JPS59186991A - ２−アルキル−７−置換−２（または３）−セフエム−４−カルボン酸類の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は２−アルキル−７−置換−２（または３）−
セフェム−４−カルボン酸類のカルボキシ基におけるエ
ステル（Ｉｌａ）を脱離反応に付して、２−アルキル−
７−置換−２（または３）−セフェム−４−カルボン酸
類（Ｉｌ’ａ）　　を得ることからなる２−アルキル−
７−置換−２（または３）−セフェム−４−カルボン酸
類の製法に関するものである。

この発明の反応を一般式で示せば次の通りである。

のカルボキシ基に おけるエステル （Ｒ５） （式中Ｒ７はアミ７基またはアシルアミノ基、Ｒ２は↑ アルキル基、Ｘは−８−または−Ｓ−１点線は２または
３−セフェムをそれぞれ意味する）この発明の原料物質
（Ｉｌａ）は新規物質であり、例えば次の反応で製造す
ることができる。

のカルボキシ基に おけるエステル のカルボキシ基に おけるエステル （Ｉｌａ） （式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘおよび点線は前々同じ意味）さら
に、原料物質（Ｉｌａ　）の製造に使用される物質（Ｉ
ａ）も新規物質であり、例えば対応する２−アルキル−
２−ハロメチル−６−置換ペナム−３−カルボン酸もし
くはその１−オキサイドのカルボキシ基におけるエステ
ルに塩基を作用させることにより製造することができる
。

Ｒ５のアシルアミノ基におけるアシル基としては、脂肪
族アシノペ芳香環を含むアシルまたは複素環を含むアシ
ルのすべてを意味する。

ここにおいて脂肪族アシルとしては飽和もしくは不飽和
アルカノイルであって側鎖を有しあるいは環状になって
もよく、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブ
チリル、インブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバ
ロイノへアクリロイル、タロトノイル、２−メチルアク
リロイル、シクロペンチルカルボニル、シクロへキシル
カルボニル、シクロへブチルカルボニル、サクシニル、
シクロペンチルアセチル、シクロへキシルアセチル、シ
クロへブチルアセチル、シクロへキシルブー　　４　− ロビオニル、シクロへブチルプロピオニル、ジヒドロベ
ンゾイル、２，４．６−シクロへブタトリエニルアセチ
ル、ジヒドロフェニルアセチル等が挙ケられ、またこれ
らの飽和もしくは不飽和アルカノイルは酸素原子または
硫黄原子で中断されていてもよく、この様な基さしては
、例えばメトキシアセチル、メチルチオアセチル、２−
プロペニルチオアセチル、シクロへキシルチオアセチル
、シクロへキシルオキシアセチル、ジヒドロフェノキシ
アセチル、ジヒドロフェニルチオアセチル、メトキシカ
ルボニル シカルボニル、ブトキシカルボニル、第３級ブトキシカ
ルボニル、シクロペンチルオキシカルボニル、シクロヘ
キシルオキシカルボニル、ジヒドロフェノキシカルボニ
ル、シクロへブチルオキシカルボニル等が挙げられる。

また芳香環を含むアシルとしてはベンゾイル、トルオイ
ル、ナフトイル、α−メチルナフトイル、フタロイル、
テトラヒドロナフトイル等のアリロイル、ベンセ゛ンス
ルホニル、トシル等のアリールスルホニルおよびフェニ
ルアセチル、フェニルプロピオニル、フェニルブチリル
、トリルアセチル、キシリルアセチル、ナフチルアセチ
ル、テトラヒドロナフチルアセチル等のアラルカッイル
の両者を含み、まだこのアラルカッイルのアルキル部分
の炭素原子は酸素原子または硫黄原子で置き変えられて
いてもよく、この様な基としては例えばフェノキシアセ
チル、フェニルチオアセチル、ベンジルオキシカルボニ
ル、キシリルオキシカルボニル、ナフトキシカルボニル
、フェノキシカルボニル、２−フエノキシプロビオニノ
へ　２−フェノキシブチリル等が挙げられる。さらに複
素環を含むアシルとしては、酸素原子、硫，黄原子、窒
素原子その他のへテロ原子を少なくとも１個もしくはそ
れ以上含む飽和もしくは不飽和複素単環もしくは複素多
環残基、例えばチェニル、ベンゾチェニル、フリル、ピ
ラニル、５Ｉ６−シヒドロー２Ｈ−ピラニル、インベン
ゾフラニル、タロメニル、キサンテニル、２Ｈ−ピロリ
／ｌ／、３Ｈ−ピロリル、ピロリル、イミダゾリル、ピ
ラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ビラジニル、ピリ
ダジニル、イソインドリル、インドリル、イミダゾリル
、キノリル、イソキノリル、インキサゾリル、インチア
ゾリル、オキサジアゾリル、ピロリジニル、ピロリニル
、イミダゾリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ジ
アゾリル、トリアゾリル、オキサシリル、チアゾリル、
チアジアゾリル、テトラゾリル、ペンズオキサゾリノへ
ベンズオキサジアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチ
アジアゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンズイミダゾリ
ル、シトノニル等の複素環を含む複素環カルボニルおよ
び前記複素環もしくは複素環置換オキシもしくは複素環
置換チオもしくは複素環置換アミノもしくはＮ−アルキ
ル複素環置換アミン等の基を置換分として有するアセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、インブチリル、バレリル
、インバレリル、ピパロイル、アクリロイノへ　タロト
ノイル、２−メチルアクリロイル等のアルカノイル、例
えばＩＨ（もしくは２Ｈ）−テトラゾリルアセチル、チ
ェニルアセチル、チェニルプロピオニル、フリルアセチ
ル、ピペラジニルアセチル、ピペラジニルアセチル、ピ
ロリジニルプロピオニル、チアジアゾリルアセチル、オ
キサジアゾリルアヤチル、ペンゾチアゾリルアセチノベ
オキサゾリルアセチル、ベンズオキサシリルアセチル等
が挙げられ、寸たこの複素環を置換分として有するアル
カノイルのアルキル部分の炭素原子は酸素原子捷たけ硫
黄原子で置きかえられていてもよく、この様な基として
は、例えばピリジルメトキシカルボニル、２−フリルオ
キシカルボニル、８−キノリルオキシカルボニル等が挙
げられる。さらにこれらの脂肪族アシル、芳香環を含む
アシルまたは複素環を含むアシルはその任意の位置に適
当な置換分を１個もしくはそれ以上有していてもよく、
この様な置換分としてはメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、１−プロペニル、２−プロペニル、シクロ
プロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロへ
ブチル等のアルキル、フェニル、キシリノベ　トリル等
のアリーノへベンジル、フェネチル等のアラルキル、ア
ミノ、メルカプト、ニトロ、アシド、クロル、フルオル
、ブロム等のハロゲン、カルボキシ、スルホ、ヒドロキ
シ、ヒドロキシアミノ、モノ（もしくはジ）メチルアミ
ノ、モノ（もしくはジ）エチルアミノ、モノ（もしくは
ジ）プロピルアミン、モノ（もしくはジ）イソプロピル
アミン等のモノ（もしくはジ）アルキルアミ７基、モノ
（もしくはジ）フェニルアミノ、モノ（もしくはジ）ト
リルアミム等のモノ（もしくはジ）アリールアミノ、モ
ノ（もしくはジ）ベンジルアミノ、モノ（もしくはジ）
フェネチルアミ７等のモノ（もしくはジ）アラルキルア
ミノ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシ等のアルコキシ基、メチルチオ、エチルチ
オ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ等の
アルキルチオ基等が挙げられ、さらにこの様な置換分を
有する脂肪族アシル、芳香族を含むアシルまたは複素環
を含むアシルとしては、例えばトリクロロエトキシカル
ボニル、トリブロモエトキシカルボニル、１−シクロプ
ロピルエトキシ力ルポニル、タロロアセチル、２−クロ
ロプロピオニル、トリフルオロアセチノへα−アミンフ
ェニルアセチル、カルバモイル、フェニルカルバモイル
、α−ヒドロキシフェニルアセチル、ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、０−ブロモベンジルオキシカルボ
ニル、０−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｐ−メト
キシベンジルオキシカルボニル、３．４−ジメトキシベ
ンジルオキシカルボニル、ｐ−ヒドロキシフェニルアセ
チル、２−アミノ−２−（５，６−シヒドロー２Ｈ−ピ
ラン−３−イル）アセチル、２−アミノ−２−（ｐ−ヒ
ドロキシフェニル）アセチル、２．６−シメトキシベン
ゾイＪＬ／、　　ｐ−アセトアミドベンゼンスルホニル
、３−フェニル−５−メチル−４−オキサシリルカルボ
ニル、３−（２−クロロフェニル）　−５＝　ｌ　チル
−４−オキサシリルカルボニル３−（２．６−ジクロロ
フェニル）−５−メチル−４−オキサシリルカルボニル
、３−（２−クロロ−６−フルオロフェニル）−５−メ
チル−４−オキサシリルカルボニル等が挙げられる。

