JPS58127930A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
- Publication number
- JPS58127930A JPS58127930A JP1139982A JP1139982A JPS58127930A JP S58127930 A JPS58127930 A JP S58127930A JP 1139982 A JP1139982 A JP 1139982A JP 1139982 A JP1139982 A JP 1139982A JP S58127930 A JPS58127930 A JP S58127930A
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- JP
- Japan
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- resin
- photoconductive
- photoconductive material
- photoconductive layer
- phosphate
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0589—Macromolecular compounds characterised by specific side-chain substituents or end groups
-
- G—PHYSICS
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- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
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- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0532—Macromolecular bonding materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/0546—Polymers comprising at least one carboxyl radical, e.g. polyacrylic acid, polycrotonic acid, polymaleic acid; Derivatives thereof, e.g. their esters, salts, anhydrides, nitriles, amides
-
- G—PHYSICS
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- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0592—Macromolecular compounds characterised by their structure or by their chemical properties, e.g. block polymers, reticulated polymers, molecular weight, acidity
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子写真感光体に関する。
電子写真感光体は、所定の4IPi#e1−特性を得る
ため、あるいは適用される電子写真プロセスの種類に応
じて種々の構成をとるものである。そして、−子写真感
光体の代表的なものとして、支持体上に光導電層が形成
されている感光体および表面に絶縁ノーを備えた感光体
があり、広く用いられている。支持体と光導電層から構
成される感光体は、最も一般的な成子写真プロセスによ
る即ち、帯−at、 Iji*ig資−hxrメ鱈(A
ll−i1rff必要に応じて転写による画像形成に用
いられる。
ため、あるいは適用される電子写真プロセスの種類に応
じて種々の構成をとるものである。そして、−子写真感
光体の代表的なものとして、支持体上に光導電層が形成
されている感光体および表面に絶縁ノーを備えた感光体
があり、広く用いられている。支持体と光導電層から構
成される感光体は、最も一般的な成子写真プロセスによ
る即ち、帯−at、 Iji*ig資−hxrメ鱈(A
