JPS59186990A - ２−アルキル−７−置換−２（または３）−セフエム−４−カルボン酸類の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は２−アルキル−７−置換−２（まだは３）−
セフェム−４−カルボン酔−１−オキサイド類もしくは
そのカルボキシ基におけるエステルまたは塩類（Ｉｔを
還元して、２−アルキル−７−ｉｔ換−２（ｔたは３）
−セフェム−４−カルボン酸類もしくはそのカルボキシ
基におけるエステルまたは塩類ｆｆｌ＋を得ることから
なる２−アルキル−７−置換−２（または３）−セフェ
ム−４−カルボン酸類の製造方法に関するものである。

この発明の反応を一般式で示せば次の通りである。

凸 もしくはそのカルボキシ基に おけるエステルまたは塩類 ［Ｉｌ もしくはそのカルボキシ基に おけるエステルまたは塩類 （Ｉｌｌ （式中、Ｒ１はアミノ基捷たはアシルアミノ基、Ｒ２は
アルキル基、点線は２または３−セフェムを意味する） この発明の原料物質（Ｉ）は新規物質であり、例えば次
の方法で製造することができる。

もしくはそのカルボキシ基に おけるエステルまたは塩類 （２） もしくはそのカルボキシ基に おけるエステルまたは塩類 ３− （式中、Ｒ１、Ｒ２および点線は前と同じ意味）さらに
、原料物質（Ｉｌの製造に使用される物質ｆｆ１ｌｌも
新規物質であり、例えば対応する２−アルキル−２−ハ
ロメチル−６−＠換ペナムー３−カルボン酸の１−オキ
サイドまたはそれらのカルボキシ基におけるエステルま
たは塩類に塩基を作用させることにより製造することが
できる。

