレン、4,4/ビンエニレン+ p’+
I”ビベンジル、およびこれらの核置換体が代表的な例
として挙げられるが核無置侯のpフェニレン核であるも
の、つまシ一般式吾S−+なる構成単位で示されるボI
J pフェニレンスルフィドが成形性、取扱いの容易さ
等から最も好ましい。ここで主成分とは上B己構成単位
を少なくとも70モル係以上含有していることを意味す
る。この主成分が70モルチ未満であると得られるポリ
マの結晶性が低下したり、転移温度が低かったり、成形
品とした場合の物性が悪化する等好ましくない結果を生
ずる。30モル幅未満であれば6価以上の結合手を有す
る芳香核1例えば1、2.4結合フェニレン核や脂肪族
基、ヘテロ原子含有基等を含んでいてもさしつかえない
。
本発明のポリアリーレンスルフィドを製造する方法につ
いて説明する。
いて説明する。
ポリマはジハロゲン化芳香族化合物とジチオール芳香族
化合物またはモノハロゲン化芳香族チオールの縮合反応
あるいはジハロゲン化芳香族化合物と硫化アルカリある
いは水硫化アルカリとアル。
化合物またはモノハロゲン化芳香族チオールの縮合反応
あるいはジハロゲン化芳香族化合物と硫化アルカリある
いは水硫化アルカリとアル。
カリまた(は硫化水素とアルカリ化合物からの脱塩縮合
反応で作られるが後者のジハロゲン芳香族化合物と硫黄
源から合成される方法が好適である。
反応で作られるが後者のジハロゲン芳香族化合物と硫黄
源から合成される方法が好適である。
すなわちアミド系の極性溶媒中でジハロゲン化芳香族化
合物を硫黄源によジスルフィド化してポリアリーレンス
ルフィドを合成する方法である。この目的で使用される
ジハロゲン化芳香族化合物としてばpジクロルベンゼン
、pジブロムベンゼン。
合物を硫黄源によジスルフィド化してポリアリーレンス
ルフィドを合成する方法である。この目的で使用される
ジハロゲン化芳香族化合物としてばpジクロルベンゼン
、pジブロムベンゼン。
mジクロルベンゼン、2,6ジクロルナフタレン。
4、4’ ジクロルビフェニル、p、p′シクロルビベ
/ジルなどがありpジクロルベンゼンが好ましく使用出
来る。また硫黄源としては硫化アルカリの場合には硫化
ナトリウム、水硫化アルカリとアルカリ化合物の組み合
わせの場合には水硫化す) IJウムと水酸化ナトリウ
ム、硫化水素とアルカリ化合物の場合は後者として水酸
化ナトリウムを使用することが好ましい。
/ジルなどがありpジクロルベンゼンが好ましく使用出
来る。また硫黄源としては硫化アルカリの場合には硫化
ナトリウム、水硫化アルカリとアルカリ化合物の組み合
わせの場合には水硫化す) IJウムと水酸化ナトリウ
ム、硫化水素とアルカリ化合物の場合は後者として水酸
化ナトリウムを使用することが好ましい。
アミド系の極性溶媒としてuN、Nジメチルアセトアミ
ド、Nメチルピロリドン、N、N’ジメチルアセトアミ
ド、Nメチルピロリドン、N、N’ジメチルイミダゾリ
ジノン、ヘキサメチルホスホルアミド、ジメチルスルホ
キシドなどが挙げられるがNメチルピロリドンが好まし
い。重合に先立って硫黄源中に水を含有している場合に
は脱水することが好ましいが脱水の方法としては蒸留に
よるのが便利である。完全にまたはわずかの水を含む寸
で脱水された系にジハロゲン化芳香族化合物(場合によ
っては共重合成分も)を加え200〜ろ50’O,好ま
しくは220〜300°Cの範囲に加熱し重合を行なう
事が出来る。高分子量のポリアリーレンスルフィドを得
るため弛重合系内に助剤全共存させることも出来る。こ
れらの目的で使用される助剤としては一般式 R+CO
OM) (ここでRは炭化水素基を主体とするもので
あり1Mはアルカリ金属、nは1以上の整数を表わす)
で示されるカルボキシレートやハロゲン化リチウムスル
ホン酸のアルカリ金属塩などであり9代表的なものとし
ては酢酸リチウム、安息香酸リチウム。
ド、Nメチルピロリドン、N、N’ジメチルアセトアミ
ド、Nメチルピロリドン、N、N’ジメチルイミダゾリ
ジノン、ヘキサメチルホスホルアミド、ジメチルスルホ
キシドなどが挙げられるがNメチルピロリドンが好まし
い。重合に先立って硫黄源中に水を含有している場合に
は脱水することが好ましいが脱水の方法としては蒸留に
よるのが便利である。完全にまたはわずかの水を含む寸
で脱水された系にジハロゲン化芳香族化合物(場合によ
っては共重合成分も)を加え200〜ろ50’O,好ま
しくは220〜300°Cの範囲に加熱し重合を行なう