捷だこの様なアシル基中に遊離のアミン基、ヒドロキシ
基、メルカプト基、カルボキシ基、スルホ基等がある場
合には、この様なアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト
基、カルボキシ基、スルホ基等が保護基で保護された場
合も本発明の範囲に含まれるものである。

ここにおいてアミン基の保護基としては通常アミン保護
基として使用しうるすべての基を含み、例えばトリクロ
ロエトキシ−カルボニル、トリブロモエトキシカルボニ
ル、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−トルエンスルホニ
／Ｌ／、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、０−ブ
ロモベンジルオキシカルボニル、０−ニトロフェニルス
ルフェニル、タロロアセチル、トリフルオロアセチル、
ホルミル、α−ピコリニル、ビニルオキシカルボニル、
第３級ブトキシカルボニル ルオキシカルボニル、３１４−ジメトキシベンジルオキ
シ力ルポニノに，４−（フェニルアゾ）ベンジルオキシ
カルボニル、４−（４−メトキシフェニルアゾ）ベンジ
ルオキシカルボニル、ピリジン−１−オキサイド−２−
メトキシカルボニル、２−ピリジルメトキシ力ルボニル
、２−フリルオキシカルボニル、シフェニルメトキシ力
ルポ二ノへ１。

ｌ−ジメチルプロポキシカルボニル、インプロポキシカ
ルボニル、１−シクロプロピルエトキシカルボニル、２
−シアノ−１，１−ジメチルエトキシカルボニル、フタ
ロイル、サクシニル、１−アダマンチルオキシカルボニ
ル、８−キノリルオキシカルボニル、インボルニルオキ
シカルボニル、９−フルオレニルメトキシ力ルポニル等
の脱離しゃすいアシル基が挙げられ、さらに、例えば、
トリチル、２−ニトロフェニルチオ、２１４−ジニトロ
フェニルチオ、ベンジリデン、４−ニトロベンジリデン
、２−ヒドロキシベンジリデン、２−ヒドロキシ−５−
タロロペンジリデン、２−ヒドロキシ−１−ナフチルメ
チレン、３−ヒドロキシ−４−ピリジルメチレン、１−
メトキシカルボニル−２−プロピリデン、１−エトキシ
カルボニル−２−フロビリデン、３−エトキシカルボニ
ル−２−ブチリデン、１−アセチル−２−プロピリチン
、１−ベンゾイル−２−プロピリデン、１−（Ｎ−（２
−メ）キシフェニル）カルバモイル）−２−プロピリデ
ン、１−（Ｎ−（４−メトキシフェニル）カルバモイル
）　−２−７”ロヒリテン、２−エトキシカルボニルシ
クロへキシリテ゛ン、２−エトキシカルボニルシクロペ
ンチリテン、２−アセチルシクロヘキシリチン、３，３
−ジメチル−５−オキソシクロへキシリデン等の脱離し
やすい基（こレラのうち例えば１−メトキシカルボニル
−プロピリデンは１−メトキシカルボニル−１−プロペ
ン−２−イルと表わされることがあり、また例ｔば２−
エトキシカルボニルシクロへキシリチンは２−エトキシ
カルボニル−１−シクロへキー１ニルと表わされること
もある）、またジもしくはトリアルキルシリル等のアシ
ル基以外のアミノ基の保護基が挙げられ、またヒドロキ
シ基およびメルカプト基の保護基としては通常ヒドロキ
シ基およびメルカプト基の保護基として使用し得るすべ
ての基を含み、例えばホルミル、アセチル、ベンジルオ
キシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニル
、４−ブロモベンジルオキシカルボニル、４−メトキシ
ベンジルオキシカルボニル、３、４−ジメトキシベンジ
ルオキシカルボニル、４−（フェニルアゾ）ベンジルオ
キシカルボニル、４−（４−メトキシフェニルアゾ）ベ
ンジルオキシカルボニル、第３級ブトキシカルボニル、
Ｉ＋１ージメチルプロポキシカルポニル、インプロポキ
シカルボニル、ジフェニルメトキシカルボニル、２−ピ
リジルメトキシカルボニル、２，２．２−トリブロモエ
トキシカルボニル、２，　２．　２　　Ｆ　！Ｊ　フリ
ルオキシカルボニル、３−ヨｉドプ口ボキシ力ルポニル
、２−フルフリルオキシカルボニル、１−アダマンチル
オキシカルボニル、１−シクロプロピルエトキシカルボ
ニル、３−キノリルオキシカルボニル、トリフルオロア
セチル等の脱ＭＬやすいアシル基のほか、ペンジノベ　
トリチル、メトキシメチル、２−ニトロフェニルチオ、
２，４−ジニトロフェニルチオ等の基が挙げられ、さら
にカルボキシ基の保護基としては、通常のカルボキシ基
の保護基として使用し得るすべての基を含み、例えばそ
のエステル部分がメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、第３級ブチル、ブチル、ベンジル、ジフェニルメ
チル、トリフェニルメチル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−
メトキシベンジル、ベンゾイルメチル、アセチルメチノ
ペ　ｐ−ニトロベンゾイルメチル、ｐ−ブロモベンゾイ
ルメチル、ｐ−メタンスルホニルベンゾイルメチル、フ
タルイミドメチル、トリクロロエチル、トリブロモエチ
ル、】、１−ジメチル−２−プロピニル、アセトキシメ
チル、プロピオニルオキシメチル、ピパロイルオキシメ
チル、１，１−ジメチルプロピル、１゜ｌ−ジメチル−
２−７”ロペニル、３−メチル−３−ブテニル、サクシ
ンイミドメチノへ　１−シクロプロピルエチル、３．５
−ジ第３級ブチルー４−ヒドロキシベンジル、メチルス
ルフェニルメチル、フェニルスルフェニルメチル、メチ
ルチオメチル、フェニルチオメチノペジメチルアミノメ
チル、ピリジン−１−オキサイド−２−メチル、キノリ
ン−１−オキサイド−２−メチル、メチルスルフィニル
メチル、ジ（ｐ−メトキシフェニル）メチル、２−シア
ノ−１，１−ジメチルエチル等であるエステル、さらに
特開昭４６−７０７３号公報および＝　１５− オランダ国公開公報第７１０５２５９号に記載されてい
る例えばジメチルジクロロシランの如きシリル化合物ま
たはドイツ国公開公報第２０６２９２５号に記載されて
いる例えば、４塩化チタンの如き非金属化合物でカルボ
キシ基が保護されている場合等が例示される。