Ｒ１のアシルアミノ基におけるアシル基としては、脂肪
族アシル、芳香環を含むアシルまたは複素環を含むアシ
ルのすべてを意味する。

ここにおいて脂肪族アシルとしては飽和もしくは不飽和
アルカノイルであって側鎖を有しあるいは環状になって
もよく、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、バレリル、インバレリル、ピパ
ロイル、アクリロイル、クロトノイル、２−メチルアク
リロイル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシル
カルボニル、シクロヘプチルカルボニル、サクシニル、
シクロペンチルアセチル、シクロヘキシルアセチル、シ
クロへブチルアセチル、シクロヘキシルブー５−　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　＋ｇ＾＾４
− ロピオニル、シクロヘプチルプロピオニル、ジヒドロベ
ンゾイル、２，４．６−シクロヘブタトリエニルアセチ
ル、ジヒドロフェニルアセチル等が挙ケられ、またこれ
らの飽和もしくは不飽和アルカノイルは酸素原子または
硫黄原子で中断されていてもよく、この様な基としては
、例えばメトキシアセチル、メチルチオアセチル、２−
プロペニルチオアセチル、シクロヘキシルチオアセチル
、シクロヘキシルオキシアセチル、ジヒドロフェノキシ
アセチル、ジヒドロフェニルチオアセチル、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル
、ブトキシカルボニル、第３級ブトキシカルボニル、シ
クロペンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシ
カルボニル、ジヒドロフェノキシカルボニル、シクロヘ
プチルオキシカルボニル等が挙げられる。また芳香環を
含むアシルトシてはベンゾイル、トルオイル、ナフトイ
ル、α−メチルナフトイル、フタロイル、テトラヒドロ
ナフトイル等のアリロイル、ベンゼンスルホニル、トシ
ル等のアリールスルホニルおよびフエ二６− ルアセチル、フェニルプロピオニル、フェニルブチリル
、トリルアセチル、キシリルアセチノペナフチルアセチ
ル、テトラヒドロナフチルアセチル等のアラルカッイル
の両者を含み、まだこのアラルカッイルのアルキル部分
の広素原子は酸素原子まだは硫黄原子で置き換えられて
いてもよく、この様な基としては例えばフェノキシアセ
チル、フェニルチオアセチル、ベンジルオキシカルボニ
ル、キシリルオキシカルボニル、ナフトキシカルボニル
、フェノキシカルボニル、２−フェノキシプロピオニル
、２−フェノキシブチリル等が挙げられる。さらに複素
環を含むアシルとしては、酸素原子、硫黄原子、窒素原
子その他のへテロ原子を少なくとも１個もしくはそれ以
上含む飽和もしくは不飽和複素単環もしくは杓素多環残
基、例えばチェニル、ベンゾチェニル、フリル、ピラニ
ル、５．６−シヒドロー２Ｈ−ピラニル、インベンゾフ
ラニル、クロメニル、キサンテニノペ　２Ｈ−ピロリル
、３Ｈ−ピロリル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリ
ル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニ
ル、イソインドリル、インドリル、イミダゾリル、キノ
リル、イソキノリル、イソキサゾリノペイソチアゾリル
、オキサジアゾリル、ピロリジニル、ピロリニル、イミ
ダゾリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ジアゾリ
ル、トリアゾリル、オキサシリル、チアゾリル、チアジ
アゾリル、テトラゾリル、ベンズオキサシリル、ベンズ
オキサジアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジア
ゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンズイミダゾリル、ン
ドノニル等の複素環を含む複素環カルボニルおよび前記
複素環もしくは複素環置換オキシもしくは複素環置換チ
オもしくは複素環置換アミンもしくはＮ−アルキル被素
環置換アミン等の基を置換分として有するアセチル、プ
ロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イン
バレリル、ピバロイル、アクリロイル、クロトノイル、
２−メチルアクリロイル等のアルカノイル、例えばＩＨ
（もしくは２Ｈ）−テトラゾリルアセチル、チェニルア
セチル、チェニルプロピオニル、フリルアセチル、ピペ
ラジニルアセチル、ピロリジニルアセチル、ピロリジニ
ルプロピオニル、チアジアゾリルアセチル、オキサジア
ゾリルアセチル、ベンゾチアゾリルアセチル、オキサシ
リルアセチル、ベンズオキサシリルアセチル等が挙げら
れ、またこの複素環を置換分として有するアルカノイル
のアルキル部分の炭素原子は酸素原子または硫黄原子で
置きかえられていてもよく、この様な基としては、例え
ばピリジルメトキシカルボニル、２−フリルオキシカル
ボニル、８−キノリルオキシカルボニル等が挙けられる
。さらにこれらの脂肪族アシル、芳香環を含むアシルま
たは複素環を含むアシルはその任意の位置に適当な置換
分を１個もしくはそれ以上有していてもよく、この様な
置換分としてはメチノペエチル、プロピル、イソプロピ
ル、１−プロペニル、２−７”ロペニル、シクロプロピ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル
等のアルキノペフェニル、キシリル、トリル等のアリー
ル、ベンジル、フェネチル等のアラルキル、アミン、メ
ルカプト、ニトロ、アジド、クロル、フルオル、ブロム
等のハロゲン、カルボキシ、スルホ、ヒドロキシ、ヒド
ロキシアミノ、モノ（もしくはジ）メチルアミン、モノ
（もしくはジ）エチルアミノ、モノ（もシくハシ）プロ
ピルアミン、モノ（もしくはジ）イソプロピルアミン等
のモノ（もしくはジ）アルキルアミノ基、モノ（もしく
はジ）フェニルアミノ、モノ（もしくはジ）トリルアミ
ノ等のモノ（もしくはジ）アリールアミン、モノ（もし
くはジ）ベンジルアミノ、モノ（もしくはジ）フェネチ
ルアミノ等のモノ（もしくはジ）アラルキルアミノ、メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブト
キシ等のアルコキシ基、メチルチオ、エチルチオ、プロ
ピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ等のアルキル
チオ基等が挙げられ、さらにこの様な置換分を有する脂
肪族アシル、芳香族を含むアシルまたは複素環を含むア
シルとしては、例えばトリクロロエトキシカルボニル、
ト１゛ υ文ロモエトキシカルポニル、１−シクロプロピルエト
キシカルボニル、クロロアセチル、２−クロロプロピオ
ニル、トリフルオロアセチル、ａ−アミノフェニルアセ
チル、カルバモイル、フェニルカルバモイル、α−ヒド
ロキシフェニルアセチノペ　ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル、〇−プロモベシリルオキシカルボニノペ０
−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｐ−メトキシベン
ジルオキシカルボ二ル、３．４−ジメトキシベンジルオ
キシカルボニル、ｐ−ヒドロキシフェニルアセチル、２
−アミノ−２−（５，６−シヒドロー２Ｈ−ピラン−３
−イル）アセチル、２−アミノ−２−（ｐ−ヒドロキシ
フェニル）アセチル、２．６−シメトキシベンゾイル、
ｐ−アセトアミドベンゼンスルホニル、３−フェニル−
５−メチル−４−オキサシリルカルボニル、３−（２−
クロロフェニル）−５−メチル−４−オキサシリルカル
ボニル、３−（２，６−ジクロロフェニル）−５−メチ
ル−４−オキサシリルカルボニル、３−（２−クロロ−
６−フルオロフェニル）−５−メチル−４−オキサシリ
ルカルボニル等が挙げられる。

