JPH02176A - 酢酸誘導体およびその塩類 - Google Patents

酢酸誘導体およびその塩類

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JPH02176A
JPH02176A JP63312575A JP31257588A JPH02176A JP H02176 A JPH02176 A JP H02176A JP 63312575 A JP63312575 A JP 63312575A JP 31257588 A JP31257588 A JP 31257588A JP H02176 A JPH02176 A JP H02176A
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高谷 隆男
Hisashi Takasugi
高杉 寿
Masayoshi Murata
正好 村田
Akiteru Yoshioka
吉岡 明昭
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/02Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
    • C07D277/20Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D277/587Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with aliphatic hydrocarbon radicals substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms, said aliphatic radicals being substituted in the alpha-position to the ring by a hetero atom, e.g. with m >= 0, Z being a singly or a doubly bound hetero atom

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、一般式: [式中、R1はアミン基または保護きれたアミ7基; R2はカルボキシ(低級)アルケニル基、保護されたカ
ルボキシ(低級)アルケニル基または不飽和低級脂肪族
炭化水素基; Xはハロゲン; Yはカルボキシ基または保護されたカルボキシ基をそれ
ぞれ意味するコで示される酢酸誘導体およびその塩類。
[式中、Rはアミン基または保護されたアミン基; R2はカルボキシ(低級)アルケニル されたカルボキシ(低級)アルケニル基または不飽和低
級脂肪族炭化水素基; Xはハロゲン: Yはカルボキシ基または保護されたカルボキシ基をそれ
ぞれ意味する]で示される新規な酢酸誘導体およびその
塩類に関する。
この発明の目的化合物(I)は、例えば以下の方法によ
って製造することができる。
製造法(I) 製造法(1u) またはその塩 またはその塩 製造法(i) またはその塩 (III) またはその塩 またはその塩 [式中、R1、R2、XおよびYはそれぞれ前と同し意
味であり、 R1は低級アルカノイルアミノ基; R1はトリハロ(低級)アルカノイルアミノ基す をそれぞれ意味するコ。
この発明の目的化合物(I)、(Ia)、(Ib)、(
I c)および原料化合物(If)については、それら
の分子内の不斉炭素原子および二重結合によって光学異
性体および幾何異性体のような1種またはそれ以上の立
体異性体対が存在していてもよく、そのような異性体も
この発明の範囲に包含されるものである。
目的化合物および原料化合物の幾何異性体について説明
すると、目的化合物はシン異性体、アンチ異性体および
これらの混合物を包含し、たとえば、目的化合物(1)
について示すと、シン異性体とは式: (式中、R2は前と同じ意味)で示される部分構造を有
する幾何異性体を意味し、アンチ異性体とは式: (式中、R2は前と同じ意味)で示される部分構造を有
するもう一方の幾何異性体を意味する。先に挙げた残り
の目的化合物および原料化合物についても、シンおよび
アンチ異性体はそれぞれ目的化合物(I)について示し
た式に対応する同じ幾何異性形態のものを意味する。
目的化合物(I)の医薬として許容きれる好適な塩類は
一般に利用きれる無毒な塩であり、その例としては、ナ
トリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩およびカ
ルシウム塩、マグネシウム塩などのアルカリ土金属塩を
含む金属塩、アンモニウム塩、トリエチルアミン塩、と
リジン塩、ピコノン塩、エタノールアミン塩、トリエタ
ノールアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N、N’
ジベンジルエチレンジアミン塩等の有機アミン塩を含む
有機塩基との塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン
酸塩等の無機酸との塩、ギ酸塩、酢酸塩、三フッ化酢酸
塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベ
ンゼンスルホン酸塩、p−hルエンスルホン酸塩等の有
機酸との塩、アルギニン塩、アスパラギン酸塩、グルタ
ミン酸塩等のアミノ酸との塩、分子間または分子内第4
級塩等のような塩基との塩または酸付加塩が挙げられる
次に上記一般式における各種の定義について詳細に説明
する。
なお、この明細書では、r低級、とは、特に指定のない
限り、炭素数1〜6を意味するものとする。
1カルボキシ(低級)アルケニル基」および「保護され
たカルボキシ(低級)アルケニル基」における′低級ア
ルケニル基」の好適な例には、ビニル、1−プロペニル