事が出来る。高分子量のポリアリーレンスルフィドを得
るため弛重合系内に助剤全共存させることも出来る。こ
れらの目的で使用される助剤としては一般式 R+CO
OM) (ここでRは炭化水素基を主体とするもので
あり1Mはアルカリ金属、nは1以上の整数を表わす)
で示されるカルボキシレートやハロゲン化リチウムスル
ホン酸のアルカリ金属塩などであり9代表的なものとし
ては酢酸リチウム、安息香酸リチウム。
酢酸ナトリウム、マレイン酸ジナトリウム、塩化リチウ
ム、ベンゼンスルホン酸ナトリウムなどが挙げられろ。
ム、ベンゼンスルホン酸ナトリウムなどが挙げられろ。
重合時に使用されるこれら助剤は用いるジハロゲン化芳
香族化合物に対して5〜200モル係の範囲で使用する
ことが出来る。重合後のポリマは水洗や有機溶剤による
洗浄等により単離することが出来る。
香族化合物に対して5〜200モル係の範囲で使用する
ことが出来る。重合後のポリマは水洗や有機溶剤による
洗浄等により単離することが出来る。
本発゛明に於ては上d己のようにして一般的に合成され
るポリアリーレンスルフィドに対し0.05〜NH,○
、S から選ばれる基)で示されるヘテロ環R′は水素
才たはアルキル、アリール基から選ばれる基)で示され
るヒドラジド基を含む化合物の中の少なくとも一つある
いは両方を含有していることが必要である。両方が含有
される場合には含有される化合物中のヘテc+IJt含
有基とヒドラジド基換算値の合計でも005〜10重量
係の範重量ある必要がある。
るポリアリーレンスルフィドに対し0.05〜NH,○
、S から選ばれる基)で示されるヘテロ環R′は水素
才たはアルキル、アリール基から選ばれる基)で示され
るヒドラジド基を含む化合物の中の少なくとも一つある
いは両方を含有していることが必要である。両方が含有
される場合には含有される化合物中のヘテc+IJt含
有基とヒドラジド基換算値の合計でも005〜10重量
係の範重量ある必要がある。
ここで含有しているとは、ポリアリーレンスルフィドに
物理的に混合している場合と一部化学的に結合している
場合の両者を意味するものである。
物理的に混合している場合と一部化学的に結合している
場合の両者を意味するものである。
これら化合物をポリアリーレンスルフィドに混合した場
合は化合物中の官能基の種類や混合される時の条件によ
りこれら化合物が基ポリマの一部に化学的に結合され、
ヒドラジド基やヘテロ環の結訃されたポリアリーレンス
ルフィドと未結合のポリマおよび未反応混合状態の化合
物の混合状態になっていることもあり得る。
合は化合物中の官能基の種類や混合される時の条件によ
りこれら化合物が基ポリマの一部に化学的に結合され、
ヒドラジド基やヘテロ環の結訃されたポリアリーレンス
ルフィドと未結合のポリマおよび未反応混合状態の化合
物の混合状態になっていることもあり得る。
捷ず、ヘテロ環含有基について説明する。
はイミダゾール環、Oの場合σオキサゾール環。
Sの場合にはチアゾール環全形成する。これらの基がポ
リマ当、90.05%未満になると安定化効果は少なく
、また10係を越すような量になると安定化効果が得ら
れたとしても他の弊害9例えば成形品の機械特性の低下
、溶融強度の低下などが表われ好ましくない。
リマ当、90.05%未満になると安定化効果は少なく
、また10係を越すような量になると安定化効果が得ら
れたとしても他の弊害9例えば成形品の機械特性の低下
、溶融強度の低下などが表われ好ましくない。
本発明におけるヘテロ環含有基は必須の基とじエニル核
には置換基を有していても差し支えないしまたNとXに
結合したcHどのような官能基を有していてもよいが、
ベンツイミダゾール、ベンツオキサゾール、ベンツチア
ゾールの誘導体が好ましい。
には置換基を有していても差し支えないしまたNとXに
結合したcHどのような官能基を有していてもよいが、
ベンツイミダゾール、ベンツオキサゾール、ベンツチア
ゾールの誘導体が好ましい。
ポリアリーレンスルフィドにこれらへテロ゛環含有基を
有する化合物を混合する場合id重合前9重合中9重合
後のいかなる段階においても適用出来る。かかる混合に
よシ用いられる化合物としては次のようなものがある。
有する化合物を混合する場合id重合前9重合中9重合
後のいかなる段階においても適用出来る。かかる混合に
よシ用いられる化合物としては次のようなものがある。
すなわち、2メチ−ルベンツイミダゾール、2フェニル
ベンツイミダゾール。