またこの様なアシル基中に遊離のアミン基、ヒドロキシ
基、メルカプト基、カルボキシ基、スルホ基等がある場
合には、この様なアミン基、ヒドロキシ基、メルカプト
基、カルボキシ基、スルホ基等が保護基で保護された場
合も本発明の範囲に含まれるものである。

ここにおいてアミン基の保護基としては通常アミノ（Ａ
’ＷＪ、基として使用しうるすべての）２：を含み、例
えばトリクロロエトキシカルボニル、トリブロモエトキ
シカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−）ルエ
ンスルホニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、
Ｏ−ブロモベンジルオキシカルボニル、０−ニトロフェ
ニルスルフェニル、クロロアセチル、トリフルオロアセ
チル、ホルミル、α−ヒコリニル、ビニルオキシカルボ
ニル、第３級ブトキシカルボニル、ｐ−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキ
シカルボニル、４−（フェニルアゾ）ベンジルオキシカ
ルボニル、４−（４−メ）キシフェニルアゾ）ベンジル
オキシカルボニル、ピリジン−１−オキサイド−２−メ
トキシカルボニル、２−ピリジルメトキシカルボニル、
２−フリルオキシカルボニル、ジフェニルメトキシカル
ボニル、１．１−ジメチルプロポキシカルボニル、イソ
プロポキシカルボニル、ｌ−シクロプロピルエトキシカ
ルボニル、２−シアノ−１，１−ジメチルエトキシカル
ボニル、フタロイル、サクシニル、１−アダマンチルオ
キシカルボニル、８−キノリルオキシカルボニル、イン
ボルニルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシ
カルボニル等の脱離シゃすいアシル基が挙げられ、さら
に、例えば、トリチル、２−ニトロフェニルチオ、２，
４−ジニトロフェニルチオ、ベンジリデン、４−ニトロ
ベンジリデン、２−ヒドロキシベンジリデン、２−ヒド
ロキシ−５−クロロベンジリデン、２−ヒドロキシ−１
−ナフチルメチレン、３−ヒドロキシ−４−ピリジルメ
チレン、１−メトキシカルボニル−２−プロピリデン、
１−王トキシカルボニルー２−１０ビリデン、３−エト
キシカルボニル−２−ブチリデン、１−アセチル−２−
プロピリデン、１−ベンゾイル−２−プロピリデン、１
−（Ｎ−（２−メトキシフェニル）カルバモイル）−２
−プロピリデン、１−（Ｎ−（４−メトキシフェニル）
カルバモイル）−２−プロピリデン、２−エトキシカル
ボニルシクロへキシリデン、２−エトキシ力ルポニルシ
クロベンチリデン、２−アセチルシクロへキシリデン、
３，３−ジメチル−５−オキソシクロへキシリデン等の
脱離しやすい基（こレラのうち例えば１−メトキシカル
ボニル−２−プロピリデンは１−メトキシカルボニル−
１−プロペン−２−イルと表わされることがあり、また
例えば２−エトキシカルボニルシクロへキシリチンは２
−エトキシカルボニル−１−シクロヘキセニルと表わさ
れることもある）、まだジもしくはトリアルキルシリル
等のアシル基以外のアミン基の保護基が挙げられ、また
ヒドロキシ基およびメルカプト基の保護基としては通常
ヒドロキシ基およびメルカプト基の保護基として使用し
得るすべての基を含み、例えばホルミル、アセチル、ベ
ンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル、４−ブロモベンジルオキシカルボニル、４′
″メトキシベンジルオキシカルポニル、３．４−ジメト
キシベンジルオキシカルボニノペ　４−（フェニルアゾ
）ベンジルオキシカルボニル、４−（４−メトキシフェ
ニルアゾ）ベンジルオキシカルボニル、第３級ブトキシ
カルボニル、１，１−ジメチルプロポキシカルボニル、
イソプロポキシカルボニル、ジフェニルメトキシカルボ
ニル、２−ピリジルメトキシカルボニル、２，２．２−
）リクロロエトキ７カルポニル、２，２．２−トリブロ
モエトキシカルボニル、３−ヨードプロポキシカルボニ
ル、２−フルフリルオキシカルボニル、１−アダマンチ
ルオキシカルボニル、ｌ−シクロ７”。