捷たＲ２におけるアルキル基としては、例えばメチル、
エチル、プロピル、ブチル等が挙げられる。

カルボキシ基におけるエステルとしては活性エステル及
び非活性エステルのすべてを含み、例えば、エステル部
分が、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、プチ
ノペ第３級グチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、
ビニル、１−プロペニル、２−７”ロペニル、１，１−
ジメチル−２−プロペニル、３−−エチニル、ｌ、１−
ジメチル−２−プロピニル等の飽和もしくは不飽和アル
キル、フェニル、キシリル、トリル、ナフチル等のアリ
ール、ベンジル、フェネチル等のアラルキル、また前記
飽和もしくは不飽和アルキルおよびアラルキルのアルキ
ル部分の炭素原子が硫黄原子、窒素原子、＝１６− 酸素原子まだはカルボニル等でおきかえられた、メトキ
シメチル、エトキシメチル、メチルチオエチル、メチル
チオメチル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエ
チル、フェノキシメチル、フェニルチオメチル、メチル
スルフェニルメチル、フェニルスルフェニルメチル、ベ
ンゾイルメチル、トルオイルメチル等、さらにこれら上
記の基が適当な置換分、例えばシアノ、ニトロ、フルオ
ル、クロル、ブロム等のハロゲン、メトキシ、エトキシ
、プロポキシ等のアルコキシ、アルカンスルホニル、フ
ェニルアゾ等を１個もしくはそれ以上有するクロロメチ
ル、ブロモメチル、トリクロロエチル、シアノメチル、
２−シアノ−１，１−ジメチルエチル、ｐ−ニトロフェ
ニル、２，４．５−　）　ジクロロフェニル、２，４．
６−　ト１，１　クロロフェニル、ペンタクロロフェニ
ル、ｐ−メタンスルホニルフェニル、４−（フェニルア
ゾ）フェニル、２．４−ジニトロフェニル、ｐ−クロロ
ベンジル、０−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジル
、ｐ−ニトロベンジル、３，４．５−）リメトキシベン
ジル、ビス（ｐ−メトキシフェニル）メチル、ペンタク
ロロベンジル、トリクロロベンジル、３，５−ジ第３級
フチルー４−ヒドロキシベンジル、ｐ−ニトロフェニル
チオメチル、ｐ−クロロフェニルチオメチル、ｐ−ニト
ロベンゾイルメチル、ｐ−クロロベンゾイルメチル等、
その他置換もしくは非置換チオアルコール、Ｎ−ヒドロ
キシこはく酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、テ
トラヒドロビラノール、１−シクロプロピルエタノール
、１−フェニル−３−メチル−５−ヒラゾロン、３−ヒ
ドロキシピリジン、２−ヒドロキシメチルピリジン−１
−オキサイド、１−ヒドロキシピペリジン、１−ヒドロ
キシ−２（ＩＨ）−ピリドン、ジメチルヒドロキシルア
ミン、ジエチルヒドロキシルアミン、グリコールアミド
、８−ヒドロキシキノリン、オキシム、２−ヒドロキシ
メチルキノリン−１−オキサイド、メトキシアセチレン
、エトキシアセチレン、第３級ブチルエチニルジメチル
アミン、第３級ブチルエチニルジエチルアミン、エチル
エチニルジエチルアミン、２−エチル−５−（３−スル
ホフェニル）イソキサゾリクムヒドロキサイド分子内塩
、１．５．９．９．１０−ペンタクロル−９゜１０−ジ
ヒドロアシドラセン、９，９．１０−）　１）　クロル
−９，１０−ジヒドロアントラセン、１．８．９．１０
．１０−ペンタクロル−９，１０−ジヒドロアシドラセ
ン等の９゜１０．１０−トリハロゲノ−９，１０−ジヒ
ドロアントラセン誘導体等とのエステルが挙げられる。

化合物（Ｈａ）を脱離反応に付して化合物（Ｉｌ’ａ）
に導く工程における脱離反応は、カルボキシ基における
エステルをカルボキシ基に導く還元、加水分解等のすべ
ての脱離方法が適用できる。例えばカルボキシ基におけ
るエステルが活性エステルである場合には、通常の加水
分解条件下ではもちろん、水と接触させるだけの緩和な
加水分解条件で反応が進行する場合が多く、またカルボ
キシ基におけるエステルが２−ヨードエチルエステル、
２，２．２−トリクロロエチルエステル、ベンジルエス
テルなどのときには還元による方法が、またカルボキシ
基におけるエステルが４−メトキシベンジルエステル、
ｔ−−エチルエステル、ｔ−ペンチルエステル、トリチ
ルエステル、ジフェニルメチルエステル、ビス（メトキ
シフェニル）メチルエステル、３．４−ジメトキシベン
ジルエステル、（１−シクロプロピル）エチルエステル
などのときには酸による方法が、さらにカルボキシ基に
おけるエステルがエチニルエステル、４−ヒドロキシ−
３，５−ジ（ｔ−ブチル）ベンジルエステルなどのとき
には無水塩基性触媒による方法がそれぞれ採用される。

ここで、還元による方法としてはすす、亜鉛、亜鉛アマ
ルガム等の余りあるいはＣｒＣｌ２、Ｃｒ（ＯＡＣ）２
等のクロム塩と弗酸、酢酸などの酸とを用いる方法およ
び接触還元による方法がその代表例としてあげられる。

ここで接触還元の触媒としてはたとえば白金線、白金海
綿、白金黒、酸化白金、コロイド白金等の白金触媒、パ
ラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジ
ウム硫酸バリウム、パラジウム炭酸パリクム、バラジク
ム炭素、パラジウムシリカゲル、コロイドパラジウム等
のパラジウム触媒、還元エステル、酸化ニッケル、ラネ
ーニッケル、漆原ニッケル等があげられる。

壕だ、酸による方法の際に使用される酸としては弗酸、
トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のトリハロ酢酸、
塩酸、弗化水素酸、ｐ−）ルエンスルホン酸、トリフル
オロメタンスルホン酸、塩酸・酢酸混合酸などが例示さ
れる。

さらに無水塩基性触媒による方法の際に使用される塩基
性触媒としてはチオフェノールのナトリウム塩、リチウ
ムジメチル銅［（ＣＨ３）２　ＬｉＣｕ　］などが例示
される。

脱離反応は、水で処理する場合、反応に酸などの液体の
試剤を使用するときには特に他の溶媒を必要としないが
、その他の場合には、例えばジメチルホルムアミド、ジ
クロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ア
セトン、メタノール、エタノール等のこの反応に悪影響
を与えないものはいずれも使用することができる。

脱離反応の温度は特に限定されず、化合物（Ｉｌａ）、
試剤等の種類に応じて適宜選択される。この脱離反応に
おいて、反応中もしくは反応の後処理中に分子内に置換
分として存在するカルボキシ基におけるエステルが同時
にカルボキシ基に転じる場合、ヒドロキシ基、メルカプ
ト基、アミ７基等の保護基が同時に脱離する場合等はす
べてこの発明の範囲に包含される。

