JPS59191042A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
- Publication number
- JPS59191042A JPS59191042A JP6647983A JP6647983A JPS59191042A JP S59191042 A JPS59191042 A JP S59191042A JP 6647983 A JP6647983 A JP 6647983A JP 6647983 A JP6647983 A JP 6647983A JP S59191042 A JPS59191042 A JP S59191042A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- resin
- photoconductive
- insulating layer
- photoreceptor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14717—Macromolecular material obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- G03G5/14734—Polymers comprising at least one carboxyl radical, e.g. polyacrylic acid, polycrotonic acid, polymaleic acid; Derivatives thereof, e.g. their esters, salts, anhydrides, nitriles, amides
Landscapes
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- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光導電性粒子−結着剤分散系光導電層よシなる
電子写真感光体に関するものであシ、特には光導電性粒
子−結着剤分散系光導電層表面に絶縁層を有する感光体
に関するものである。
電子写真感光体に関するものであシ、特には光導電性粒
子−結着剤分散系光導電層表面に絶縁層を有する感光体
に関するものである。
上記感光体は基本的には導電層、感光層、電気絶縁層（
透明又は不透明）の構成を有するものであり、絶縁層に
電荷を保持し、この電荷に基き静電潜像を形成する電子
写真方式に有効であり、特公昭４２−２３９１０号同昭
４３−２４７４８号公報に開示した電子写真法に対して
極めて顕著な効果を発揮し得るものである。
透明又は不透明）の構成を有するものであり、絶縁層に
電荷を保持し、この電荷に基き静電潜像を形成する電子
写真方式に有効であり、特公昭４２−２３９１０号同昭
４３−２４７４８号公報に開示した電子写真法に対して
極めて顕著な効果を発揮し得るものである。
従来電子写真用の感光体として光導電体粒子を樹脂結合
剤に分散せしめて光導電層を形成すう る方法は極めて良く知られてい奄。この様な光導電層は
光導電体粒子と結合剤との割合が光導電層自体の性質を
決定する。即ち、結合剤の割合が多いと抵抗が高く光導
電性を示すことが出来ないために、通常は結合剤の割合
は光導電体粒子１００部（Ｎ量）に対して１〜１００部
好適には３〜５０部で使用される。ところが結着樹脂が
このような割合の場合、光導電層内には極めて多数の互
に連通した微細な空孔が生ずることとなる。この様な微
細な空孔は光導電層自体の劣化に大きな影響を及はすこ
とに成り易い。
剤に分散せしめて光導電層を形成すう る方法は極めて良く知られてい奄。この様な光導電層は
光導電体粒子と結合剤との割合が光導電層自体の性質を
決定する。即ち、結合剤の割合が多いと抵抗が高く光導
電性を示すことが出来ないために、通常は結合剤の割合
は光導電体粒子１００部（Ｎ量）に対して１〜１００部
好適には３〜５０部で使用される。ところが結着樹脂が
このような割合の場合、光導電層内には極めて多数の互
に連通した微細な空孔が生ずることとなる。この様な微
細な空孔は光導電層自体の劣化に大きな影響を及はすこ
とに成り易い。
例えは光導電体粒子が直接外部に露出することになるた
めに、外界の機械的、物理的、更には化学的な障害に晒