ll−i1rff必要に応じて転写による画像形成に用
いられる。
また絶縁層を備えた感光体について、この絶縁層は光導
電層の保護、感光体の1機械的強度の改善、暗減衰特性
の改善、または、特定の電子写真プロセスに適用される
ため(更には無公害化の為)等の目的のために設けられ
るものである。
電層の保護、感光体の1機械的強度の改善、暗減衰特性
の改善、または、特定の電子写真プロセスに適用される
ため(更には無公害化の為)等の目的のために設けられ
るものである。
このような絶縁層を有する感光体または、絶縁層を有す
る感光体を用いる電子写真プロセスの代表的な例は、例
えば、米国特許$2860048号公報、特公昭41−
16429号公報、特公昭3B−15446号公報、特
公昭46−3713号公報、特公昭42−23910号
公報、特公昭43−24748号公報、特公昭42−1
9747号公報、特公昭36−4121号公報、などに
記載されている。
る感光体を用いる電子写真プロセスの代表的な例は、例
えば、米国特許$2860048号公報、特公昭41−
16429号公報、特公昭3B−15446号公報、特
公昭46−3713号公報、特公昭42−23910号
公報、特公昭43−24748号公報、特公昭42−1
9747号公報、特公昭36−4121号公報、などに
記載されている。
電子写真感光体は、当然のことであるが、適用される電
子写真プロセスに応じ九所足の感度、電気特性、更には
光学特性を備えていることが要求される。
子写真プロセスに応じ九所足の感度、電気特性、更には
光学特性を備えていることが要求される。
1− fib l −−−) h k44\hφ鳴ノ
一点ル^マ1−・L(温度、湿度)依存性、繰り返し使
用の耐久性も重要な性質である。耐久性については、機
竺的な劣化要素と電気的特性の劣化の要素があり、鮮明
な画像の形成を保持させるには両要素とも欠陥があって
はならない。
一点ル^マ1−・L(温度、湿度)依存性、繰り返し使
用の耐久性も重要な性質である。耐久性については、機
竺的な劣化要素と電気的特性の劣化の要素があり、鮮明
な画像の形成を保持させるには両要素とも欠陥があって
はならない。
而して本発明は、機械的耐久性および耐湿性に優れた電
子写真感光体を提供することを主たる目的とする。
子写真感光体を提供することを主たる目的とする。
本発明による電子写真感光体は、光導電材料を結着樹脂
に分散含有させてなる光導電層の結着樹脂としてリン酸
基含有化合物と硬化性樹脂を用いることを特徴とするも
のである。
に分散含有させてなる光導電層の結着樹脂としてリン酸
基含有化合物と硬化性樹脂を用いることを特徴とするも
のである。
本発明によるリン酸基含有化合物と硬化性化合物からな
る樹脂を光導電材料の結合材として使用した感光体は、
支持体への密着力が優れ、機械的強度が強く、感光体を
繰り返し使用に十分耐えられる。 ′ 父、その結合材の光導電材料に対する比率が低い配合か
ら形成されたものでも、その機械的機能を満足させ得る
ことが出来る。
る樹脂を光導電材料の結合材として使用した感光体は、
支持体への密着力が優れ、機械的強度が強く、感光体を
繰り返し使用に十分耐えられる。 ′ 父、その結合材の光導電材料に対する比率が低い配合か
ら形成されたものでも、その機械的機能を満足させ得る
ことが出来る。
一方、本発明による光導電層は吸湿下での帯電の繰り返
しによる劣化が小さく、加湿下での耐久性能が優れてい
る。これは樹脂の構成分子中にリン酸基が導入されてい
るので光導電材料への親和力が増加し、結合材樹脂中の
分散性が良い状態となることと、光導電材料の表面欠陥
をリン酸基が補償すると推定され、結合樹脂による被覆
状態が優れている。
しによる劣化が小さく、加湿下での耐久性能が優れてい
る。これは樹脂の構成分子中にリン酸基が導入されてい
るので光導電材料への親和力が増加し、結合材樹脂中の
分散性が良い状態となることと、光導電材料の表面欠陥
をリン酸基が補償すると推定され、結合樹脂による被覆
状態が優れている。
本発明に使用されるリン酸基含有化合物として好適なも
のは、モノ(2−ヒドロキシエチルアクリレート)アシ
ドフォスフェート、モノ(2−ヒドロキシエチルメタア
クリレート)アシドフォスフェート、アリルアルカ−ル
アシトフォスフェート、ビニルフォスフオン酸、バラビ
ニルベ″ンゼンフオスフオン酸などが挙げられる。
のは、モノ(2−ヒドロキシエチルアクリレート)アシ