まだ化合物（Ｉｌ’ａ）を得るこの反応において、化合
物（Ｉｌａ）　（！：して、２−セフェム体、３−セフ
ェム体および３−セフェム体の２位における立体異性体
等を単独で、あるいは混合物の状態で使用した場合のい
ずれにおいても、それらが反応中あるいは後処理中に転
位した化合物（Ｉｌ’ａ）が得られる場合があるが、い
ずれの場合もこの発明の範囲に包含される。またこれら
の異性体が混在して生成する場合には必要に応じて再結
晶等の常法により夫々を単離してもよい。

この発明の反応により生成する化合物（Ｉｌ’ａ）は新
規物質であり、抗菌活性を有し、医薬として有用であり
、また他の抗菌性物質を製造する中間体としても有用で
ある。

次にこの発明を実施例により説明する。

実施例１ ２−メチル−７−（Ｎ−（１−シクロプロピルエトキシ
）カルボニルフェニルグリシル）アミノ−３−セフェム
−４−カルボン酸の２．２．２−）リクロロエチルエス
テル２．９５　ｙを無水ジメチルホルムアミド１．２．
５　ｍｅおよび酢酸３．７５　ｍｅの混液に溶解し、５
℃に冷却撹拌下、この溶液に亜鉛末３．０ｙを加え、１
．５時間撹拌する。反応後、亜鉛末を沢去し、亜鉛末を
ジメチルホルムアミド２ｍｅで洗浄したのち、混液と洗
液を合わせ、この溶液を酢酸エチル５０ｍｅ、木水５０
　ｍｅおよび１０係塩酸３ｍｅの混液に注ぎ抽出する。

水層はさらに酢酸エチル２０　ｍｅで抽出後、抽出液を
合わせたのち、水２０　ｍｅで３回ついで飽和塩化ナト
リウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。

乾燥後、溶媒を留去し、得られる残渣をエーテルで洗浄
した後乾燥するとｍｐ１６８〜１６９℃の２−メチル−
７−（Ｎ−（１−シクロプロピルエトキシ）カルボニル
フェニルグリシル）アミノ−３−セフェム−４−カルボ
ン酸の無色結晶２．０１　ｙ（８７チ）を得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３２７０、　１７７０．　１７２０．　１６８５．　１
６６０ｃｍ　’核磁気共鳴吸収スペクトル（ｄ６−シメ
チルスルホキサイド、τ）９．９４〜９．００（５Ｈ，
ｍ）、　　８．７８（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）。

８．６５（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）、　　６．２４
（ＩＨ，ｍ）。

５．７２（ＬＨ，ｍ）、　　４．５’７（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝８．５Ｈｚ）。

４．１９（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−４，５Ｈｚ、９Ｈｚ）。

３．４７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　　２．６３（５
Ｈ，ｍ）実施例２ ２−メチル−７−（２−（ＩＨ−テトラゾール−１−イ
ル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カルボン酸の
２，２，２−トリクロロエチルエステル２．０ｙを無水
ジメチルホルムアミド１０　ｍｅおよび酢酸３ｍｅの混
液に溶解し、水冷撹拌下この溶液に亜鉛末２．４ｙ−を
加え、同温度で１．５時間撹拌する。反応後、亜鉛末を
許去し、Ｐ液を酢酸エチル５　Ｃｊ　ｍｅ、氷水および
１０％塩酸５ｍｅの混液に注ぎ抽出する。水層は、さら
に酢酸エチル１０　ｍｅで抽出し、抽出液を合わせたの
ち、水で２回洗浄し、硫酸マグネジレムで乾燥する。乾
燥後、溶媒を留去して得られる残渣に少量のエーテルを
加え、結晶化するとｍｐ２０２〜２０３°Ｃ（分解）の
２−メチル−７−（２−（ＩＨ−テトラゾール−１−イ
ル）アセトアミ）’）−３−セフェム−４−カルボン酸
の無色結晶０．９７　ｙ（６８％）を得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） １７８５、　１７６０．　１６８０ｃｍ’核磁気共鳴吸
収スペクトル（Ｄ２０＋ＮａＨＣＯ３，τ）８．６４（
３Ｈ，ｄ、　７Ｈｚ）、　　５．３０（ＩＨ，ｍ）。

５．０２（ＩＨ，ｄ、　４．５Ｈｚ）、　　４．５９（
２Ｈ，ｓ）。

４．３２（ＩＨ，ｄ、　４．５Ｈｚ）、　　３．７５（
ＩＨ，ｄ、　６Ｈｚ）。

０．９７（ＩＨ，ｓ） 実施例３ ２−メチル−７−（２−（２−チェニル）アセトアミド
）−３−セフェム−４−カルボン酸の２゜２、２−　）
リクロロエチルエステル１．８ｙを無水ジメチルホルム
アミド１０　ｍｅに溶解し、水冷撹拌下、この溶液に酢
酸３ｍｅついで亜鉛末２．４ｙを加え、同温度で１時間
撹拌する。反応後、亜鉛末をＦ去し、Ｐ液を５％塩酸５
０　ｍｅおよび酢酸エチル４゜ｍｅの混液に注ぎ、抽出
したのち酢酸エチル層は水洗後、乾燥する。乾燥後、溶
媒を留去し、残渣をエーテルに溶解後、放置し、析出す
る結晶を沢取し、乾燥するとｍｐ１７５℃（分解）の２
−メチル−７−（２，−（２−チェニル）アセトアミド
）−３−セフェム−４−カルボン酸１．２ｙをｍる。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３２９０、　１７９０．　１７６０．　１６９０．　１
６３０σ−１核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤ３０Ｄ、
τ）８．５８（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　　６．５
７（２Ｈ，ｓ）。

６．５０（ＩＨ，ｍ）、　　５．２８（ＬＨ＋ｄ＋Ｊ＝
４Ｈｚ）。

４．４７（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝４Ｈｚ）、　　３．７８（
ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ）。

３、３０（３Ｂ’、、　ｍ） 実施例４ ２−メチル−７−ベンジルオキジカルボキサミド−３−
セフェム−４−カルボン酸の２．２．２−　トリクロロ
エチルエステル１．９ｙを無水ジメチルホルムアミド１
０　ｍｅに溶解し、水冷撹拌下、この溶液に酢酸３ｍ１
ついで亜鉛末２．４ｙを加え、同温度で１時間撹拌する
。反応後、亜鉛末を沢去し、Ｐ液は５頒塩酸５０　ｍｅ
および酢酸エチル４０ｍｅの混液に注ぎ、抽出し、抽出
液は水洗後、乾燥する。

乾燥後、溶媒を留去し、残渣にエーテルを加えて結晶化
するとｍｐ１６７〜１６９℃（分解）の２−メチル−７
−ベンジルオキジカルボキサミド−３−セフェム−４−
カルボン！ｉ？Ｄ無色結晶１．１３２を得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３３１０、　１７８０．　１７３０．　１６９５．　１
６３２σ−１核磁気共鳴吸収スペクトル（ａ６−シメチ
ルスルホキサイド、τ）８．６５（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、　　６．３３（ＩＨ，ｍ）。

５．１５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）、　　５．０７（２
Ｈ，ｓ）。

４．５７（ＩＨｌｄｄ、Ｊ＝４，８Ｈ２）、３．７２（
ＩＨ２ｄ、Ｊ−６Ｈ２）。

２．９５（５Ｈ，ｓ）、　　１．９５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
８Ｈｚ）実施例５ ２−メチル−７−（２−フェニルチオアセトアミド）−
３−セフェム−４−カルボン酸の２．２．２−トリクロ
ロエチルエステル２．７９４２を無水ジメチルホルムア
ミド１５　ｍｅに溶解し、水冷撹拌下この溶液に酢酸４
．５　ｍｅついで亜鉛末３．６ｙを加え、同温度で２時
間撹拌する。反応後、亜鉛末を瀘去し、Ｐ液を５％塩酸
７５　ｍｅおよび酢酸エチル５０ｍｅの混液に注ぎ、抽
出したのち水洗、乾燥する。