、アリル、1−(もしくは2−もしくは3−)ブテニル
、1−(もしくは2−もしくは3−もしくは4−)ペン
テニル、1−(もしくは2−もしくは3−もしくは4−
もしくは5−)へキセニル、2−メチル−2−プロペニ
ル等のような直鎖または分枝鎖の低級アルケニル基が挙
げられ、(02〜C5)アルケニル基が特に好ましい。
rカルボキシ(低級)アルケニル基、の好適なイ列とし
ては、1−力ルボキシビニル、2−カルボキシビニル、
1−力ルボキシ−1−プロペニル、2−カルボキシ−1
−プロペニル、3−カルボキシ−1−プロペニル、1−
力ルポキシアリル、2−カルボキシアリル、3−カルボ
キシアリル4−カルボキシ−1−(もしくは2−もしく
は3−)ブテニル、5−カルボキシ−1−(もしくは2
−もしくは3−もしくは4−)ペンテニル、6−カルボ
キシ−1−(もしくは2−もしくは3−もしくは4−も
しくは5−)へキセニル、3−カルボキシ−2−メチル
−2−プロペニル等が挙げられ、カルボキシ(C2〜C
5)アルケニル基が特に好ましい。
「保護されたカルボキシ(低級)アルケニル基。
における「保護きれたカルボキシ基」の部分は、エステ
ル化されたカルボキシ等であってもよい。
1エステル化されたカルボキシ基」の例としては、メチ
ルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、イソ
プロピルエステル、ブチルエステル、イソブチルエステ
ル、第3級ブチルエステル、ペンチルエステル、第3級
ペンチルエステル、ヘキシルエステル等の低級アル−キ
ルエステル、ビニルエステル、アリルエステル等の低級
アルキニルエステル、エチニルエステル、プロピニルエ
ステル等の低級アルキニルエステル、メトキシメチルエ
ステル、エトキシメチルエステル、インプロポキシメチ
ルエステル、1−メトキシエチルエステル、1−エトキ
シエチルエステル等の低級アルコキシ(低級)アルキル
エステル、メチルチオメチルエステル、エチルチオメチ
ルエステル、エチルチオエチルエステル、イソプロピル
チオメチルエステル等の低級アルキルチオ(低級)アル
キルエステル、2−ヨードエチルエステル、2、2.2
−トリクロロエチルエステル等のモノ(もしくはジもし
くはトリ)ハロ(低級)アルキルエステル、アセトキシ
メチルエステル、プロとオニルオキシメチルエステル、
ブチリルオキシメチルエステル、インブチリルオキシメ
チルエステル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロ
イルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチル
エステル、2−アセトキシエチルエステル、2−プロピ
オニルオキシエチルエステル、1−アセトキシプロピル
エステル等の低級アルカノイルオキシ(低級)アルキル
エステル、メシルエテルエステル、2−メシルエテルエ
ステル等の低級フルカンスルホニル(低級)アルキルエ
ステル、ベンジルエステル、4−メトキシベンジルエス
テル、4−ニトロベンジルエステル、フェネチルエステ
ル、ヘンズヒドリルエステル、トリチルエステル、ビス
(メトキシフェニル)メチルエステル、3、4−ジメト
キシベンジルエステル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−
第3級−ブチルベンジルエステル等のような、適当な置
換基を1個以上有していてもよいモノ(もしくはジもし
くはトリ)フェニル(低級)アルキルエステルのように
、適当な置換基を1個以上有していてもよいアル(低級
)アルキルエステル、フェニルエステル、トリルエステ
ル、第3級ブチルフェニルエステル、キシリルエステル
、メシチルエステル、クメニルエステル、サリチルエス
テル等のような適当な置換基を1個以上有していてよも
いアリールエステル、フタリジルエステル等のような複
素環エステル等が挙げられる。
「不飽和低級脂肪族炭化水素基」の好適な例としては、
先に例示した低級アルケニル;シクロプロペニル、シク
ロブテニル、シクロペンテニル、シクロへキシニル、シ
クロへブテニル等のシクロ(低級)アルケニル、特に好
ましくは(05〜C6)シクロアルケニノ呟プロパルギ
ル、2−(もしくは3−)ブチニル、2−(もしくは3
−もしくは4−)ペンテニル、2−(もしくは3−もし
くは4−もしくは5−)へキシニル等、特に好ましくは
(02〜C5)アルキニル等の低級アルキニル等が挙げ
られる。
適当なr保護されたアミン基ヨはペニシリンおよびセフ
ァロスポリン化合物で使用される通常のアミノ保護基に
よって置換きれたアミン基であってもよく、たとえば、
後述のアシル基、ベンジル、ベンズヒドリル、トリチル
等のモノ(もしくはジもしくはトリ)フェニル(低級)
アルキル基のようなアル(低級)アルキル基、1−メト
キシカルボニル−1−プロペン−2−イル等の低級アル
コキシカルボニル(低級)アルキリデン基またはそのエ
ナミン型互変異性体、ジメチルアミノメチレン等のZ;
(低級)アルキルアミノメチレン基等が保護基の例とし
て挙げられる。
′アシル基」の好ましい例は、脂肪族アシル基、芳香族
アシル基、複素環式アシル基および芳香族基もしくは複
素環基で置換された脂肪族アシル基等である。
脂肪族アシル基の例としては、ホルミル、アセチル、プ
ロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イン
バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル等の低級アルカノ
イル基、メシル、エタンスルホニル、プロパンスルホニ
ル等の低級アルカンスルホニル基、メトキシカルボニル
、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキ
シカルボニル、第3級ブトキシカルボニル等の低級アル