ドフォスフェート、モノ(2−ヒドロキシエチルメタア
クリレート)アシドフォスフェート、アリルアルカ−ル
アシトフォスフェート、ビニルフォスフオン酸、バラビ
ニルベ″ンゼンフオスフオン酸などが挙げられる。
硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル、アクリル変
性樹脂例えば、アクリル変性ウレタン樹脂、アクリル変
性エポキシl!iI脂、アクリル変性アルキッド樹脂が
挙げられる。
性樹脂例えば、アクリル変性ウレタン樹脂、アクリル変
性エポキシl!iI脂、アクリル変性アルキッド樹脂が
挙げられる。
又、その他年!2!和基含有樹脂例えばスチレン化アル
キッド樹脂、アクリロニトリル変性アルキッド樹脂、な
どが挙げられる。
キッド樹脂、アクリロニトリル変性アルキッド樹脂、な
どが挙げられる。
本発明の結着材となるリン酸基含有化合物配合と硬化樹
脂の配合は一般的な方法で行える。
脂の配合は一般的な方法で行える。
即ち、硬化性樹脂をトルエン、メチルインブチルケトン
、キシレン、酢酸ブチル、などの溶液とし、これにリン
酸基含有化合物を混合し、ベンゾイルパーオキサイド、
アゾイソブチロニトリル、7メンハイドロパーオキサイ
ドなどの重合開始剤を使用する。代表的なリン酸基含有
化合物は硬化性樹脂中の不飽和結合と共重合し、分子中
に組み込まれることになるので耐湿性の良い樹脂となる
。
、キシレン、酢酸ブチル、などの溶液とし、これにリン
酸基含有化合物を混合し、ベンゾイルパーオキサイド、
アゾイソブチロニトリル、7メンハイドロパーオキサイ
ドなどの重合開始剤を使用する。代表的なリン酸基含有
化合物は硬化性樹脂中の不飽和結合と共重合し、分子中
に組み込まれることになるので耐湿性の良い樹脂となる
。
本発明でのリン酸基含有化合物の含有量は結その含有量
があまり大きくなると結着材樹脂自身の吸湿による変化
(その誘電率、抵抗など)が大きくなり、光導電層特性
に悪影響を与えることもある。
があまり大きくなると結着材樹脂自身の吸湿による変化
(その誘電率、抵抗など)が大きくなり、光導電層特性
に悪影響を与えることもある。
光導′1層を形成する結着材の含有量は、光導電体10
0重量部に対して0.h〜50重量部が適当である寧、
光導電材料の粒径9粒径分布などから好ましい条件が選
定される。
0重量部に対して0.h〜50重量部が適当である寧、
光導電材料の粒径9粒径分布などから好ましい条件が選
定される。
光導電層の厚さは、使用する光導電層の種類や特性にも
よるが一般には5〜100μ、特には10〜50μ程度
が好適である。光導電層の暗所における・−気抵抗は、
通常10 〜10 0備の範囲に設定される。絶縁層を
備えた感光体については、絶縁層の形成に用いられる樹
脂として、通常の各種の樹脂が適宜用いられるものであ
る。例えば、ポリエチレン、ボ1〕エステル、ポリプロ
ピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニール、ポリ酢酸ビ
ニール、アクリル樹脂、ポリカーボネート、シリコン樹
脂、弗素樹脂、エポキシ樹脂等である。通常絶縁層の厚
さは0.1〜100μ、特には0.1〜50μに設定さ
れる。
よるが一般には5〜100μ、特には10〜50μ程度
が好適である。光導電層の暗所における・−気抵抗は、
通常10 〜10 0備の範囲に設定される。絶縁層を
備えた感光体については、絶縁層の形成に用いられる樹
脂として、通常の各種の樹脂が適宜用いられるものであ
る。例えば、ポリエチレン、ボ1〕エステル、ポリプロ
ピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニール、ポリ酢酸ビ
ニール、アクリル樹脂、ポリカーボネート、シリコン樹
脂、弗素樹脂、エポキシ樹脂等である。通常絶縁層の厚
さは0.1〜100μ、特には0.1〜50μに設定さ
れる。
光導゛1材料としては、” e Hg * k! 、
8b 、 Bi 。
8b 、 Bi 。
Cd 、 Mo 、などの金属の酸化物、硫化物、ヨウ
化物、セレン化物などである。例えば酸化亜鉛、セレン
、硫化カドミウム、硫化亜鉛、セレン化カドミウム、酸
化鉛、硫化ヒ素、酸化チタン。
化物、セレン化物などである。例えば酸化亜鉛、セレン
、硫化カドミウム、硫化亜鉛、セレン化カドミウム、酸
化鉛、硫化ヒ素、酸化チタン。
亜鉛チタン酸化物、亜鉛ケイ素酸化物、亜鉛マグネシウ