乾燥後、溶媒を留去し、残渣にエーテルを加えて結晶化
するとｍｐ１６８〜１７１℃（分解）の２−メチル−７
−（２−フェニルチオアセトアミド）−３−セフェム−
４−カルボン酸の無色結晶２．。

ｙを得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３２９０、　１７７０．　１７２５．　１６６９．　１
６３２ｃｍ−１核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤ３０Ｄ
、τ）８．５８（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　　６．
４２（２Ｈ，ｓ）。

６．３７（ＬＨ，ｍ）、　　５．１５（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝
４Ｈｚ）。

４．３７（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝４Ｈｚ）、　　３．５７（
ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ）。

２．９３（５Ｈ，ｍ） 実施例６ ２−メチル−７−（２−（３−クロロフェニル）アセト
アミｌ’）−３−セフェム−４−カルボン酸（Ｄ　２．
２．２−　）　ＩＪ　クロロエチルエステル２．６　ｙ
を無水ジメチルホルムアミド３０　ｍｅに溶解し、水冷
撹拌下この溶液に酢酸４．１　ｍｅついで亜鉛末３．４
ｙを加え、同温度で１．５時間撹拌する。反応後、亜鉛
末を炉去し、Ｐ液を５％塩酸１５０　ｍｅおよび酢酸エ
チル７５　ｍｅの混液に注ぎ、抽出したのち抽出液は水
洗し、乾燥する。乾燥後、溶媒を留去し、残渣にアセト
ニ）　ＩＪルを加え結晶化し、許取したのち結晶をエー
テルで洗浄し、乾燥するとｍｐ１７３〜１７４℃（分解
）の２−メチル−７−（２−（３−クロロフェニル）ア
セトアミド）−３−セフェム−４−カルボン酸の無色結
晶１．４ｙを得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３２９０、　１７７８．　１７２５．　１６５５．　１
６３４ｃＩｎ。

核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤ３０Ｄ、τ）８．５３
（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、　　６．３８（２Ｈ，ｓ
）。

６．３０（ＩＨ，ｍ）、　　４．９０（ＩＨ，ｄ、　Ｊ
＝４Ｈｚ）。

４．１７（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝４Ｈｚ）、　　３．３７（
ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ）。

２．７０（４Ｈ，ｍ） 実施例７ ２−メチル−７−（３−（Ｎ−第３級ブトキシカルボニ
ルアミノ）−３−（２−チェニル）フロピオンアミド）
−３−セフェム−４−カルボン酸の２．２．２−　）　
ＩＪククロエチルエステル０．５４ｙを無水ジメチルホ
ルムアミド３ｍｅおよび酢酸１ｍｅの混液に溶解し、０
〜５℃に冷却下、この溶液に亜鉛末０．６ｙを加え２時
間撹拌する。反応後、亜鉛末をＥ去し、Ｐ液を酢酸エチ
ル５０　ｍｅおよび５％塩酸３０ｍｅの混液に注ぎ、抽
出する。抽出液は飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、乾燥後溶媒を留去するとｍｐ１６７〜１７
０°Ｃ（分解）の２−メチル−７−（３−（Ｎ−第３級
ブトキシカルボニルアミノ）−３−（２−チェニル）プ
ロピオンアミド）−３−セフェム−４−カルボン酸０．
３６５ｙ（８６％）を得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３３２０、　１７８０．　１７１０．　１６８０．　１
６５５ｃｍ”実施例８ ２−メチル−７−（２−シアノアセトアミド）−３−セ
フェム−４−カルボン酸の２．２．２−　）リクロロエ
チルエステル３．２ｙを無水ジメチルホルムアミド１５
　ｍｅに溶解し、水冷撹拌下この溶液に酢酸４ｍｅつい
で亜鉛末３ｙを加え、同温度で１時間撹拌する。反応後
、反応液に酢酸エチル１００ｍｅを加え、不溶物を瀘去
したのち、溶液は塩化ナトリウムで飽和した５係塩酸で
洗浄し、ついで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で抽出す
る。水層は１０％塩酸で酸性としたのち酢酸エチルで抽
出し、抽出液は飽和塩化す）　ＩＪクム水溶液で洗浄後
、硫酸マグネシウムで乾燥する。乾燥後、溶媒を留去し
て得られる結晶性残渣を酢酸エチル・ベンゼンの混液か
ら再結晶するＪｍｐ１６２〜１６６℃の２−メチル−７
−（２−シアノアセトアミド）＝３−セフェム−４−カ
ルボン酸２．３ｙ（９０％）を得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３３００、　２２５０．　１７８０．　１７１０．　１
６７２ｗ　’核磁気共鳴吸収スペクトル（Ｄ２０＋Ｎａ
ＨＣＯ３，τ）８．５２（３Ｈ，ｄ、　Ｊ−７Ｈｚ）、
　　６．２（ＩＨ，ｍ）。

４．８７（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ）、　　４．２１（
ＬＨ，ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ）。

３．６０（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ） 紫外吸収スペクトル（ｐＨ６，４りん酸緩衝液）λｍａ
ｘ　２５１ｍ、４　（Ｅ＝２０５）実施例９ ２−メチル−７−（３−フェニルウレイド）−３−セフ
ェム−４−カルボン酸の２．２．２−　）リクロロエチ
ルエステル４．１　ｙを無水ジメチルホルムアミド３０
　ｍｅに溶解し、水冷撹拌下この溶液に酢酸８ｍｅつい
で亜鉛末６２を加え、水冷下１時間ついで室温で３．５
時間撹拌する。反応後、反応液に１０係塩酸および酢酸
エチルを加え、不溶物を沢去したのち、涙液の酢酸エチ
ル層を分離し、炭酸水素ナトリウム水溶液で抽出する。

水層を１０％塩酸で酸性としたのち、酢酸エチルで抽出
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。乾燥後、溶媒を留去
し、残渣にエーテルを加えて結晶化するとｍｐ１４８〜
１５１℃の２−メチル−７−（３−−ｙエニルクレイド
）−３−セフェム−４−カルボン酸１．０ｙを得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３３００、　１７８０．　１７１３ｃＩｎ’核磁気共鳴
吸収スペクトル（ｄ６−シメチルスルホキサイド、τ）
８．５６（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　　６．１５（Ｌ
Ｈ，ｍ）。

４．９０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、４．１６（ＩＨ，
ｄｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ）。

３．４２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　　２．０６（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）紫外吸収スペクトル λｍａｘ　２３９ｍ／’　（Ｅ＝１７６）実施例１０ ２−メチル−７−（２−（１，３，４−チアジアゾール
−２−イルチオ）アセトアミド）−３−セフェム−４−
カルボン酸の２．２．２−　）リクロロエチルエステル
４．６５　ｙを無水ジメチルホルムアミド３０加ｅに溶
解し、水冷撹拌下この溶液に酢酸８ｍｅついで亜鉛末６
ｙを加え、同温度で１時間撹拌する。反応後、反応液に
酢酸エチル１５０　ｍｅを加えて不溶物を戸去し、Ｐ液
は塩化ナトリウムで飽和した５％塩酸で洗浄後、炭酸水
素す）　ＩＪクム水溶液で抽出する。抽出液は１０％塩
酸で酸性としたのち酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層
は飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。乾燥後、溶媒を留去し、残渣を酢酸エチ
ル・ベンゼンの混液から再結晶するとｍｐ１９７〜１９
９℃の２−メチル−７−（２−（１゜３．４−チアジア
ゾール−２−イルチオ）アセトアミド）−３−セフェム
−４−カルボン酸１．５　／７（４４，５チ）を得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３３００、　３１００．　２６００．　１７８０．　１
７１０．　１６７０゜１６３８、　１５４０ｃ１ｎ−１ 核磁気共鳴吸収スペクトル（Ｄ２ｏ＋ＮａＨｃｏ３．τ
）８．５７（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　　６．２（Ｉ
Ｈ，’ｍ）。