らされ、次の様な不都合の要因となる。機械的障害とは
例えは転写手段、クリーニング手段等によって耐えず転
写紙或いはクリーニンググレード・ローラー等に接し、
光導電層表向に傷、摩耗等を生ずるものであり、物理的
障害とは外部雰囲気からの温度、湿度。
めに、外界の機械的、物理的、更には化学的な障害に晒
らされ、次の様な不都合の要因となる。機械的障害とは
例えは転写手段、クリーニング手段等によって耐えず転
写紙或いはクリーニンググレード・ローラー等に接し、
光導電層表向に傷、摩耗等を生ずるものであり、物理的
障害とは外部雰囲気からの温度、湿度。
光、埃、塵等の影響による劣化であり、又化学的障害と
は例えは腋体現１象剤にょる光導′混層の劣化等である
。これ等の障害は、結合剤の割合が少ない程顕著となる
。
は例えは腋体現１象剤にょる光導′混層の劣化等である
。これ等の障害は、結合剤の割合が少ない程顕著となる
。
他方光導電層上に絶縁層を形成することによって電子写
真感光体とする場合も広く知られている。この様な感光
体は該表面絶縁層が、光導１！ｃ層の保護層としての役
割金はだすことかり能である。従って前述した如き多く
の障害は、克服することができる。しかし、樹脂溶液の
塗布はこの中に含まれる溶剤及び低分子皺成分が該光導
電層内部に浸透することになる。このような光導電層内
の多孔質層への溶液の浸透は、該多孔質層を構成する物
質と浴液の親和性、表面張力に左右される。また、樹脂
溶液中の浴剤は光導電層の結合剤を溶解するようなもの
であってはならない。一般に使用され、且つ本発明に於
いて使用される結合剤は疎水性の樹脂である。
真感光体とする場合も広く知られている。この様な感光
体は該表面絶縁層が、光導１！ｃ層の保護層としての役
割金はだすことかり能である。従って前述した如き多く
の障害は、克服することができる。しかし、樹脂溶液の
塗布はこの中に含まれる溶剤及び低分子皺成分が該光導
電層内部に浸透することになる。このような光導電層内
の多孔質層への溶液の浸透は、該多孔質層を構成する物
質と浴液の親和性、表面張力に左右される。また、樹脂
溶液中の浴剤は光導電層の結合剤を溶解するようなもの
であってはならない。一般に使用され、且つ本発明に於
いて使用される結合剤は疎水性の樹脂である。
このために該光導電層上に水溶性且つ凝集性を示す物質
を設けた場合、上記晶欠点を解消するに極めて有効な方
法である。しかしながら、この様な水溶性且つ凝集性を
示す物質には、例えばゼラチン、アラビアゴム、ポリビ
ニルアルコール等が使用されるがこれ等は吸湿性である
ため、多湿雰囲気で用いられた場合靜′亀コントラスト
の低下との悪影響を示すことになってし甘う。
を設けた場合、上記晶欠点を解消するに極めて有効な方
法である。しかしながら、この様な水溶性且つ凝集性を
示す物質には、例えばゼラチン、アラビアゴム、ポリビ
ニルアルコール等が使用されるがこれ等は吸湿性である
ため、多湿雰囲気で用いられた場合靜′亀コントラスト
の低下との悪影響を示すことになってし甘う。
従って本発明は該光導電層」二に前Ｓｒ、晶欠点を解消
し得る処理を施こすことを最大の目的とし、該処理され
た層を以下目止層と称する。
し得る処理を施こすことを最大の目的とし、該処理され
た層を以下目止層と称する。
更に否うならは本発明の目的は、口止層が吸湿して静電
コントラストの低下を起す事なく、安定した環境特性を
イｊする改良きれた口止層を櫓する電子写真感光体を提
供するところにある。
コントラストの低下を起す事なく、安定した環境特性を
イｊする改良きれた口止層を櫓する電子写真感光体を提
供するところにある。
さらに本発明の他の目的の一つは、前記改良された目止
層を侍るための目止層塗ノｉｖ形成に関し、特にその層
状、態の良好なる塗膜を形成するだめの方法を提供ｌ〜
、これにより得られだ目止層を有する電子写真感光体を
提供するところにもある。
層を侍るための目止層塗ノｉｖ形成に関し、特にその層
状、態の良好なる塗膜を形成するだめの方法を提供ｌ〜
、これにより得られだ目止層を有する電子写真感光体を
提供するところにもある。
本発明による電子写真感光体は、光導電材ネ」と結着剤
からなる光導電層の上に水系エマルジョン化アイオノマ
ー樹脂層を形成し、その上に絶縁層を形成したものであ
る。
からなる光導電層の上に水系エマルジョン化アイオノマ