コキシカルボニル基、アクリロイル、メタアクリロイル
、クロトノイル等の低級アルケノイル基、シクロヘキサ
ンカルボニル シクロアルカンカルボニル基、アミジノ等のような飽和
または不飽和の非環式または環式アシル基が挙げられる
芳香族アシル基の例としては、ベンゾイル、トルオイル
、キシロイル等のアロイル基、ベンゼンスルホニル、ト
シル等のアレンスルホニル基等が挙げられる。
71素環アシル基としては、フロイル、テノイル、ニコ
チノイル、イソニコチノイル、チアゾリルカルポニノし
、チアジアゾリルカルボニルラゾリルカルボニル等の複
素環カルボニル等がその例として挙げられる。
芳香族基で置換きれた脂肪族アシル基の例としては、フ
ェニルアセチル、フェニルプロピオニル、フェニルヘキ
サノイル等のフェニル(低,t&)アルカノイル基のよ
うなアル(低級)アルカノイル基、ベンジルオキシカル
ボニル、フェネチルオキシカルボニル等のフェニル(低
級)アルコキシカルボニル基のようなアル(低級)アル
コキシカルボニル基、フェノキシアセチル、フェノキシ
プロビオニル等のフェノキシ(低級)アルカノイル基等
が挙げられる。
複素環基で置換きれた脂肪族アシル基としては、チエニ
ルアセチル、イミダゾリルアセチル、フリルアセチル、
テトラゾリルアセチル、チアゾノルアセチル、チアジア
ゾリルアセチル、チエニルプロピオニル、チアジアゾリ
ルプロビオニル等がその例として挙げられる。
これらのアシル基はさらにメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等の低級ア
ルキル基、塩素、臭素、ヨー素、フッ素等のハロゲン、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブ
トキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等の低級アル
コキシ基、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イ
ソプロピルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシル
チオ等の低級アルキルチオ基、ニトロ基等のような1個
以との適当な置換基で置換されていてもよく、そのよう
な置換基を有する好ましいアシル基の1列としては、ク
ロロアセチル、ブロモアセチル、ジクロロアセチル、ト
リフルオロアセチル等のモノ(もしくはジもしくはトリ
)ハロ(低級)アルカノイル基、クロロメトキシカルボ
ニルクロロメトキシカルボニル、2.2.2−トリーク
ロロエトキシカルボニル等のモノ(もしくはジもしくは
トリ)ハロ(低級)アルコキシカルボニルx.=トロベ
ンジルオキシカルボニル、クロロペンシルオキシカルボ
ニAv,メトキシベンジルオキン力ルボニル等のニトロ
(もしくはハロもしくは低級アルコキシ)フェニル(低
級)アルコキシカルボニル基等が挙げられる。
「ハロゲン、の好適な例は塩素、ヨー素、臭素、および
フッ素である。
「低級アルカノイルアミノ基」および1トリハロ(低級
)アルカノイルアミノ基」における低級アルカノイル基
,の好適な例は先に例示したようなものであるが、特に
好ましくはホルミル基およびアセチル基である。
次にこの発明の目的化合物(I>の製造法につぃて詳細
に説明する。
製造法(1) 化合物(Ia)またはその塩類は、化合物(I[)また
はその塩をハロゲン化剤と反応させることによって製造
できる。
化合物(Ia)および(T1)の適当な塩類は、化合物
(I)について例示したものと同じ塩であってもよい。
この反応に使用されるハロゲン化剤の適当な例としては
、塩素、臭素等のハロゲン、トリクロロイン/アヌール
酸等のトリハロゲン化インシアヌール酸、N−クロロ−
4−メチルベンゼンスルホンアミドのナトリウム塩、N
−クロロアセトアミド、N−ブロモアセトアミド等のN
−ハロゲン化アミド、N−クロロスクシンイミド、N−
プロモスクンンイミド、N−クロロアセトアミド、N−
プロモノタールイミド等のN−ハロゲン化イミド、次亜
塩素M第3級ブチル等の次亜塩素酸アルキル等のような
水素をハロゲンに転化させうるハロゲン化剤が挙げられ
る。
この反応は通常、メタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチ
レン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N−ジメ
チルホルムアミド、水、ギ酸、酢酸等のような反応に悪
影響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれらの混合物中で
行なわれる。
反応温度は特に限定されないが、通常反応は冷却下ない
しは加温下に行なわれる。
製造法(i) 化合物(Ia)またはその塩類は、化合物(III)ま
たはその塩類を化合物(IV)またはその塩類と反応さ
せることによって製造できる。
化合物(IV)の適当な塩類としては、化合物(I)に
ついて例示した酸付加塩と同じ塩類が挙げられる。
この反応において化合物(IV)が塩の状態で使用され
る場合には、有機または無機塩基の存在下に行なうこと
ができ、適当な塩基の例としては、リチウム、ナトリウ
ム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム停のアルカ
リ土金属、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物
、水素化カルシウム等のアルカリ土類金属水素化物、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸
化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属