４．９５（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝４．５Ｈｚ）、　　４．２
５（ＬＨ，ｄ、　Ｊ＝４．５Ｈｚ）。

３．６３（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝５．５Ｈｚ）、　　０．５
７（ＩＨ，ｓ）紫外吸収スペクトル（ｐＨ４６，４りん
酸緩衝液）λｍａｘ　２５８ｍ７１（Ｅ＝２７１　）実
施例１１ ２−メチル−７−（Ｎ〜第第３ブブトキシ力ルポ：　／
ｌ／−２−チェニルグリシル）アミノ−３−セフェム−
４−カルボン酸の２．２．２−トリクロロエチルエステ
ル１．５２ｙを無水ジメチルホルムアミド１０ｍ１’に
溶解し、水冷撹拌下この溶液に酢酸１．６ｍｅついで亜
鉛末１．２ｙを加え、同温度で１時間撹拌する。反応後
、亜鉛末を戸去し、Ｐ液を水冷しだ２〜３％塩酸および
酢酸エチルの混液に注ぎ抽出する。抽出液は水洗後、炭
酸水素ナトリウム水溶液で抽出し、不溶物を濾過したの
ち、抽出液にｐ過残渣を加え、ついで５％硫酸および酢
酸エチルを加えて酸性とし、酢酸エチルで抽出する。抽
出液は水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、乾燥後、溶
媒を減圧下に留去したのち、残渣にイソプロピルエーテ
ルを加えて粉砕し、沢取した後乾燥すると無晶形の２−
メチル−７−（Ｎ−第３級ブトキシカルボニル−２−チ
ェニルグリシル）アミノ−３−セフェム−４−カルボン
酸ｏ、７ｙを得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３３００、　１７８９．　１７２５．　１７１０．　１
６９０．　１６７８ｃｒ＋＋’実施例１２ ２−メチル−７−（２−（５−メチル−１，３，４−チ
アジアゾール−２−イルオキシ）アセトアミド）−３−
セフェム−４−カルボン酸の２．２．２−トリクロロエ
チルエステル６、６０　ｙを無水ジメチルホルムアミド
４０　ｍｅに溶解し、水冷下この溶液に酢酸８ｍｅつい
で亜鉛末６ｙを加え、１．５時間撹判する。反応後、亜
鉛末を沢取し、これをジメチルホルムアミドで洗浄した
のち、混液と洗液を合わせ、水冷した酢酸エチルと２〜
３％塩酸の混液中に注き抽出する。抽出液は炭酸水素す
ＩＩＪクム水溶液で抽出後、塩酸で酸性とし酢酸エチル
で抽出し、一方、水層は塩化ナトリウムを飽和したのち
酢酸エチル８０　ｍｅで４回抽出し、両酢酸エチル抽出
液を合わせる。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶
媒を留去し、残渣にエーテルを加えて結晶化するとｍｐ
Ｈ３〜１１６℃の２−メチル−７−（２−（５−メチル
−１，３，４−チアジアゾール−２−イルオキシ）アセ
トアミド）−３−セフェム−４−カルボン酸のジメチル
ホルムアミド付加物２．０ｙ（３６％）を得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３３００、　１７７５．　１７０５．　１６８０．　、
１６３０ｃｍ−１核磁気共鳴吸収スペクトル（ｄ６−シ
メチルスルホキサイド、τ）８．５７（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝
７．５Ｈｚ）、　　７．４３（３Ｈ，ｓ）。

７．３９〜５．９（ＩＨ，ｍ）、５．０（２Ｈ，ｓ）。

４．９３（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝５．０Ｈｚ）、　　４．２
０（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５．８Ｈｚ）。

３．４４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５．５Ｈｚ）実施例１３ ２−メチル−７−（３−（２−クロロフェニル）−５−
メチル−イソオキサゾール−４−イル）カルボキサミド
−３−セフェム−４−カルボン酸の２、２．２−トＩＪ
　クロロエチルエステル０．６ｙｔｌ水ジメチルホルム
アミド５ｍｔ’および酢酸０．８　ｍｅの混液に溶解し
、水冷撹拌下この溶液に亜鉛末０．６ｙを加え、同温度
で４０分間撹拌する。反応後、亜鉛末を沢取し、これを
ジメチルホルムアミドで洗浄したのちｐ液および洗液を
合わせ、水冷した酢酸エチルおよび２〜３チ塩酸に加え
酢酸エチルで抽出する。抽出液を炭酸水素ナトリクム水
溶液で抽出し、水層を１０％硫酸で酸性としたのち酢酸
エチルで抽出し、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥する
。乾燥後、減圧下に溶媒を留去して得られる油分にエー
テルを加えて結晶化し、Ｐ取扱、エーテルで洗浄すると
ｍｐ２０２〜２０３℃の２−メチル−７−（３−（２−
クロロフェニル）−５−メチル−イソオキサゾール−４
−イル）カルボキサミド−３−セフェム−４−カルボン
酸０．２　ｙ（４３，５％）を得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） １７９０、　１７４０．　１７０５．　１６７５鍋−１
核磁気共鳴吸収スペクトル（ｄ６−シメチルスルホキサ
イド、τ）８．５７（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　　７
゜３０（３Ｈ，ｓ）。

６．１４（ＩＨ，ｍ）、　　４．９０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
５．０Ｈｚ）。

４．０８（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．０，８．０Ｈｚ）、’
３．４２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　　２．４５（４
Ｈ，ｍ）、　　０．９２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）元素
分析：Ｃ７９Ｈ１６Ｎ３０５ＳＣＩ！計算値　Ｃ５２，
５９，Ｈ３，７２，Ｎ９．６８．　Ｓ　７．３９．　Ｃ
Ｉ！８．１７実験値　Ｃ５２，５０，Ｈ３，７２，Ｎ９
．６７、　Ｓ７．３９．　Ｃ１８，１１実施例１４ ２−メチル−７−（２−メチルチオアセトアミド）−３
−セフェム−４−カルボン酸の２．２．２−トリクロら
エチルエステル０．４８９、氷酢酸０１４８ｒｎｅおよ
び亜鉛末ｏ、４ｓｙを無水ジメチルホルムアミド５ｍｅ
に加え、水冷下１時間撹拌する。反応後、亜鉛末を洲去
し、Ｐ液は３％塩酸ｌＯｍｅおよび酢酸エチル１０ｍ１
！の混液に注ぎ、抽出したのち、水層はさらに酢酸エチ
ル１０ｍｅで３回抽出し、酢酸エチル層を合わせる。合
わせた抽出液は飽和塩化す）　ＩＪウム水溶液で洗浄後
、硫１酸マグネシクムで乾燥し、乾燥後、減圧下に〆媒
を留去する。得られた残液にエーテルを加えて結晶化し
、これを戸数し、エーテルで洗浄するとｍｐ１８１〜１
８３’Ｃ（分解）の２−メチル−７−（２−メチルチオ
アセトアミＩ”）−３−セフェム−４−カルボン酸０．
２９ｙ（８７％）を得る。