ー樹脂層を形成し、その上に絶縁層を形成したものであ
る。
本発明で使用するアイオノマー樹脂とはエチレン−アク
リル酸共重合体が金属へ・幻を介して結合した一種の架
橋樹脂であり、下記の様な構造を有する 瞥 −ＣＨ，−ＣＨ，−Ｃ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｍ＋ １ ＲＲ ＲニーＨ又はアルキル基 Ｍ” Ｎａ＋、 Ｚｒ＋＋などの金属イオンアイオノマ
ー拉１月旨はイオン化孕れたカルホ゛キシル基と金属イ
オンとの間に生じる強い分子鎖開力により、非常な強靭
性と柔軟性を有している。さらに、有機溶剤に対する耐
溶剤性に優れるため、アイオノマー樹脂を用いた目止Ｉ
偏上に絶縁層を設ける場合絶縁層樹脂の選択範囲が広く
なる。
リル酸共重合体が金属へ・幻を介して結合した一種の架
橋樹脂であり、下記の様な構造を有する 瞥 −ＣＨ，−ＣＨ，−Ｃ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｍ＋ １ ＲＲ ＲニーＨ又はアルキル基 Ｍ” Ｎａ＋、 Ｚｒ＋＋などの金属イオンアイオノマ
ー拉１月旨はイオン化孕れたカルホ゛キシル基と金属イ
オンとの間に生じる強い分子鎖開力により、非常な強靭
性と柔軟性を有している。さらに、有機溶剤に対する耐
溶剤性に優れるため、アイオノマー樹脂を用いた目止Ｉ
偏上に絶縁層を設ける場合絶縁層樹脂の選択範囲が広く
なる。
目止層の厚さは一般には１〜２０μ好適には３〜１０μ
である。
である。
なお、本発明においては当然のことながら例えは下記の
様な構造の変性タイプのアイオノマー樹力旨をも含む。
様な構造の変性タイプのアイオノマー樹力旨をも含む。
１
０Ｍ＋ 甜。
−ＣＩ（２−ＣＨ−（Ｃ２Ｈ，） ｘ−暖
Ｏ
Ｈ
ｎ、Ｘ、 ｙ、ｚは正の整数
光導電利料としては、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化カド
ミウム、炭酸カドミウム、セレン化カドミウム、セレン
、セレン化テルル、セレン化ヒ素、アモルファスシリコ
ン、などの無機光導電材料、フタロシアニン、ポリビニ
ルカルバゾール、六ｔ；７４二功哄アントラセン、ボリ
ビニルヒレン、インジゴ系染料、アゾ系染料、ナアビリ
リウム塩、などの有機材料が用いられる。
ミウム、炭酸カドミウム、セレン化カドミウム、セレン
、セレン化テルル、セレン化ヒ素、アモルファスシリコ
ン、などの無機光導電材料、フタロシアニン、ポリビニ
ルカルバゾール、六ｔ；７４二功哄アントラセン、ボリ
ビニルヒレン、インジゴ系染料、アゾ系染料、ナアビリ
リウム塩、などの有機材料が用いられる。
光導電層の厚では、使用する光導電物質の種類や特性に
もよるが一般には、５〜ｌｏｏμ、特には１０〜５０μ
程度が好適である。絶縁層の光導電層に接する下部層（
目止層）以外の上部層の形成に用いられる樹脂としては
、通常の各種の樹脂が適宜用いられるものである。
もよるが一般には、５〜ｌｏｏμ、特には１０〜５０μ
程度が好適である。絶縁層の光導電層に接する下部層（
目止層）以外の上部層の形成に用いられる樹脂としては
、通常の各種の樹脂が適宜用いられるものである。
例えは、ポリエチレン、ポリエステル、ポリプロピレン
、ポリスチレン、ポリ塩化ビニール。
、ポリスチレン、ポリ塩化ビニール。
ポリ酢酸ビニール、アクリル樹脂、ポリカーボネート、
シリコン樹脂、弗素樹脂、エポキシ樹脂等を用い得る。
シリコン樹脂、弗素樹脂、エポキシ樹脂等を用い得る。
特に光硬化性のものが好適である。なお、絶縁層は、所
望の特性に応じた厚さに設定される。一般に、感光体の
保設及び耐久性、暗減衰特性の改善等を主目的として絶
縁層を付設する場合には絶縁層は比較的薄く設定され、
感光体を特定の電子写真プロセスに用いる場合に設けら
れる絶縁層は比較的厚く設定される。通常、絶縁層の厚
さは、５〜７０μ、好適には１０〜５０μである。
望の特性に応じた厚さに設定される。一般に、感光体の
保設及び耐久性、暗減衰特性の改善等を主目的として絶
縁層を付設する場合には絶縁層は比較的薄く設定され、
感光体を特定の電子写真プロセスに用いる場合に設けら
れる絶縁層は比較的厚く設定される。通常、絶縁層の厚
さは、５〜７０μ、好適には１０〜５０μである。
実施例１
２〜５μの径の単一粒子からなるＣｄＳ １００重量部