ベンツイミダゾール。
1ペンシル2メチルイミダゾール、214ジアミノ−6
−C2’メチルベンツイミダゾリル−(1’ ))エチ
ルS I−リアジン、2メルカプトベンツイミダゾール
、2メルカプト(6クロルベンツ)オキサゾール、2フ
エニルベンツチアゾール、2フエニルナフチルチアゾー
ル、ポリベンツイミダゾール。
−C2’メチルベンツイミダゾリル−(1’ ))エチ
ルS I−リアジン、2メルカプトベンツイミダゾール
、2メルカプト(6クロルベンツ)オキサゾール、2フ
エニルベンツチアゾール、2フエニルナフチルチアゾー
ル、ポリベンツイミダゾール。
ポリベンツチアゾール、ポリベンツオキサゾールなどで
ある。一方、これらへテロ環含有基を有する化合物にポ
リアリーレンスルフィドと化学的に反応し得る官能基を
持つものを使用することによシ直接ポリマ主鎖あるいは
側鎖または末端にヘテロ環を一部導入することも可能で
ある。例えば。
ある。一方、これらへテロ環含有基を有する化合物にポ
リアリーレンスルフィドと化学的に反応し得る官能基を
持つものを使用することによシ直接ポリマ主鎖あるいは
側鎖または末端にヘテロ環を一部導入することも可能で
ある。例えば。
ポリアリーレンスルフィドの重合時に2メルカプトベン
ツイミダゾールのナトリウム塩を存在させることによシ
ボリマの一部末端にイミダゾール環を導入することが出
来る。これらの目的で使用される官能基としてはハロゲ
ン、メルカプト基、ヒドロキシ基、またはラジカルを発
生させるごときジスルフィド結合基などが挙げられるが
ハロゲン。
ツイミダゾールのナトリウム塩を存在させることによシ
ボリマの一部末端にイミダゾール環を導入することが出
来る。これらの目的で使用される官能基としてはハロゲ
ン、メルカプト基、ヒドロキシ基、またはラジカルを発
生させるごときジスルフィド結合基などが挙げられるが
ハロゲン。
メルカプト基が好ましい。これら官能基を有するヘテロ
環含有基を持つ化合物としてば2メルカプトベンツイミ
ダゾール、2フエニル(2,4ジクロルベンツ)オキザ
ゾール、2メルカプトベンツチアゾール、2(pクロル
フェニル)ペンソイミタゾーノ7などが挙げられる。こ
れらの化合物は重合前9重合中2重合の後期、成形時に
反応させるべく成形直前にポリマ系に加えられることが
できるが、ポリアリーレンスルフィドの本質′的な性質
を大きく変え力いためには1重合の後期に重合系内へ添
加せられ反応を行なわせしめる方法が好ましい。
環含有基を持つ化合物としてば2メルカプトベンツイミ
ダゾール、2フエニル(2,4ジクロルベンツ)オキザ
ゾール、2メルカプトベンツチアゾール、2(pクロル
フェニル)ペンソイミタゾーノ7などが挙げられる。こ
れらの化合物は重合前9重合中2重合の後期、成形時に
反応させるべく成形直前にポリマ系に加えられることが
できるが、ポリアリーレンスルフィドの本質′的な性質
を大きく変え力いためには1重合の後期に重合系内へ添
加せられ反応を行なわせしめる方法が好ましい。
次に本発明の別の含有基であるヒドラジド基について説
明する。ヒドラジド基は一般式キル、アリール基から選
ばれる基〕を持つものであシ、この構造中のフェニル核
には置換基を有していても差し支えない。またヒドラジ
ドのN原子の片方にもどのような置換基が結合されてい
ても0 0 のが好ましい。
明する。ヒドラジド基は一般式キル、アリール基から選
ばれる基〕を持つものであシ、この構造中のフェニル核
には置換基を有していても差し支えない。またヒドラジ
ドのN原子の片方にもどのような置換基が結合されてい
ても0 0 のが好ましい。
ポリアリーレンスルフィドにこれらヒドラジド基を有す
る化合物を混合する場合は重合前9重合□ 中9重合後
のいかなる段階に於いても適用出来る。
る化合物を混合する場合は重合前9重合□ 中9重合後
のいかなる段階に於いても適用出来る。
かかる混合によシ用いられる化合物としては次のような
例が挙げられる。
例が挙げられる。
0 0 0 0な
どである。
どである。
一方、これらヒドラジド基を有する化合物にポリアリー
レンスルフィドと化学的−に反応し得る官能基を持つも
のを使用することにょシ直接ポリマ主鎖あるいは側鎖ま
たは末端にヒドラジド基を一部導入することも可能であ
る。例えばボリアIJ−レンスルフイドの重合時にチオ
フェノール基を含有するヒドラジド基含有化合物を存在
させることによシボリマの末端にヒドラジド基を導入す