炭酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のア
ルカリ金属炭酸水素塩、ナトリウムメトキサイド、ナト
リウムエトキサイド、カリウム−第3級ブトキサイド等
のアルカリ金属アルコキサイド、酢酸ナトリウム等のア
ルカン酸アルカリ金属塩、トリエチルアミンなどのトリ
アルキルアミン、ピリジン、ルチジン、ビフリン等のピ
リジン化合物、キノリン等が挙げられる。
反応は通常、水、メタノール、エタンーノ呟プロパツー
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のような反応に
悪影響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれらの混合物中
で行なわれる。
反応温度は特に限定されないが、通常は、反応を冷却下
ないしは加温下に行なう。
製造法(i) 化合物(re)またはその塩類は、化合物(Ib)また
はその塩類をアシル交換反応に付すことにより製造でき
る。
このアシル交換反応は化合物(Ib)またはその塩類を
アシル化剤と反応させることによって行なうことができ
る。好適なアシル化剤としてはR6−0H(V)C式中
、R6はトリムCl (低級)アルカノイルを意味する
コまたはその反応性誘導体またはその塩が挙げられる。
このアシル交換反応は慣用の方法で実施できる。
この発明の目的化合物(I)は、例えば、一般式: [式中、RI、R2およびXはそれぞれ前と同じ意味で
あり: R3は水素、ハロゲン、メチル基、低級アルコキン基、
低級アルキルチオメチル基、低級アルカノイルオキシメ
チル基または適当な置換基を有していてもよい複素環チ
オメチル基: R4はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基; R5は水素または低級アルキル基をそれぞれ意味し; ただし、R3がイ氏級アルカノイルオキシメチル基を意
味する場合には、R2は不飽和低級脂肪族炭化水素基を
意味するコで示される抗菌剤として有用なセフェム化合
物および医薬として許容されるその塩類を合成するため
の原料として有用である。
このセフェム化合物(A)において、「低級アルキル基
」および、′低級アルキルチオメチル基」における「低
級アルキル基Jの部分の好適の例としてはメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペ
ンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル等のよ
うな直鎖または分枝鎖の低級アルキル基が挙げられ、特
に好ましい例は(01〜C4)アルキル基である。
「低級アルコキシ基」の好適な例にはメトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペンチル
オキシ、ヘキシルオキシ等があり、特に好ましくはメト
キシ基である。
1低級アルキルチオメチル」の好適な例はメチルチオメ
チル、メチルチオメチル、プロピルチオメチル、イソブ
チルチオメチル、ペンチルチオメチル、ヘキシルチオメ
チル等であり、特に好ましくは(C1〜C4)アルキル
チオメチルである。
1低級アルカノイルオキシメチル基、におけるr低級ア
ルカノイル基」の部分の好適な例としてはホルミル、ア
セチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレ
リル、インバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル等が挙
げられ、特に好ましくはアセチルである。
適当な置換基を有していてもよい「複素環チオメチル基
」における好適な1複素環式基」は酸素、イ才つ、窒素
の各原子などのようなペテロ原子を少なくとも1個含有
する飽和もしくは不飽和の唯環式もしくは多環式複素環
式基である。特に好ましい複素環式基としては、たとえ
ば、ピロリル、ピロリニル、イミダゾリル、ピラゾリル
、ピノジルもしくはそのN−オキサイド、ジヒドロピノ
ジル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、4H
−1,2,4−トリアゾリル、I H−1゜2.3−ト
リアゾリル、2H−1,2,3−トリアゾリル等のトリ
アゾリル、IH−テトラゾリル、2H−テトラゾリル等
のテトラゾリル等の1〜4個の窒素原子を含有する3〜
8員環(さらに好ましくは5〜6員環)の不飽和単環複
素環式基;ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジ
ノ、ピペラジニル等の1〜4個の窒素原子を含有する3
〜8員環(きらに好ましくは5〜6員環)の飽和単環複
素環式基;インドリル、イソインドリル、イントリジニ
ル、ベンズイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、イ
ミダゾリル、ペンゾトリアソリル等の1〜4個の窒素原
子を含有する不飽和縮合複素環式基;オキサシリル、イ
ンオキサシリル、オキサジアゾリル(例、1.2.4−
才キサジアゾリル、1,3.4−オキサジアゾリル、1
,2゜5−オキサジアゾリルなど)等の酸素原子1〜2
個と窒素原子1〜3個を含有する3〜8員環(さらに好
ましくは5〜6員環)の不飽和単環複素環式基;モルホ
リニノ呟シトノニル等の酸素原子1〜2個と窒素原子1
〜3個を含有する飽和3〜8員(さらに好ましくは5〜
6員)単環複素環式基、ヘンゾオキサゾリノ呟ベンゾオ
キサジアゾリル等の酸素原子1〜2個と窒素原子1〜3
個を含有する不飽和縮合複素環式基:チアゾリル、イソ
デアゾリル、チアジアゾリル(例、1.2.3−チアジ
アゾリル、1.2.4−チアジアゾリル、1゜3.4−
チアジアゾリル、1,2.5−チアジアゾノルなど)、