ピルエトキシカルボニル、３−キノリルオキシカルボニ
ル、トリフルオロアセチル等の脱１１１Ｌやすいアシル
基のほか、ベンジル、トリチル、メトキシメチル、２−
ニトロフェニルチオ、２，４−ジニトロフェニルチオ等
の基が挙げられ、さらにカルボキシ基の保護基としては
、通常のカルボキシ基の保護基として使用し得るすべて
の基を含み、例えばそのエステル部分がメチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、第３級ブチル、ブチル、ベ
ンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、ｐ−
ニトロベンジルペ　Ｉ）−７’トキシベ／ジル、ベンゾ
イルメチル、アセチルメチル、ｐ−ニトロベンゾイルメ
チル、ｐ−ブロモベンゾイルメチル、ｐ−メタンスルホ
ニルベンゾイルメチル、フタルイミドメチル、トリクロ
ロエチル、トリブロモエチル、１．１−ジメチル−２−
プロピニル、アセトキシメチル、プロピオニルオキシメ
チル、ピパロイルオキシメチル、■、１−ジメチルプロ
ピル、ｘ４−ジ）、−１−ルー２−プロペニル、３−メ
ーＦ−ルー３−ブテニル、サクシンイミドメチル、１−
シクロプロピルエチル、３．５−ジ第３級ブチルー４−
ヒドロキシベンジル、メチルスルフェニルメチル、フェ
ニルスルフェニルメチル、メチルチオメチル、フェニル
チオメチルへジメチルアミノメチル、ピリジン−１−オ
キサイド−２−メチル、キノリル−１−オキサイド−２
−メチル、メチルスルフィニルメチル、ジ（ｐ−メトキ
シフェニル）メチル、２−シアノ−１，１−ジメチルエ
チル等であるエステル、さらに特開昭４６−７０７３号
公報およびオランダ国公開公報第７１０５２５９号に記
載されている例えばジメチルジクロロシランの如きシリ
ル化合物またはドイツ国公開公報第２０６２９２５号に
記載されている例えば、４壇化チタンの如き非金属化合
物でカルボキシ基が保護されている場合等が例示される
。