赤外ｍａ収スペクトル（ヌジョール） ３２８０、　１７７２．　１７２０．　１６５７ｃｍ−
１核磁気共鳴吸収スペクトル（ｄ６−シメチルスルホキ
サイド、τ）８．５５（３Ｈ，ｄ、、Ｊ＝７Ｈｚ）、　
　７．８９（３Ｈ，ｓ）。

６．８１（２）（、ｓ）、　　６．１５（ＩＨ，ｍ）、
　　４．９０（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）、　　４．２１（ＩＨ＋ｄｄ＋Ｊ＝５．９
Ｈｚ）。

３．４２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　　１．１５（Ｌ
Ｈ，ｂｒｏａｄ　　ｄ、Ｊ−９Ｈｚ）元素分析：　Ｃ１
１Ｈ１４Ｎ２０４Ｓ２計算値　Ｃ４３，７０，Ｈ４，６
７、Ｈ９，２６，Ｓ２１．２０実験値　Ｃ４３，５９，
Ｈ４，６３，Ｎ　９．２２．　Ｓ　２１．３８実施例１
５ ２−メチル−７−（２−アリル（ａｌｌｙｌ）チオアセ
トアミ）’）−３−セフェム−４−カルボン酸の２．２
．２−トＩＪクロロエチルエステル５．５５ｙヲｆｉ水
ジメチルホルムアミド５５．５　ｍｅに溶解し、この溶
液に亜鉛末５．５５　ｙを加え、ついで水冷撹拌下、酢
酸５．５　ｍｅを滴下し、１時間撹拌する。反応後、亜
鉛末を戸数し、亜鉛末を酢酸エチルで洗浄後、洗液とＦ
液を合わせ、この溶液を５係塩酸２５０ｍｅおよび酢酸
エチル１００　ｍｅの混液に注ぎ、抽出する。水層はさ
らに酢酸エチルで２回抽出し、酢酸エチル層を合わせ酢
酸エチル層を飽和塩化ナトリクム水溶液で洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥する。乾燥後、減圧下に溶媒を留去
し、残留する酢酸エチルの隼か４０　ｍｅぐらいの時点
で結晶を炉腹し、イソプロピルエーテルで洗浄した後乾
燥するとｍｐ１２１〜１２５°Ｃの２−メヂルー７−（
２−アリル（ａｌｌｙｌ）チオアセトアミド）−３−セ
フェム−４−カルボン酸の無色結晶３．６９　／ｉｌを
得る。さらにＰ液を濃縮し、得られた結晶をイソプロピ
ルエーテルで洗浄した後乾燥すると、２−メチル−７−
（２−アリル（ａｌｌｙｌ）チオアセトアミド）−３−
セフェム−４−カルボン酸０．７５　ｙを得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３３００、　１７？０．　１７１０．　１６５０．　１
６２０．　１５２５ｃｍ”核磁気共ｑｌ吸収スペクトル
（ＣＤＣ１３，τ）８．４８（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ
）、　　６．７８（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ）。

６．７４（２Ｈ，ｓ）、　　６．５７〜６．１５（ＩＨ
，ｍ）。

４．９９（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、４．７３（２Ｈ，
ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）。

４．５〜３．９（２Ｈ，ｍ）、３．３３（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝６Ｈｚ）。

２．４０（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝９Ｈｚ）、　　−１，２，
７（ＩＨ，ｓ）実施例１６ ２−メチル−７−（２−ホルミルオキシ−２−７エニル
アセトアミ）’　）−３−セフェム−４−カルボン酸の
２．２．２−　トリクロロエチルエステル１．５８ｙ、
亜鉛末１．５ｙおよび氷酢酸１．５ｍ１１！を無水ジメ
チルホルムアミド１５　ｍｅに加え、水冷下１時間撹拌
する。、反応後、亜鉛末をＦ去し、涙液を５％塩酸３０
ｍｅおよび酢酸エチル３０ｍｅの混液中に注ぎ、抽出す
る。水層はさらに酢酸エチル３０ｍｅで２回抽出後、酢
酸エチル層を合わせ、５％塩酸、水で洗浄後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。

乾燥後、溶媒を減圧下に留去し、残渣にイソプロピルエ
ーテルを加えて粉砕し、瀘取した後乾燥すると、無晶形
の２−メチル−７−（２−ホルミルオキシ−２−フェニ
ルアセトアミド）−３−セフェム−４−カルボン酸１．
０ｙ（７２％）をｍる。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３２８０、　１７８７．　１’；’２０．　１６７８ｃ
＋＋＋−１核磁気共鳴吸収スペクトル（ｄ６−シメチル
スルホキサイド、τ）８．６８（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ
）、６．９〜５．９　（ＩＨ，ｍ）。

５．０４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　４．４０〜４
．１０（１Ｂ、ｍ）。

３．８８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１１（ｚ）、　　３．４８（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）。

２．８〜２．３（５Ｈ，ｍ）、　　１．６７（ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝ＩＨｚ）。

０．６３（ＩＨ，ｂｒｏａｄ　ｄ、　　Ｊ＝９Ｈｚ）実
施例１７ ２−メチル−７−（１−シクロプロピルエトキシ）カル
ボキサミド−３−セフェム−４−カルポン酸の２．２．
２−トリクロロエチルエステル０．９２２を水冷下にジ
メチルホルムアミド５ｍｅおよび酢酸１．５ｍｌ！の混
液に溶解しだ液に亜鉛末１２ｙを加え、同温度で１．５
時間撹拌する。反応後、亜鉛末を戸去し、亜鉛末をジメ
チルホルムアミド２ｍｅで洗浄する。ジメチルホルムア
ミド層ヲ酢酸エチル３０ｍｅ、水３０　ｍｅおよび１０
％塩酸２ｍｅの混液に注ぎ抽出する。ジメチルホルムア
ミド層はさらに酢酸エチル１０　ｍｅで抽出する。酢酸
エチル抽出液を合し、水、飽和塩化ナトリクム水溶液の
順で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留去
する。残留物を少量のエーテルを用いて粉末化すると、
ｒｒｐｌ　５８．５〜１６００Ｃ（分解）の２−メチル
−７−（１−シクロプロピルエトキシ）カルボキサミド
−３−セフェム−４−カルボン酸０．４５ｙを得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３２５０、　１７９０．　１７２０．　１６７０ｃｍ−
１核磁気共鳴吸収スペクトル（ｄ６−ア中トン、τ）９
．９４〜９．００（５Ｈ，ｍ）、　　８．７４（３Ｈ，
ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）。

８．４９（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、６．２０（ＩＨ，
ｍ）。

５゜７７（ＩＨ，ｍ）、　　４．８９（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝
５Ｈｚ）。

４．２４（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、９Ｈｚ）。

３．３４（ＩＨ，ｄ、Ｊ−６Ｈｚ）、　　２．９９（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）実施例１８ ２−メチル−７−アミノ−３−セフェム−４−カルボン
酸の２＋２．２−トリクロロエチルエステルの塩酸塩１
．５３　ｙをジメチルホルムアミド１０　ｍｅに溶かし
た溶液に、酢酸１　ｍｅおよび亜鉛末２．０ｙを水冷下
に加えて、−５〜０°Ｃで１時間撹拌した後反応液を許
過する。沢去された亜鉛末をジメチルホルムアミドで洗
浄し、洗液およびＰ液を合し、これに数ｍｅの水を加え
る。析出する結晶を戸数し、これを少量の炭酸水素ナト
リクム水溶液に溶解した後不溶物を沢去する。Ｐ液を１
０％塩酸でｐＨ４とし、析出する結晶を戸数し、水洗し
、ついでアセトンで洗浄した後乾燥するとｍｐ２２２°
Ｃ（分解）の２−メチル−７−アミノ−３−セフェム−
４−カルボン酸０．３８　ｆ；’を得る。