ジヒドロチアジニル等のイ才つ原子1〜2個と窒素原子
1〜3個を含有する3〜8員環(さらに好ましくは5〜
6員環)の不飽和単環複素環式基;チアゾリジニル等の
イ才つ原子1〜2個と窒素原子1〜3個を含有する3〜
8員環(さらに好ましくは5〜6員環)の飽和単環複素
環式基;チエニル、ジヒドロチアニル等のイ才つ原子1
〜2個を含有する3〜8員環(さらに好ましくは5〜6
員環)の不飽和単環複素環式基;ヘンジチアゾリル、ベ
ンゾチアジアゾリル等のイ才つ原子1〜2個と窒素原子
1〜3個を含有する不飽和縮合複素環式基;フリル等の
酸素原子含有不飽和3〜B員(さらに好ましくは5〜6
員)単環複素環式基;ジヒドロオキサチイニル等の酸素
原子1個とイオウ原子1〜2個を含有する3〜8員環(
きらに好ましくは5〜6員環)の不飽和単環複素環式基
;ベンゾチエニル、ペンゾジチイニル等のイ才つ原子1
〜2個を含有する不飽和縮合複素環式基;ベンゾオキサ
チイニル等の酸素原子1個とイ才つ原子1〜2個を含有
する不飽和縮合複素単環式基などが挙げられる。
上述した複素環部分は1〜3個の置換基を有してい−C
もよい。この置換基の例としては、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等
の低級アルキル基;ヒドロキ7基;オキソ基;アミノ基
;塩素、臭素等のハロゲン:メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ等の低級アルフキシ基;先に例示したカルボキシ
(低級)アルキル基等が挙げられる。
適当な置換基を有する複素環式基の部分の好ましい例と
しては、メチルチアジアゾリル、エチルチアジアゾリル
、プロピルチアジアゾリル等の低級アルキル基を有する
デアジアゾリル基;メチルテトラゾリル、エチルテトラ
ゾリル、プロピルテトラゾリル等の低級アルキル基を有
するテトラゾノル基;カルボキシメチルテトラゾリル、
(2−カルポキシエチル)テトラゾリル、(3−カルボ
キシプロピル)テトラゾリル等のカルボキシ低級アルキ
ル基を有するテトラゾリル基;5−カルボキシメチル−
4−メチルチアゾリル キシメチル−4−エチルチアゾリル キシメチル−4−プロピルチアゾリル、5−カルボキシ
エチル−4−イソプロピルチアゾリル等の5−カルボキ
シ(低級)アルキル−4−低級アルキルデアゾリル基お
よび5−メチル−4−カルボキシメチルチアゾリル、5
−エチル−4−カルボキシメチルチアゾリル、5−プロ
ピル−4−カルボキンメチルチアゾリル、5−イソプロ
ピル−4−力ルボキシエチルチアゾリル等の5−低級ア
ルキルー4−カルボキシ(低級)アルキルチアゾリル基
等のような、低級アルキルおよびカルボキシ(低級)ア
ルキルを有するチアゾリル基等が挙げられる。
このセフェム化合物(A)は、例えば、一般式[式中、
R  、R  およびR5はそれぞれ前と同し意味コで
示される化合物またはアミノ基におけるその反応性誘導
体またはその塩を、 式: [式中、R1、R2およびXはそれぞれ前と同じ意味コ
で示きれる化合物またはそのカルボキシ基における反応
性誘導体またはその塩と反応させることにより製造する
ことができる。
本発明の目的化合物(I)および医薬として許容される
その塩類から製造されたセフェム化合物(A)は高い抗
菌活性を示すとともに病原性ダラム陽性菌およびダラム
陰性菌を含む多くの微生物の成長を抑制する作用を有し
、特に下記の試験結果に示すように経口投与用抗菌剤と
して有用である。
以下目的化合物(I)の有用性を示すために、代表的に
セフェム化合物(A)数種について抗菌活性試験結果を
示す。
試駿;試験管内抗菌試験 に腋囮皇舊 (1)7−[2−(2−アミノ−5−クロロテアソール
−4−イル)−2−プロパルギルオキシイミノアセトア
ミドコー3−(1,3,4−チアジアゾール−2−イル
)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異
性体)。
(2)7−[2−(2−アミノ−5−クロロチアゾール
−4−イル)−2−アリルオキシイミノアセトアミド]
−3−(1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チオ
メチル−3−セフェム−4−力ルボン酸(シン異性体)
(3ン 7−[2−(2−アミノ−5−クロロチアゾー
ル−4−イル)−2−(2−シクロペンテン1−イル)
オキシイミノアセトアミド]−3−(1,3,4−チア
ジアゾール−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸(シン異性体)。
試験方法 試験は寒天平板希釈法(接種菌量:108個/ mQ 
)で行ない、各試験菌の増殖が起らなくなる最小発育阻
止濃度CMIC)を観察し、記録した。
以下、この発明を実施例および参考例に従って説明する
火皇■↓ 塩素(3,2g)の酢酸(44mrr )溶液を2−(
2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)−2=(プロ
パルギルオキシイミノ)酢酸(シン異性体)(Log)
のクロロホルム(250賊)1容液に0°Cで滴下し、
混合物を同じ温度で30分間攪拌した。この溶液を次酸
水素ナトリウl、飽和水溶液に力αえ、10%水酸化ナ
トリウム水溶液でpH7,5に調整した。分離した水層
を取り、濃塩酸でpH2,0に調整して酢酸エチルで抽
出した。抽出液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下に留去し
た。残渣をジイソプロピルエーテルで洗浄し、濾取して
、2−(2−ホルムアミド−5−クロロチアゾール−4
イル)−2−プロパルギルオキシイミノ酢酸(〉ン異性
体) (5,96g )を得た。融点161〜162”
C(分解)。
IR(X;i−J  :  3280. 3120. 