ることが出来る。これらの目的で使用される官能基とし
てはハロゲン、メルカプト基、ヒドロキシ基。
レンスルフィドと化学的−に反応し得る官能基を持つも
のを使用することにょシ直接ポリマ主鎖あるいは側鎖ま
たは末端にヒドラジド基を一部導入することも可能であ
る。例えばボリアIJ−レンスルフイドの重合時にチオ
フェノール基を含有するヒドラジド基含有化合物を存在
させることによシボリマの末端にヒドラジド基を導入す
ることが出来る。これらの目的で使用される官能基とし
てはハロゲン、メルカプト基、ヒドロキシ基。
またはラジカルを発生させるごときジスルフィド結合基
などが挙げられるがハロゲン、メルカプト基が好ましい
。これらの化合物は重合前2重合中。
などが挙げられるがハロゲン、メルカプト基が好ましい
。これらの化合物は重合前2重合中。
重合の後期、成形時の溶融状態などで反応させるべく成
形の直前にポリマ系に加えられることが出来るが、ポリ
アリーレンスルフィドの本質的な性質を大きく変えない
ためには1重合の後期に重合系内へ添力nせられ反応を
行わせしめる方法が好ましい。このヒドラジド基の含有
量も先のへテロ基と同様の理由で005〜10%の範囲
が好ましへ本発明中のポリアリーレンスルフィド組成物
中にはその他の種類の安定剤や着色剤、他ポリマ。
形の直前にポリマ系に加えられることが出来るが、ポリ
アリーレンスルフィドの本質的な性質を大きく変えない
ためには1重合の後期に重合系内へ添力nせられ反応を
行わせしめる方法が好ましい。このヒドラジド基の含有
量も先のへテロ基と同様の理由で005〜10%の範囲
が好ましへ本発明中のポリアリーレンスルフィド組成物
中にはその他の種類の安定剤や着色剤、他ポリマ。
金属、充填剤などが含まれていても差し支えない。
本発明はポリアリーレンスルフィド中に特定な構造を有
するヘテロ環含有基および/またはヒドラジド基を含有
せしめることにより9次のような優れた効果を示すもの
である。
するヘテロ環含有基および/またはヒドラジド基を含有
せしめることにより9次のような優れた効果を示すもの
である。
すなわち、ポリマが高温に加熱された際の分子量変化が
少なく9着色や硫黄系のガス発生が軽減出来るとともに
紫外線などの高工坏ルギーの照射によっても劣化を減少
せしめることが出来るものである。このようなすぐれた
特徴を有するが故に本発明のポリアリーレンスルフィド
は特に耐熱性を要求される成形品の素材として有用であ
り、薄葉材料としてのフォルム、シート用に最適なポリ
マを提供することができる。
少なく9着色や硫黄系のガス発生が軽減出来るとともに
紫外線などの高工坏ルギーの照射によっても劣化を減少
せしめることが出来るものである。このようなすぐれた
特徴を有するが故に本発明のポリアリーレンスルフィド
は特に耐熱性を要求される成形品の素材として有用であ
り、薄葉材料としてのフォルム、シート用に最適なポリ
マを提供することができる。
本発明においてポリマの溶融粘度I′i高化式のフロー
テスタを使用しろ00°Cにて剪断速度が2o。
テスタを使用しろ00°Cにて剪断速度が2o。
(秒) 下に11IIn]φ×10−長さのノズルを有
する口金によって測定した。
する口金によって測定した。
以下本発明を実施例により説明する。
実施例1.比較例1
1001容量のオートクレーブに100モルの硫化すl
−IJウム9水塩、45モルの無水安息香酸ナトリウム
、251のNメチルピロリドンを入れ攪゛拌下に加熱し
含有されている水分を蒸留によシ除去した。内温を22
0℃まで加熱し少量のNメチルピロリドンを含む水15
.1yを留去した。脱水の終了した系内へ99モルのp
ジクロルベンゼンおよび36gの1.2.4トリクロル
ベンゼンをNメチルピロリドン5襠とともに添加し17
0℃にて窒素下3 kg/♂に加工後昇温し260℃に
て2時間攪拌しながら重合を行なった。重合終了後冷却
し蒸留水中ヘポリマを沈殿させ塩酸によりpHを6,5
にした後、150メツシュ目開きを有する金網によって
小塊状ポリマを採取した。このポリマを加温下に蒸留水
によシ<9返し洗浄した後。
−IJウム9水塩、45モルの無水安息香酸ナトリウム
、251のNメチルピロリドンを入れ攪゛拌下に加熱し
含有されている水分を蒸留によシ除去した。内温を22
0℃まで加熱し少量のNメチルピロリドンを含む水15
.1yを留去した。脱水の終了した系内へ99モルのp
ジクロルベンゼンおよび36gの1.2.4トリクロル
ベンゼンをNメチルピロリドン5襠とともに添加し17