またＲ２におけるアルキル基としては、例えばメチル、
エチル、プロピル、ブチル等が挙げられる。

カルボキシ基におけるエステルとしては活性エステル及
び非活性エステルのすべてを含み、例えば、エステル部
分が、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、第３級ブチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、
ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１．１−ジ
メチル−２−プロペニル、３−ブテニル、１．１−ジメ
チル−２−プロピニル等の飽和もしくは不飽和アルキル
、フェニル、キシリル、トリル、ナフチル等のアリール
、ベンジル、フェネチル等のアラルキル、また前記飽和
もしくは不飽和アルキルおよびアラルキルのアルキル部
分の炭素原子が硫黄原子、窒素原子、酸素原子またはカ
ルボニル等でおきかえられた、メトキシメチル、エトキ
シメチル、メチルチオエチル、メチルチオメチル、ジメ
チルアミノエチノペジエチルアミンエチル、フェノキシ
メチル、フェニルチオメチル、メチルスルフェニルメチ
ル、フェニルスルフェニルメチル、ベンゾイルメチル、
トルオイルメチル等、さらにこれら上記の基が適当な置
換分、例えばシアン、ニトロ、フルオル、クロル、ブロ
ム等のハロゲン、メトキシ、エトキシ、プロポキシ等の
アルコキシ、アルカンスルホニル、フェニルアゾ等を１
個もしくはそれ以上有するクロロメチル、ブロモメチル
、トリクロロエチル、シアンメチル、２−シアノ−１，
１−ジメチルエチル、ｐ−ニトロフェニル、２，４．５
−　）　’）クロロフェニル、ペンタクロロフェニル、
ｐ−メタンスルホニルフェニル、４−（フェニルアゾ）
フェニル、２．４−ジニトロフェニル、ｐｌ’ロロベン
ジル、０−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ｐ
−ニトロベンジル、３．４．５−トリメトキジベンジル
、ビス（ｐ−メトキシフェニル）メチル、ペンタクロロ
ベンジル、トリクロロベンジノペ３．５−ジ第３級ブチ
ルー４−ヒドロキシベンジル、ｐ−ニトロフェニルチオ
メチル、ｐ−クロロフェニルチオメチル、ｐ−ニトロベ
ンゾイルメチル、ｐ−クロロベンゾイルメチル等、その
他置換もしくは非置換チオアルコール、Ｎ−ヒドロキシ
こはく酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、テトラ
ヒドロビラノール、１−シクロプロピルエタノール、１
−フェニル−３−、、’ｆシル−−ピラゾロン、３−ヒ
ドロキシピリジン、２−ヒドロキシメチルピリジン−１
−オキサイド、１−ヒドロキシピペリジン、１−ヒドロ
キシ−２（ＩＨ）−ピリドン、ジメチルヒドロキシルア
ミン、ジエチルヒドロキシルアミン、グリコールアミド
、８−ヒドロキシキノリン、オキシム、−２−ヒドロキ
シメチルキノリン−１−オキサイド、メトキシアセチレ
ン、エトキシアセチレン、第３級ブチルエチニルジメチ
ルアミン、第３級ブチルエチニルジエチルアミン、エチ
ルエチニルジエチルアミン、２−エチル−５−（３−ス
ルホフェニル）インキサゾリウムヒドロキサイド分子内
塩、１，５，９，９．１０−ペンタクロル−９，１０−
ジヒドロアントラセン、９゜９．１０−）ジクロル−９
，１０−ジヒドロアントラセン、１，８，９，１０．１
０−ペンタクロル−９，１０−ジヒドロアントラセン等
の９．１０．１０−）リノ＼ロゲノー９．１０−ジヒド
ロアントラセン誘導体等とのエステルが挙げられる。

原料化合物（Ｉ）を還元して目的化合物（Ｉｌｌに導く
反下で行なわれる。この還元方法としては、例えば塩化
第１すす、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カリウム等の
チオ硫酸金属またはこれらの化合物とアセチルクロライ
ドのような酸クロライドとを併用する方法、３塩化燐、
５塩化燐、３塩化けい素等を使用する方法等が挙げられ
るが、これらに限定されるものではなく、例えば特公昭
４７−２１１１１号公報記載の還元方法等のスルフィニ
ル基のチオ基化に使用しうるすべての還元方法が包含さ
れる。この反応は通常溶媒中で行なわれることが多い。

溶媒としては例えばジメチルホルムアミド、アセトニト
リル、アセト酢酸エステル、テトラヒドロフラン、クロ
ロホルム、ジクロロメタン、ジオキサン等のこの反応に
悪影響を与えないものはいずれも使用することができる
。この反応の温度は特に限定されず、化合物（Ｉ）、還
元方法等の種類に応じて適宜選択される。

この反応において、反応中もしくは反応の後処理中にカ
ルボキシ基がそのエステルまたは塩類に転じる場合、カ
ルボキシ基におけるエステルまたは塩類が遊離のカルボ
キシ基に転じる場合、アミノ基の保護基が脱離する場合
等はすべてこの範囲に包含される。

また化合物（ＩＩ）を得るこの反応において、化合物（
Ｉｌ、！：して、２−セフェム体、３−セフェム体およ
び３−セフェム体の２位における立体異性体等を単独で
、あるいは混合物の状態で使用した場合のいずれにおい
ても、それらが反応中あるいは後処理中に転位した化合
物（ロ）が得られる場合があるが、いずれの場合もこの
発明の範囲に包含される。またこれらの異性体が混在し
て生成する場合には、必要に応じて、再結晶等の常法に
より夫々を単離してもよい。