2120. 1730. 1690゜1650 am−
1 NMR(DMSO−ds、S ) ’ 3−53 (I
H9m)、’!、 86 (2H1dJ=2.0Hz)
、 8.58 (18,s>、 12.97 (LH。
ブロード s) 実施例2 実施例1の方法に準じて下記の化合物を得た。
(1)2−[2−(2,2,2−トリフルオロアセトア
ミド)−5−クロロチアゾール−4−イルコー2−プロ
パルギルオキシイミノ酢#(シン異性体)、融点178
〜180℃ IR(スジ3−ル)  :  3300. 2140.
 1725. 1600  cm−1(2)2−(2−
ホルムアミド−5−クロロチアゾール−4−イル)−2
−アリルオキシイミノ酢酸(シン異性体)、融点166
〜167℃。
IR(スジ:+−ル) ’  3140. 1730.
 1695. 1650  am−1(3)2−(2−
ホルムアミド−5−クロロチアゾール−4−イル)−2
−(2−シクロペンテン−1−イル)オキシイミノ酢酸
(シン異性体)、融点148〜150°C LR(スジ3−ル)  :  3150. 1725.
 1700. 1655゜1540 am’″1 (4)2−アリルオキシイミノ−2−(5−クロロ2−
トリフルオロアセトアミドチアゾール−4−イル)酢酸
(シン異性体)、融点162°C(分解)。
IR(スジコール) : 1720 cm−1(5)2
−(5−クロロ−2−ホルムアミドチアゾール−4−イ
ル)−2−(3−t−ブトキシカルボニル−2−プロペ
ニルオキシイミノ)酢酸(シン異性体)、融点139〜
142°C(分解)。
IR(スジコール)  : 3150. 1705. 
1655  am−1刀m (2−ホルムアミド−5−クロロチアゾール−4−イル
)グリオキシル酸エチル(40,0g)をIH7に酸化
カリウム水溶液(305m1l )に常温で加え、10
分間攪拌した。反応混合物を10%塩酸で水冷下にpH
2,0に調整した。この混合物のピリジン(54,1g
)中部濁液を攪拌しながら、これにアリルオキシアミン
(t4.ag)のテトラヒドロフラン(2oomQ)溶
液を常温で加え、同じ温度で4時間攪拌した。この混合
物を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液でpH7,5に調整
し、酢酸エチルで洗浄した。分離した水層を10%塩酸
でpH2,0に調整し、酢酸エチルで抽出した。抽出液
を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、溶媒を減圧下に留去した。残渣をジイ
ソプロピルエーテルで洗浄後、濾取して、2−(2−ホ
ルムアミド−5−クロロチアゾール−4−イル)−2−
アリルオキシイミノ酢酸(シン異性体) (24,74
g )を得た。融点166〜167°CゆIR(ス九−
ル)  :  3140. 1730. 1695. 
1650  cm−’NMR(DMSO−ds、8  
)  : 4.69  (2H1m)、  5.09−
5.59<2H,m)、  5.67−6.41  (
IH,m)、  8.52 (IH,s)。
12.87  (IH,ブロード S)実11M± 実施例3の方法に準して下記の化合物を製造した。
(L)2−(2−ホルムアミド−5−クロロチアソール
−4−イル)−2−(2−シクロペンテン1−イル)オ
キシイミノ酢酸(シン異性体)、融点148〜150℃
IR(スジコール)  :  3150. 1725.
 1700. 1655゜1540 cm−’ NMR(DMSO−d6.δ) ’ 1.65−2.5
 (4H,m)、 5.35(LH,m)、 5.90
 (LH,m)、 6.LO(IH,m)、 8.53
(LH,s)、 12.9 (18,5)(2)2−(
2−ホルムアミド−5−クロロチアゾール−4−イル)
−2−プロパルギルオキシイミノ酢酸(シン異性体)、
融点161〜162°C(分解)。
IR(スジ3−ル)  :  32B0. 3120.
 2120. 1730. 1690゜1650 am
−1 NMR(DMSO−ds、S ) ’ 3−53 (L
Hlm>、4.86(2)1.dJ=2.0Hz)、 
 8.58 (18,s>、  12.97 (IH。
ブロード 5) (3)2−[2−(2,2,2−トリフルオロアセトア
ミド)−5−クロロチアゾール−4−イル]−2−プロ
パルギルオキシイミノ酢酸(シン異性体)、融点178
〜180℃。
’LR(スジコール)  :  3300. 2140
. 1725. 1600  am−1(4〉2−アリ
ルオキシイミノ−2−(5−クロロ−2−トリフルオロ
アセトアミドチアゾール−4−イル)酢酸(シン異性体
)、融点162°C(分解)。
IR(スジ9−ル)  :  1720  cm−1(
5)2−(5−クロロ−2−ホルムアミドチアゾール−
4−イル)−2−(3−t−ブトキシカルボニル−2−
プロペニルオキシイミノ)酢酸(シン異性体)、融点1
39〜142°C(分解)。
IR(ヌ九−ル)  :  3150. 1705. 