に対し塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（商品名：ＶＭ
ＣＨ，ＵＣＣ製）５部をメチルエチルケトンに溶解した
溶液を加えて混合撹拌を行なう。これを５０μギヤツプ
のロールミル装置で３回通過させＣｄＳ粉体をよく分散
させる。
に対し塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（商品名：ＶＭ
ＣＨ，ＵＣＣ製）５部をメチルエチルケトンに溶解した
溶液を加えて混合撹拌を行なう。これを５０μギヤツプ
のロールミル装置で３回通過させＣｄＳ粉体をよく分散
させる。
光導電体塗料をメチルエチルケトンで３２０ｅｐ、８に
粘度調整した後、ｌ ｌ Ｏ１１７ｍ／ｍｉ ｎの速度
でＭシリンダー上に浸漬塗布する。８０ ′０２０分乾
燥させ４５μ厚の光導電層を形成した。次にエマルジョ
ンタイプのアイオノマー樹脂（商品名：コーポレン、ラ
テックス、旭ダウ製）を粘度７０ ｃｐｓ塗工速度１７
０＋ｌ＋ｉ／ｍｉｎで浸漬塗布し、１００℃２０分間乾
燥させ６μ厚の目止層を形成した。この層上に光硬化型
アクリル化ウレタン樹脂（商品名：ゾンネＣＫ−８、関
西ペイント製）をメチルアルコール／ＭＥＫ混合溶剤（
３／１）によシ粘度を６０ ｃｐｓに希釈し、１２０朋
／ｍｉｎの速度で口止層上に浸漬塗布した後、炉内温度
１００℃のＵＶ乾燥装置にょ９４分乾燥した後、３０秒
間紫外線を照射し、１５μの第１絶縁層を形成した。次
に光硬化型アクリル酸エステルオリゴマー（商品名：ア
ロエックス８０６０東亜合成ＫＫ製）とアクリル樹脂（
商品名ニアクリベース、原意化成Ｍ）Ｃ混合比率ｉ：ｉ
）をメチルエチルケトン溶剤で２２ ｃｐｓに希釈した
溶液に１２０ｉｕ＋／ｍｉｎの速度で浸漬塗布し、炉内
温度１００℃の乾燥装置で４分乾燥した後３゜秒間紫外
線を照射し、７μの第２絶縁層を形成した。次に微粉砕
したテフロン樹脂（商品名ニルブロン１２、ダイキン工
業製）２０部、塩ビー酢ビ共重合体（商品名： ＶＭＣ
Ｈ，ＵＣＣ製）１００部をメチルエチルケトン溶剤で４
０ ｃｐｓに希釈した溶液を１２０ｍｍ／ｍｉｎ浸漬塗
布し１００°Ｃで４分３０秒間乾燥を行ない７μの第３
絶縁層を形成した。
粘度調整した後、ｌ ｌ Ｏ１１７ｍ／ｍｉ ｎの速度
でＭシリンダー上に浸漬塗布する。８０ ′０２０分乾
燥させ４５μ厚の光導電層を形成した。次にエマルジョ
ンタイプのアイオノマー樹脂（商品名：コーポレン、ラ
テックス、旭ダウ製）を粘度７０ ｃｐｓ塗工速度１７
０＋ｌ＋ｉ／ｍｉｎで浸漬塗布し、１００℃２０分間乾
燥させ６μ厚の目止層を形成した。この層上に光硬化型
アクリル化ウレタン樹脂（商品名：ゾンネＣＫ−８、関
西ペイント製）をメチルアルコール／ＭＥＫ混合溶剤（
３／１）によシ粘度を６０ ｃｐｓに希釈し、１２０朋
／ｍｉｎの速度で口止層上に浸漬塗布した後、炉内温度
１００℃のＵＶ乾燥装置にょ９４分乾燥した後、３０秒
間紫外線を照射し、１５μの第１絶縁層を形成した。次
に光硬化型アクリル酸エステルオリゴマー（商品名：ア
ロエックス８０６０東亜合成ＫＫ製）とアクリル樹脂（
商品名ニアクリベース、原意化成Ｍ）Ｃ混合比率ｉ：ｉ
）をメチルエチルケトン溶剤で２２ ｃｐｓに希釈した
溶液に１２０ｉｕ＋／ｍｉｎの速度で浸漬塗布し、炉内
温度１００℃の乾燥装置で４分乾燥した後３゜秒間紫外
線を照射し、７μの第２絶縁層を形成した。次に微粉砕
したテフロン樹脂（商品名ニルブロン１２、ダイキン工
業製）２０部、塩ビー酢ビ共重合体（商品名： ＶＭＣ
Ｈ，ＵＣＣ製）１００部をメチルエチルケトン溶剤で４
０ ｃｐｓに希釈した溶液を１２０ｍｍ／ｍｉｎ浸漬塗
布し１００°Ｃで４分３０秒間乾燥を行ない７μの第３
絶縁層を形成した。
この様に製造されたものを感光体Ｉとする。
比較例１
目上層にポリビニルアルコール（商品名：デンカＨ−１
７、電気化学製）を使用することを除いては実施例Ｉと
同様に感光体を製造した。
７、電気化学製）を使用することを除いては実施例Ｉと
同様に感光体を製造した。
この様にして製造されたものを感光体Ｉ′とする。
感光体１．１′に対して加湿帯電劣化法を用いた実験を
行なった。実験方法として、まずＣｄＳ感光体ドラム［
１’に対して前露光、前除電、−次■帯電、二次ＡＣ除