この発明の反応により生成する化合物側は新規物質であ
り、抗菌活性を有し、医薬として有用であり、また他の
抗菌性物質を製造する中間体としても有用である。

次にこの発明を実施例により説明する。

実施例１ ２−メチル−７−（２−フェニルアセトアミド）−３−
セフェム−４−カルボン酸の２，２．２−トリクロロエ
チルエステルの１−オキサイド０．７２ｇをジメチルホ
ルムアミド５ｇ／に溶かした溶液に３塩化燐０，５耐を
水冷下に滴下し、同温度で１時間攪拌する。反応後反応
液を酢酸エチル４０ｗ１および氷水４０ｍ１中に注ぎ酢
酸エチル層を分取する。

水層をさらに酢酸エチル１０耐で抽出し、酢酸エチル層
を合す。ついでこれを５％塩酸、炭酸水素ナトリウム水
溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液の順に洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥する。ついでこれを戻末処理をした後
溶媒を留去する。残留物を少量のエーテルで結晶化する
と、ｍｐ　１７５〜１７８℃の２−メチル−７−（２−
７エニルアセトアミド）−３−セフェム−４−カルボン
酸の２．２．２−）ジクロロエチルエステルｏ、４３Ｑ
を得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３２５０．１７９０，１７４０．１６６０ＣＭ核磁気共
鳴吸収スペクトル（ＣＤＣＩ！３．τ）８．５４　（３
Ｈ，ｄ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）６．４０　（２Ｈ，ｓ） ６．３８　（ＩＨ，ｍ） ５、１７　（２Ｈ，ｓ） ５．０８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ）４．０６　（
ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４．５．９Ｈｚ）３．５４　（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ３．３４　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ） ２．７０　（５Ｈ，ｓ） 同様にして次の化合物を得る。