0℃にて窒素下3 kg/♂に加工後昇温し260℃に
て2時間攪拌しながら重合を行なった。重合終了後冷却
し蒸留水中ヘポリマを沈殿させ塩酸によりpHを6,5
にした後、150メツシュ目開きを有する金網によって
小塊状ポリマを採取した。このポリマを加温下に蒸留水
によシ<9返し洗浄した後。
減圧下120°0にて乾燥させ600°Cにて溶融粘度
3500ポイズを有する白色ポリマを得た。
3500ポイズを有する白色ポリマを得た。
一方、260°0にて2時間重合を行なった直後にpジ
クロルベンゼンに対して5モル係のメルカプトベンツイ
ミダゾールナトリウム塩のNメチルピロリドン溶液全重
合系内へ添加し、250°Cにて60分間攪拌した後同
様な後処理を行ない300′Oにて4600ポイズを有
する白色ポリマを得たこの2つのポリマについて表1に
示すような安定性の検討を行なった。
クロルベンゼンに対して5モル係のメルカプトベンツイ
ミダゾールナトリウム塩のNメチルピロリドン溶液全重
合系内へ添加し、250°Cにて60分間攪拌した後同
様な後処理を行ない300′Oにて4600ポイズを有
する白色ポリマを得たこの2つのポリマについて表1に
示すような安定性の検討を行なった。
なおポリマ中に含有されているベンツイミダゾール基の
含有量は9回収された未反応のメルカプトベンツイミダ
ゾールから逆算して1.5重量%であった。
含有量は9回収された未反応のメルカプトベンツイミダ
ゾールから逆算して1.5重量%であった。
表 1
表1から明らかなように木兄、明は加熱されたときの分
子量の変化、ガスの発生9着色が軽減され安定化された
ポリマであることが判明した。
子量の変化、ガスの発生9着色が軽減され安定化された
ポリマであることが判明した。
実施例2.比較例2
1 ooz容量のオートクレーブにおけるポリフェニレ
ンスルフィドの重合に於いて無水安息香酸ナトリウムの
代りに無水酢酸リチウムを、またpジクロルベンセフ9
8モルと1モルの25ジクロルpキシレンを99モルお
よび36gのpジクロルベンゼンとトリクロルベンゼン
に代えて使用し全く同様な処決により白色ポリマを得た
0このポリマの溶融粘度は2600ボイズであった。
ンスルフィドの重合に於いて無水安息香酸ナトリウムの
代りに無水酢酸リチウムを、またpジクロルベンセフ9
8モルと1モルの25ジクロルpキシレンを99モルお
よび36gのpジクロルベンゼンとトリクロルベンゼン
に代えて使用し全く同様な処決により白色ポリマを得た
0このポリマの溶融粘度は2600ボイズであった。
一方、この粉末状ポリマに粉末状の
対し5重量係混合して溶融粘度1800ポイズを有する
混合物を得た。この両者のポリマについて実施例1.比
較例1と同様の安定性の検討を行なったところ表2のよ
うな結果を得9本発明のポリアリーレンスルフィドが安
定化されているものであることが判明した。
混合物を得た。この両者のポリマについて実施例1.比
較例1と同様の安定性の検討を行なったところ表2のよ
うな結果を得9本発明のポリアリーレンスルフィドが安
定化されているものであることが判明した。
表 2
表2から明らかなように本発明は加熱されたときの分子
量の変化、ガスの発生9着色が軽減され安定化されたポ
リマであることが判明した。
量の変化、ガスの発生9着色が軽減され安定化されたポ
リマであることが判明した。
Claims (1)
- (1) 一般式 +R−8+(ここでRは炭素数6以
上の芳香核を示す)で示される構成単位を生成分とする
ポリアリーレンスルフィドに対し、一般る基)で示され
るペテロ環含有基および/捷たけアルキル、アリール基
から選ばれる基)で示されるヒドラジド基を含イjする
化合物を各々の基に換算して0.05〜10重量係重量
することを特徴とするポリアリーレンスルフィド組成物
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8151183A JPS59206462A (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | ポリアリーレンスルフィド変性物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8151183A JPS59206462A (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | ポリアリーレンスルフィド変性物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59206462A true JPS59206462A (ja) | 1984-11-22 |