赤外線吸収スペクトル ＝　４３− ３１８０、　１８００．　１６１５．　１５３０ｃｍ−
１核磁気共鳴吸収スペクトル（Ｄ、、０−ＤＣ／、τ）
６．９５（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝５．５Ｈｚ）、　　５．３
２（２Ｈ，ｓ）。

４．０５（ＩＨ，ｍ）、　　１．５５（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝
７．０Ｈｚ）実施例１９ ２−メチル−７−（２−フェニルアセトアミド）−３−
セフェム−４−カルボン酸の２．２．２−　）リクロロ
エチルエステル１．８５ｙをジメチルホルムアミド１０
　ｍｅおよび酢酸３ｍｅに溶かした溶液に、亜鉛末２．
４ｙを水冷下に加え２時間撹拌した後反応液を沢過する
。Ｐ液を酢酸エチル５０ｍｅ、水水５０Ｗｄ！および１
０％塩酸２ｒｎｅの混液に注ぎ酢酸エチル層を分取する
。水層は更に酢酸エチル１０　ｍｅで抽出する。酢酸エ
チル層を合し、水、塩化ナトリクム飽和水溶液で順次洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留去する。

残留物に少量のアセトニトリルを加えて結晶化させ析出
する結晶を戸数した後乾燥するとｍｐ１０９℃（分解）
、無色結晶の２−メチル−７−（２−７エニルアセトア
ミド）−３−セフェム−４−カルボン酸１．２４４− ｙを得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３２５０、　１７７５．　１７２０．　１６５０ｃｒｎ
−１核磁気共鳴吸収スペクトル（ＣＤ３０Ｄ、τ）８．
５２（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７．５Ｈｚ）、　　６．４０（
２Ｈ，ｓ）。

６．２０（ＩＨ，ｍ）、　　５．００（ＩＨ，ｄ、　Ｊ
＝４．５Ｈｚ）。

４、１８（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝４．５Ｈｚ）、　　３．３
４（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ）。

２、７２（５Ｈ，ｓ　） 元素分析：　Ｃ１６Ｈ１６０４Ｎ２　Ｓ計算値　Ｃ５７
，８２，Ｈ４，８５，Ｎｓ、４３実験値　Ｃ５７，６４
，Ｈ４，７７、Ｈ８，３１実施例２０ ｍｐ１２０〜１３０℃の２−メチル−７−（２−７エニ
ルアセトアミ）’　）−３−セフェム−４＝カルボン酸
の２．２．２−　）リクロロエチルエステル０、６９　
ｙをジメチルホルムアミド５ｍｅおよび酢酸１ｍｅに溶
かした溶液に、亜鉛末０．９ｙを水冷下に加え１．５時
間撹拌した後反応液を沢過し、瀘去された亜鉛は少量の
ジメチルホルムアミドで洗浄する。ｐ液と、洗液とを合
し、これを、酢酸エチル３０ｍｅ、水３０　ｍｅおよび
１０％塩酸２ｍｅの混液に注ぎ、酢酸エチル層を分取す
る。水層けさらに酢酸エチル１．０ｍｅで抽出する。酢
酸エチル層を合し、水、飽和塩化ナトリウム水溶液で順
次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留去す
る。残留物に少量のアセトニトリルを加えて結晶化させ
、析出する結晶を戸数した後乾燥すると実施例１９にお
いて得られるｍｐ１０９°Ｃ（分解）の２−メチル−７
−（２−フェニルアセトアミド）−３−セフェム−４−
カルボン酸の２位における異性体であるｍｐ１２１°Ｃ
の２−メチル−７−（２−フェニルジアセドア三ド）−
３−セフェム−４−カルボン酸０．３４　ｙを得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３２５０、　１７９０．　１７２０．　１６６０部−１
核磁気共鳴吸収スペクトル（（ＣＤ３）２　Ｓｏ、τ）
８．５９（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝７．５Ｈｚ）、　　６．４
５（２Ｈ，ｓ）。

６．０９（ＩＨ，ｍ）、　　４．７９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
５Ｈｚ）。

４．２７（ＩＨ，ｄ／ｄ、　Ｊ＝５）Ｔｚ）、　　３．
７０（ＬＨ，ｄ、　Ｊ＝２Ｈｚ）。

２．７０（５Ｈ，ｓ） 実施例２１ ２−メチル−７−（２−フェニルアセトアミド）−２−
セフェム−４−カルボン酸の２．２．２−）リクロロエ
チルエステル１．０　ｐをジメチルホルムアミド７、５
　ｍｅおよび酢酸２．５　ｍｅに溶かした溶液に、亜鉛
末１．８２を水冷下に加え１．５時間撹拌した後反応液
を濾過し、枦去された亜鉛はジメチルホルムアミド２ｍ
ｅで洗浄する。ｐ液と洗液とを合し、これを酢酸エチル
３０　ｍｅ、氷水３０　ｍｅおよび１０％塩酸２ｍｅの
混液に注き、酢酸エチル層を分取する。水層はさらに酢
酸エチルｌｏｍｅで抽出する。

酢酸エヂル層を合し、水、飽和塩化すｌ−ＩＪウム水溶
液で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を
留去する。残留物に少隼のエチルエーテルを加えて結晶
化させ、析出する結晶を炉腹した後乾営するとｍｐ２０
４°Ｃ１無色結晶の２−メチル−７−（２−フェニルア
セトアミ）’）−２−セフェム−４−カルボン酸０．４
５ｙを得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３２５０、　１７６０．　１７４０．　１６５５（２）
−１核磁気共鳴吸収スペクトル（（ＣＤ３）２　Ｓｏ、
τ）８．０５（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝ＩＨｚ）、　　６．４
４（２Ｈ，ｓ）。

５．０５（ＩＨ，ｍ）、　　４．８９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
４Ｈｚ）。

４．５０（ＩＨ，ｄ／ｄ、　Ｊ−＝４Ｉ−１ｚ、　４Ｈ
ｚ）。

４．２２（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝４Ｈｚ）、　　２．６９（
５Ｈ，ｓ）同様にして次の化合物を得る。

１）　２−メチル−７−（フェニルグリシル）アミノ−
３−セフェム−４−カルボン酸（ｍｐ１６８．５〜１７
１℃） ２）２−メチル−７−（３−アミノ−３−（２−チェニ
ル）プロピオンアミド）−３−セフェム−４−カルボン
酸（ｍ９２１８〜２２１°Ｃ（分解）） ３）２−メチル−７−（（２−チェニル）グリシル）ア
ミノ−３−セフェム−４−カルボン酸（ｍｐ１４５〜１
４９℃（分解）） ４）２−メチル−７−（２−ヒドロキシ−２−フェニル
アセトアミ）’）−３−セフェム−４−カルボン酸（ｍ
９１７２〜１７３°Ｃ） 出願人　藤沢薬品工業株式会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 （式中Ｒ１はアミノ基またはアシルアミノ基、Ｒ２は八 または３−セフ、ｚムをそれぞれ意味する）で示される
   ２−アルキル−７−置換−２（または３）−セフェム−
   ４−カルボン酸類のカルボキシ基におけるエステルを脱
   離反応に付して、一般式（式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘおよび点
   線は前と同じ意味）で示される２−アルキル−７−置換
   −２（または３）−セフェム−４−カルボン酸類を’４
   るこトラ特徴とする２−アルキル−７−置換−２（まだ
   は３）−セフェム−４−カルボン酸類の製法。