１）２−メチル−７−（２−（ＩＨ−テトラゾール−１
−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カルボン
酸の２’、２．２−）　ＩＪジクロロチルエステル（ｍ
ｐ　１６８〜１７０℃） ２）２−メチル−７−ベンジルオキシカルボキサミド−
３−セフェム−４−カルボン酸の２．２．２−）ＩＪジ
クロロチルエステル（ｍｐ１４３〜１４４℃） ３）２−メチル−７−１１２−（３−クロロフェニル）
アセトアミド）−３−セフェム−４−カルホ７酸ノ２．
２．２−　トリクロロエチルエステル（ｍｐ１４４〜１
４５．５℃（分解））４）２−メチル−７−（２−＜２
−チェニル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カル
ボン酸の２．２．２−　）　ＩＪジクロロチルエステル
（ｍ９１６１〜１６２℃（分解）） ５）２−メチル−７−［２−（１，２，５−チアジアゾ
ール−３−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−
カルボン酸の２．２．２−　）　ＩＪジクロロチルエス
テル（ｍｐ１８０〜１８５℃（分解））６）２−メチル
−７−（２−フェノキシアセトアミド）−３−セフェム
−４−カルボン酸のメチルエステル（油状） 赤外線吸収スペクトル（クロロホルム）３４００．１７
８５，１７２６，１６８９α７）２−メチル−７−（２
−フェノキシアセトアミド）−３−セフェム−４−カル
ボン酸の２．２．２−トリクロロエチルエステル（ｍｐ
　１１８〜１２０℃） ８）２−メチル−７−（Ｎ−（１−シクロプロピルエト
キシ）カルボニルフェニルグリシル）アミノ−３−セフ
ェム−４−カルボン酸（ｍｐ１６８〜１６９℃） ９）２−メチル−７−（２−（ＩＨ−テトラゾール−１
−イル）アセトアミド）−３−セフェム−４−カルボン
酸（ｍｐ２０２〜２０３℃（分解）） １０）２−メチル−７−＋２−（２−チェニル）アセト
アミド）−３−セフェム−４−カルボン酸（ｍｐ１７５
℃（分解）） １１）２−メチル−７−ベンジルオキジカルボキサミド
−３−セフェム−４−カルボン酸（ｍｐ１６７〜１６９
℃（分解）） １２）２−メチル−７−（２−フェニルチオアセトアミ
ド）−３−セフェム−４−カルボン酸（ｍｐ１６８〜１
７１℃（分解）） １３）２−メチル−７−（２−（３−クロロフェニル）
アセトアミド）−３−セフェム−４−カルボン酸（ｍｐ
１７３〜１７４℃（分解））１４）２−メチル−７−（
３−（Ｎ−第３級ブトキシカルボニルアミノ）　−３−
（２’−チＬニル）プロピオンアミド）−３−セフェム
−４−カルボン酸（ｍｐ１６７−１７０℃（分解））１
５）２−メチル−７−（２−シアノアセトアミド）−３
−セフェム−４−カルボン酸（ｍｐ　１６２〜１６６℃
） １６）２−メチル−７−（３−フェニルウレイド）−３
−セフェム−４−カルボン酸（ｍｐ　　１４ｇ〜１５１
℃） １７）２−メチル−７−（２−（１，３，４−チアジア
ゾール−２−イルチオ）アセトアミド）−３−セフェム
−４−カルボン酸（ｍｐ１９７−１９９℃） １８）２−メチル−７−（Ｎ−第３級ブトキシカルボニ
ル−２−チェニルグリシル）アミノ−３−セフェム−４
−カルボン酸（粉末） 赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３３００．１７８９．１７２５．１’？１０，１６９０
，１６７８ＣＩＲ１９）２−メチル−７−（２−（５−
メチル−１，３゜４−チアジアゾール−２−イルオキシ
）アセトアミド）−３−セフェム−４−カルボン酸（ｍ
ｐＨ３〜１１６℃） ２０）２−メチル−７−（３−Ｃ２−クロロフェニル）
−５−メチル−インオキサゾール−４−イル）カルボキ
サミド−３−セフェム−４−カルボン酸（ｍｐ２０２〜
２０３℃） ２１）２−メチル−７−（２−メチルチオアセトアミド
）−３−セフェム−４−カルボン酸（ｍｐ１８１〜１８
３℃（分解）） ２２）２−メチル−７−（２−アリル（ａｌｌｙｌ）チ
オアセトアミド）−３−セフェム−４−カルボン酸（ｍ
ｐ１２１〜１２３℃） ２３）２−メチル−７−（２−ホルミルオキシ−２−フ
ェニルアセトアミド）−３−セフェム−４−カルボン酸
（粉末） 赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３２８０．１７８７，１７２０，１６７８α２４）２−
メチル−７−（１−シクロプロピルエトキシ）カルボキ
サミド−３−セフェム−４−力、ルポン酸（ｍ９１５８
．５〜１６０℃（分解））２５）２−メチル−７−（Ｎ
−（１−シクロプロピルエトキシ）カルボニルフェニル
グリシル）アミノ−３−セフェム−４−カルボン酸の２
．２．２−トリクロロエチルエステル（ｍｐ１６５〜１