JPS642625B2 JPS642625B2 (ja) | 1989-01-18 |
Family
ID=13748375
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8151183A Granted JPS59206462A (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | ポリアリーレンスルフィド変性物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59206462A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60115658A (ja) * | 1983-11-02 | 1985-06-22 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 減じられた腐食性を有するポリアリーレンスルフイド類成型用組成物 |
JPS6297821A (ja) * | 1985-10-25 | 1987-05-07 | Kureha Chem Ind Co Ltd | 透明で着色の少ないポリアリーレンチオエーテル溶融成形物およびその製造法 |
JP2010001340A (ja) * | 2008-06-19 | 2010-01-07 | Tosoh Corp | ポリアリーレンスルフィド組成物 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5790018A (en) * | 1980-11-27 | 1982-06-04 | Toray Ind Inc | Stabilized polyphenylene sulfide and its production |
JPS57164130A (en) * | 1981-04-03 | 1982-10-08 | Toray Ind Inc | Production of heat-resistant resin molding |
-
1983
- 1983-05-10 JP JP8151183A patent/JPS59206462A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5790018A (en) * | 1980-11-27 | 1982-06-04 | Toray Ind Inc | Stabilized polyphenylene sulfide and its production |
JPS57164130A (en) * | 1981-04-03 | 1982-10-08 | Toray Ind Inc | Production of heat-resistant resin molding |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60115658A (ja) * | 1983-11-02 | 1985-06-22 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 減じられた腐食性を有するポリアリーレンスルフイド類成型用組成物 |
JPS6297821A (ja) * | 1985-10-25 | 1987-05-07 | Kureha Chem Ind Co Ltd | 透明で着色の少ないポリアリーレンチオエーテル溶融成形物およびその製造法 |
JPH0579013B2 (ja) * | 1985-10-25 | 1993-11-01 | Kureha Chemical Ind Co Ltd | |
JP2010001340A (ja) * | 2008-06-19 | 2010-01-07 | Tosoh Corp | ポリアリーレンスルフィド組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS642625B2 (ja) | 1989-01-18 |
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