1655  cm−’NMR(DMSO−da、8 )
 ’ 1.45 (9H1s)、4.90 (2H1d
、J=4.0Hz)、  5.93 (LH,d、J=
16.0Hz)、  6.88(IH,d−t、J=1
6、OHz、  4.0Hz)、  8.55 (1)
1.s)。
12.87  (IH,ブロード S)火J1乳工 無水2.2.2−トリフルオロ酢酸(12,8g)を2
−(2−ホルムアミド−5−クロロチアゾール−4−イ
ル)−2−プロパルギルオキシイミノ酢酸(シン異性体
)(8,0g)のテトラヒドロフラン(40,0mg)
中部濁液に−10〜−5℃まで攪拌下に加えた。反応混
合物にトリエチルアミン(6,2g)を−10〜−2℃
で加え、0〜5℃で2時間攪拌した。反応混合物を酢酸
エチルと水との混合物中に注ぎ、10%水酸化ナトリウ
ム水溶液でpH7,5に調整した。分離した水石を10
%塩酸でpH2,5に調整し、酢酸エチルで抽出した。
酢酸エチル層を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下に留去した
。残渣をジイソプロピルエーテルで洗浄後、濾取して、
2−[2−(2,2,2−トリフルオロアセトアミド)
−2−クロロチアゾール−4−イルツー2プロパルギル
オキシイミノ酢酸(シン異性体)(5,9g)を得た。
融点178〜180℃。
LR(スジ1−IL)  :  3300. 2140
. 1725. 1600  am−INMR(DMS
O−de、8 ) ’ 3.’53 (IH9m>、4
.88 (2H1d、J=2.0Hz)、  12.2
5  (IH,ブロード S)X皇遭1 実施例5の方法に準じて下記の化合物を製造した。
2−アリルオキシイミノ−2−(5−クロロ−2−トリ
フルオロアセトアミドチアゾール−4−イル)酢酸(シ
ン異性体)、融点162℃(分解)。
IR(スジ1−ル)  :  1720  cm−’N
MR(DMSO−de、δ) : 4.72 (2H,
d、J=6.0Hz)。
5.11−5.61 (2H,m>、 5.73−6.
43 (IH,m)側夷勇ユ ビルスマイヤー試薬をオキシ塩化リン(1,1g)およ
びN、N−ジメチルホルムアミド(0,5g)から酢酸
エチル(2,011111)中で慣用の方法により製造
した。2−[2−(2,2,2−1リフルオロアセトア
ミド)−5−クロロチアゾール−4−イル]−2−プロ
パルギルオキシイミノ酢酸(シン異性体)(2,2g)
をビルスマイヤー試薬のテトラヒドロフラン(22mm
 )中部濁液に攪拌しながら水冷下に加え、同し温度で
20分間攪拌した(溶液A)。トリメチルシリルアセト
アミド(5,1g)を7−アミツセフアロスボラン酸(
1,5g)のテトラヒドロフラン(30mm )中部濁
液に攪拌下に加え、この混合物を35〜40℃で30分
間攪拌した。この溶液に溶液Aを一10℃で加え、同じ
温度で30分間攪拌した。反応混合物に一10℃で水と
酢酸エチルとを加え、有機層を分離して取り、これを水
に加えた。この混合物を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液
でpH7,5に調整した。水石を分離して取り、10%
塩酸でpH2,0に調整し、次いで酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下に留去して、7
−[2−[2−(2,2,2−トリフルオロアセトアミ
ド)−5−クロロチアゾール−4−イルコー2−プロパ
ルギルオキシイミノアセトアミド]セファロスポラン酸
(シン異性体)(2,51g)を得た。
IR(スジ9−ル)  :  3200. 2130.
 1790. 1735. 1715゜1665、16
25 am’ NMR(DMSO−da、S) ’ 2.03 (3H
1s)、3.38−3.77(3H,m)、  4.5
3−5.02 (4Lm)、  5.15 (IH,d
J=4.0Hz)、  5.84 (IH,dd、J=
4.0Hz、  8.0Hz>。
9.74  <IH,d、J=8.0Hz)蓬2目i主 参考例1の方法に準じて下記の化合物を製造した。
(1)7−[2−(5−クロロ−2−ホルムアミドチア
ゾール−4−イル)−2−(3−t−ブトキシカルボニ
ル−2−プロペニルオキシイミノ)アセトアミトコ−3
−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(スジ3−ル)  :  1775. 1675 
 (ブロード)  am−1HMR(DMSO−de、
8 > ’ 1.45 (9H,s)、 3.58 (
2)1゜m)、 4.86 (2)1.d、J=4.0
Hz)、 5.12 (IH,d。
J=4.0Hz)、  5.88 (LH,d−d、J
=4.0Hz、  8.0Hz>。
6.02 (LH,d、に16.0Hz>、  6.4
8 (LH,m)、  6.90(IH,d−t、J=
16.OHz、  4.0)1z)、  8.53 (
18,s)。
9.73  (IH,d、J=8.0Hz)、  12
.90  (18,ブロード 5)(2)7−[2−(
2−アミノ−5−クロロチアソール−4−イル)−2−
(3−t−ブトキシカルボニル−2−プロペニルオキシ
イミノ)アセトアミド]−3−セフェム−4−カルボン
酸(シン異性体)。
IR(スジシール)  :  3280. 3170.