電、同時置方、全面露光のプロセスにより初期特性の測
定を行なった。
行なった。実験方法として、まずＣｄＳ感光体ドラム［
１’に対して前露光、前除電、−次■帯電、二次ＡＣ除
電、同時置方、全面露光のプロセスにより初期特性の測
定を行なった。
イオン交換水中にドラム全体を漬け１９時間後に水から
出し、前露光、前除電、−次■帯電、二次ＡＣ除電同時
露光、全面露光のプロセスで電位を測定すると共に１０
分間の強制帯劣を行なった。１０分間の強制帯劣終了後
まだ水の中に浸漬し１晩放置する。１晩放置後、上記と
同様のプロセスをくり返す、さらに１晩放置後電位のみ
測定した。この結果を第１図に示す。
出し、前露光、前除電、−次■帯電、二次ＡＣ除電同時
露光、全面露光のプロセスで電位を測定すると共に１０
分間の強制帯劣を行なった。１０分間の強制帯劣終了後
まだ水の中に浸漬し１晩放置する。１晩放置後、上記と
同様のプロセスをくり返す、さらに１晩放置後電位のみ
測定した。この結果を第１図に示す。
感光体Ｉにおいては加湿帯劣２０分においてもコントラ
スト電位の低下は非常に小さく、耐湿度特性が非常に優
れていることが分かる。感光体１′においては加湿帯劣
後の電位低下が感光体■に比べ、犬であることが分かる
。
スト電位の低下は非常に小さく、耐湿度特性が非常に優
れていることが分かる。感光体１′においては加湿帯劣
後の電位低下が感光体■に比べ、犬であることが分かる
。
以上説明したようにエマルジョンタイプのアイオノマー
樹脂を目止層として用いた場合、表面張力が犬きく凝集
性があるため、ＰＣ層へのしみ込みがなく、湿度特性に
優れている。
樹脂を目止層として用いた場合、表面張力が犬きく凝集
性があるため、ＰＣ層へのしみ込みがなく、湿度特性に
優れている。
第１図は、加湿帯劣による感光体の表面電位の変化を示
すグラフである。 ■ 実施例１の感光体 Ｉ′−・比較例１の感光体 ００ ｉ 高 高
すグラフである。 ■ 実施例１の感光体 Ｉ′−・比較例１の感光体 ００ ｉ 高 高
Claims (1)
- （１）光導電材料と結着剤からなる光導電層と絶縁層を
有する電子写真感光体において光導電層表面に水系のエ
マルジョン化アイオノマー樹脂層を形成し、該層上に絶
縁層が形成されたものであることを特徴とする電子写真
感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6647983A JPS59191042A (ja) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6647983A JPS59191042A (ja) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59191042A true JPS59191042A (ja) | 1984-10-30 |
Family
ID=13316952
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6647983A Pending JPS59191042A (ja) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59191042A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7205093B2 (en) | 2005-06-03 | 2007-04-17 | International Business Machines Corporation | Topcoats for use in immersion lithography |
-
1983
- 1983-04-14 JP JP6647983A patent/JPS59191042A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7205093B2 (en) | 2005-06-03 | 2007-04-17 | International Business Machines Corporation | Topcoats for use in immersion lithography |
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