ム酸化物、ヨウ化水銀、酸“化水銀、硫化水銀、硫化イ
ンジウム、カルシウムストロンチウム硫化物などがある
。
ム酸化物、ヨウ化水銀、酸“化水銀、硫化水銀、硫化イ
ンジウム、カルシウムストロンチウム硫化物などがある
。
本発明による感光体の代表的な構成は、支持体および光
導電層からなるものと、さらに光導電層の上に絶縁層を
備えたものが挙げられる。
導電層からなるものと、さらに光導電層の上に絶縁層を
備えたものが挙げられる。
感光体の製造の最も普通の方法は、支持体の上に光導電
層、さらに必要に応じて絶縁層を形成するものである。
層、さらに必要に応じて絶縁層を形成するものである。
支持体は、ステンレス、銅、アルミニウム、錫などの金
属板、紙、シート、樹脂フィルムなど任、意の材料から
形成される。
属板、紙、シート、樹脂フィルムなど任、意の材料から
形成される。
支持体の形状としては、円筒状、ベルト状、板状等、任
意の形状とし得、所望によって、その形状は決定される
が、連続高葎複写の場合には、無痛ベルト状又は円筒状
とするめが望ましい。
意の形状とし得、所望によって、その形状は決定される
が、連続高葎複写の場合には、無痛ベルト状又は円筒状
とするめが望ましい。
支持体の厚さは適宜決められるが、可撓性が要求される
1合には、支持体としての機能が充分発揮される範囲内
であれば、可能な限り薄くされる。然し乍ら、この様な
場合、支持体の製造上及び取販い上、機械的強度等の点
から、通常10μ〜50μが好ましい。
1合には、支持体としての機能が充分発揮される範囲内
であれば、可能な限り薄くされる。然し乍ら、この様な
場合、支持体の製造上及び取販い上、機械的強度等の点
から、通常10μ〜50μが好ましい。
実施例−1
CdS粉末100部に対し、結着材として熱硬 ′化
性アクリル樹脂(商品名: PFL−3288,三菱レ
ーヨン製)15部(at脂分)とモノ(2−ヒドロキシ
エチルアクリレート)アシドフォスフェート0.6部か
ら調合され九メ・チルエテルケトン溶液を混合する。こ
の液をよく攪拌したのち80μギヤツプのロールミル装
置に3回通過させ、CdSと結合材をよく混合し、メチ
ルエチルケトン溶剤を用いて粘度を500 cps K
調製後30備長のMドラム支持体をこの調整液に浸し、
30m/minの速箒で引き上げた後、150℃で30
分間熱処理を施こして硬化させ膜厚50μの光導電層を
形成させた。
性アクリル樹脂(商品名: PFL−3288,三菱レ
ーヨン製)15部(at脂分)とモノ(2−ヒドロキシ
エチルアクリレート)アシドフォスフェート0.6部か
ら調合され九メ・チルエテルケトン溶液を混合する。こ
の液をよく攪拌したのち80μギヤツプのロールミル装
置に3回通過させ、CdSと結合材をよく混合し、メチ
ルエチルケトン溶剤を用いて粘度を500 cps K
調製後30備長のMドラム支持体をこの調整液に浸し、
30m/minの速箒で引き上げた後、150℃で30
分間熱処理を施こして硬化させ膜厚50μの光導電層を
形成させた。
こ−の光導電層を13 Q mpa”s tic n−
ヘキサンで調整した合成イソプレンゴムのヘキサン?’
[(商品名・: 88)LIR2200,日本合成ゴム
製)に浸し、150 at / minの速度で引き上
げた後、70℃で15分間乾燥し、膜厚10μの目止絶
縁層を塗布し、−に10μの厚さの光硬化型エポキシア
クリレート樹脂(商品名: MUVC−Wo −4A大
日精化工業製溶剤メチルエチルケトン含有) 1を同様
な方法で設けた。
ヘキサンで調整した合成イソプレンゴムのヘキサン?’
[(商品名・: 88)LIR2200,日本合成ゴム
製)に浸し、150 at / minの速度で引き上
げた後、70℃で15分間乾燥し、膜厚10μの目止絶
縁層を塗布し、−に10μの厚さの光硬化型エポキシア
クリレート樹脂(商品名: MUVC−Wo −4A大
日精化工業製溶剤メチルエチルケトン含有) 1を同様
な方法で設けた。
次に、フッ素系界面活性剤(商品名:フロラ−トFc−
431、住友3 M社l! ) ヲ用イテf フロン粉
末(商品名ニルブロンL−2.ダイキン工業社Il!
) 40wt y、を分散させた塩ビ酢ビ共重実施例−
3 実施例−1と同様にして感光体を作成するがその際、硬
Aヒ性樹脂およびリン酸基含有化合物を下記の材料を使
用する。
431、住友3 M社l! ) ヲ用イテf フロン粉
末(商品名ニルブロンL−2.ダイキン工業社Il!