６７．５℃） ２６）　２−　メチル−７−（２−フェニルチオアセト
アミド）−３−セフェム−４−カルボン酸の２゜２．２
−トリクロロエチルエステル（ｍｐ１４０〜１４２℃） ２７）２−メチル−７−（３，、−（Ｎ−第３級ブトキ
シカルボニルアミノ）−３−（２−チェニル）プロピオ
ンアミド）−３−セフェム−４−カルボン酸の２．２．
２−）ジクロロエチルエステル（ｍｐ　１８８−１９２
℃） ２８）２−メチル−７−（２−シアノアセトアミド）−
３−セフェム−４−カルボン酸の２．２．２．−トリク
ロロエチルエステル（ｍｐ１６０〜１６５℃（分解）） ２９）２−メチル−７−（３−フェニルウレイド）−３
−セフェム−４−カルボン酸の２．２．２−）ジクロロ
エチルエステル（ｍｐ１７２〜１７４℃） ３０）２−メチル−７−（２−（１，３，４−チアジア
ゾール−２−イルチオ）アセトアミド）−３−セフェム
−４−カルボン酸の２．２．２−　）　ＩＪジクロロチ
ルエステル（ｍｐＨ３〜１１６℃（分解）） ３１）２−メチル−７−（Ｎ−第３級ブトキシカルボニ
ル−２−チェニルグリシル）アミノ−３−セフェム−４
−カルボン酸の２．２．２−　）　ＩＪジクロロチルエ
ステル（粉末） −２９−町＾１ 赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３３２０．１７９０，１７４０，１７１０，１６９０，
１６８０゜１６３２ｉ” ３２）２−メチル−７−（２−（５−メチル−１，３゜
４−チアジアゾール−２−イルオキシ）アセトアミド）
−３−セフェム−４−カルボン酸の２．２．２−）ジク
ロロエチルエステル（無晶形）赤外線吸収スペクトル（
クロロホルム）３４２０　、１７９０　、１？４０　、
１７００　、１６３５ｍ３３）２−メチル−７−、（３
−（２−クロロフェニル）−５−メチルイソオキサゾー
ル−４−イル）カルボキサミド−３−セフェム−４−カ
ルボン酸の２．２．２−）ジクロロエチルエステル（無
晶形） 赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３３４０．１７９０，１７４０１１６７５ｉ１３４）　
２−　メチル−７−（２−メチルチオアセトアミド）−
３−セフェム−４−カルボン酸の２，２゜２−）ＩＪジ
クロロチルエステル（ｍｐ、１５１〜１５３℃） ３０− ３５）２−メチル−７−（２−アリル（ａｌｌｙｌ）チ
オアセトアミド）−３−セフェム−４−カルボン酸の２
．２．２−）ＩＪジクロロチルエステル（ｍ９９６℃） ３６）２−メチル−７−（２−ホルミルオキシ−２−フ
ェニルアセトアミド）−３−セフェム−４−カルボン酸
の２．２．２−トリクロロエチルエステル（粉末）（ｍ
ｐ１４２〜１４７℃）３７）　２−メｆｋ−７−（１−
シクロプロピルエトキシ）カルボキサミド−３−セフェ
ム−４−カルボン酸の２．２．２−’）　’Ｊジクロロ
チルエステル（ｍｐ　１８１−１８３℃） ３８）　２−７１チル−７−（フェニルグリシル）アミ
ノ−３−セフェム−４−カルボン酸（ｍｐ１６８．５〜
１７１℃） ３９）２−メチル−７−（３−アミノ−３−（２−チェ
ニル）プロピオンアミド）−３−セフェム−４−カルボ
ン酸（ｍｐ２１８〜２２１℃（分解）） ４０）２−メチル−７−（（２−チェニル）グリシ３１
− ル）アミノ−３−セフェム−４−カルボン酸［ｍｐ１４
５〜１４９℃（分解）） ４１）２−メチル−７−（２−ヒドロキシ−２−フェニ
ルアセトアミド）−３−セフェム−４−カルボン酸（ｍ
ｐ１７２〜１７３℃） ４２）２−メチル−７−アミノ−３−セフェム−４−カ
ルボン酸の２．２．２−）ジクロロエチルエステル（塩
酸塩、ｍｐ１８５〜１８７℃（分解））４３）２−メチ
ル−７−アミノ−３−セフェム−４−カルボン酸（ｍｐ
２２０℃（分解））出願人　藤沢薬品工業株式会社 ３２−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 もしくはそのカルボキシ基に おけるエステルまたは塩類 （式中、Ｒ１はアミノ基またはアシルアミノ基、Ｒ２は
   アルキル基、点線は２捷たは３−セフェムをそれぞれ意
   味する） で示される２−アルキル−７−置換−２（または３）−
   セフェム−４−カルボン酸−１−オキサイド類もしくは
   そのカルボキシ基におけるエステルまたは塩類を還元し
   て、一般式 もしくはそのカルボキシ基に おけるエステルまたは塩類 （式中、Ｒ，、Ｒ２および点線は前と同じ意味）で示さ
   れる２−アルキル−７−置換−２（または３）−セフェ
   ム−４−カルボン酸類もしくはそのカルボキシ基におけ
   るエステルまだは塩類を得ることを特徴とする２−アル
   キル−７−置換−２（または３）−セフェム−４−カル
   ボン酸類の製造方法。