) 40wt y、を分散させた塩ビ酢ビ共重実施例−
3 実施例−1と同様にして感光体を作成するがその際、硬
Aヒ性樹脂およびリン酸基含有化合物を下記の材料を使
用する。
第1表
硬化性樹脂 リン酸基含有化合物、実 不飽和
ポリエステル樹脂 モノ(2−ヒドロキシエチル施(
商品名;ユピカ5524P アクリレート)
例 日本ユピカ製) アシドフォス
フェート−1 14部 1部 実 不飽和ポリエステル樹脂 施/+s、〜、、−−−−6 トナーによる乾式現像、転写、ウレタンクリーニングブ
レードによるクリーニング処理からなる4子写真プロセ
スで画像性を試験した。
ポリエステル樹脂 モノ(2−ヒドロキシエチル施(
商品名;ユピカ5524P アクリレート)
例 日本ユピカ製) アシドフォス
フェート−1 14部 1部 実 不飽和ポリエステル樹脂 施/+s、〜、、−−−−6 トナーによる乾式現像、転写、ウレタンクリーニングブ
レードによるクリーニング処理からなる4子写真プロセ
スで画像性を試験した。
その結果、各試料く形成された画像潜像の明部と暗部と
の靜゛框電位を乾燥雰囲気中と高湿雰囲気中(35℃、
85X、i5時間放置)について次の表に示す。
の靜゛框電位を乾燥雰囲気中と高湿雰囲気中(35℃、
85X、i5時間放置)について次の表に示す。
第2表
又、これらの感光体を同様な電子写真プロセスで15万
枚コピーの耐久試験をしたところ、第3表 実施例−1,−3−1,−3−3のM!A元体は、加湿
Fの特性が安定している。(第2表)又、第3表の如く
耐久性能(機械的)にも優れ九ものが出来ることが&I
i−された。
枚コピーの耐久試験をしたところ、第3表 実施例−1,−3−1,−3−3のM!A元体は、加湿
Fの特性が安定している。(第2表)又、第3表の如く
耐久性能(機械的)にも優れ九ものが出来ることが&I
i−された。
実施例−4
実施例−1と同様の光導電層を用いて、これに22μ厚
あシュリンカプルチューブ(円筒状熱収縮性ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム、商品名Na1ophan
:ヘキスト製)をかぶせた後、これを120℃の環境下
に20分間放置し、シリコンカプルフイルムチューブを
収縮、密着すせ20μ厚の絶縁層を形成させて感光体を
作成した。この感光体についても加湿特性や耐久特性が
優れていることが認められた。
あシュリンカプルチューブ(円筒状熱収縮性ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム、商品名Na1ophan
:ヘキスト製)をかぶせた後、これを120℃の環境下
に20分間放置し、シリコンカプルフイルムチューブを
収縮、密着すせ20μ厚の絶縁層を形成させて感光体を
作成した。この感光体についても加湿特性や耐久特性が
優れていることが認められた。
出 頭 人 キャノン株式会社
Claims (1)
- (1)光導電材料を結着am中に分散含有してなる光導
電層を有する電子写真感光体において、結着樹脂がリン
酸基含有化合物と硬化性樹脂から成るものであることを
特徴とする電子写真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1139982A JPS58127930A (ja) | 1982-01-26 | 1982-01-26 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1139982A JPS58127930A (ja) | 1982-01-26 | 1982-01-26 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58127930A true JPS58127930A (ja) | 1983-07-30 |
Family
ID=11776928
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1139982A Pending JPS58127930A (ja) | 1982-01-26 | 1982-01-26 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58127930A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0282275A2 (en) * | 1987-03-09 | 1988-09-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electro photographic photosensitive material |
EP0307227A2 (en) * | 1987-09-11 | 1989-03-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor |
JPH01100554A (ja) * | 1987-10-14 | 1989-04-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電子写真感光体 |
JPH03148668A (ja) * | 1989-07-28 | 1991-06-25 | Xerox Corp | ポリホスファゼンバインダーを有する光導電性画像形成部材 |
-
1982
- 1982-01-26 JP JP1139982A patent/JPS58127930A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0282275A2 (en) * | 1987-03-09 | 1988-09-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electro photographic photosensitive material |
EP0307227A2 (en) * | 1987-09-11 | 1989-03-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor |
JPH01100554A (ja) * | 1987-10-14 | 1989-04-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電子写真感光体 |
JPH03148668A (ja) * | 1989-07-28 | 1991-06-25 | Xerox Corp | ポリホスファゼンバインダーを有する光導電性画像形成部材 |
JPH0516017B2 (ja) * | 1989-07-28 | 1993-03-03 | Xerox Corp |
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