 1770. 1680  (ブロード)。
1620 am−1 (3)7−[2−(2−アミノ−5−クロロチアゾール
−4−イル)−2−(3−カルボキシ−2=プロペニル
オキシイミノ)アセトアミトコ−3−セフェム−4−カ
ルボン酸(シン異性体)。
IR(スジ丑−ル)  :  3200. 1775.
 1660. 1630  am″″1(4)7−[2
−(5−クロロ−2−ホルムアミドチアゾール−4−イ
ル)−2−(3−t−ブトキシカルボニル−2−プロペ
ニルオキシイミノ)アセトアミド]−3−(1,3,4
−チアジアゾール2−イル)チオメチル−3−セフェム
−4−力ルボン酸(シン異性体)。
IR(スジシール)  ;  1775. 1680 
 (ブロード)  cm−’NMR(DMSO−ds、
8 ) ’ 1.44 (9H1s)、3.69 (2
H9m)、 4.44 (2H,q、J=14.0Hz
)、 4.84 (2H,m)。
5.16 (LH,d、J=4.0Hz>、 5.84
 (LH,d−d。
J=4.0Hz、 8.0Hz>、 5゜99 (IH
,d、J=16、OHz>。
6.87 (LH,d−t、J=16.0Hz、 4.
0Hz)、 8.51(LH,s)、 9.51 (L
H,s)、 9.73 (IH,d。
J=8.0)1z)、  12.87  (LH,ブロ
ード 5)(5)7−[2−(2−アミノ−5−クロロ
チアゾール−4−イル)−2−(3−t−ブトキシカル
ボニル−2−プロペニルオキシイミノ)アセトアミド]
−3−(1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チオ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)
IR(ス九−ル)  :  1775. 1680  
(ブロード>、  1615  cm−1(6)7−[
2−(2−アミノ−5−クロロチアゾール−4−イル)
−2−(3−カルボキシ−2−プロペニルオキシイミノ
)アセトアミトコ−3−(1,3,4−チアジアゾール
−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸(シン異性体)。
IR(スジ9−ル)  :  3300. 3200.
 1770. 1670゜1630 cm’ (7)7−[2−アリルオキシイミノ−2−(5−クロ
ロ−2−トリフルオロアセトアミドチアゾール−4−イ
ル)アセトアミトコ−3−(1−力ルボキシメチル−I
H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(スジ1〜ル)  ’  3210. 1790.
 1720. 16.60  cm−INMR(DMS
O−ds、δ) : 3.72 (2H,m)、 4.
40 (2H。
q、J=14.0Hz)、 4.72 (2H,d、J
=4.0Hz>、 5.08−5.64 (2H,m)
、 5.16 (1)1.d、J=4.0Hz>、 5
.34(2H,s)、 5.76−6.49 (IH,
m)、 5.90 (LH,d−d。
J=4.0Hz、  8.0Hz>、  8.97  
(21,ブロード s)、  9.79くlH,d、J
=s、o)lz) (8)7−[2−アリルオキシイミノ−2−(2−アミ
ノ−5−クロロチアゾール−4−イル)アセトアミトコ
−3−(1−カルボキシメチル−ーテトラゾール−5−
イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(2
251体)。
IR  (スジ3−ル)  :  3250.  17
65.  1660.  1620  am−’(9)
7−[2−(2−ホルムアミド−5−クロロチアゾール
−4−イル)−2−プロパルギルオキシイミノアセトア
ミドコー3−(1.3.4−チアジアゾール−2−イル
)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異
性体)。
IR  (スジシール)  ’  3250.  21
20.  1770.  1760  am−’NMR
  (DMSOds,S  )  ’  3.50  
(LH.m)、 3.73  (2H。
m)、 4.45 (2H.q.J=14.0Hz>、
 4.81 (2H.m)。
5、16 (LH.d,J=5.0Hz)、 5.84
 (1)1.dd。
J=5.0Hz. 8.0Hz>、 8.55 (IH
.s)、 9.56 (18。
s)、9、73 (IH,d.J=8.0Hz)(to
)?−[ 2−( 2−アミノ−5−クロロチアゾール
−4−イル)−2−プロパルギルオキシイミノアセトア
ミド]−3−( 1,3.4−チアジアゾール−2−イ
ル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン
異性体)。
IR(スジョール)  :  3280. 3190.
 2100. 1770. 1670゜1620 am
’ NMR<DMSO−ds、  δ )  :  3.4
5  (IH,m)、  3.68  (2H,q。
J=18.0Hz)、  4.44 (2H,q、J=
14.(l)lz)、  4.72(21,m)、  
5.13 (IH,d、J=5.0Hz)、  5.7
7 (IH。
dd、J=5.0Hz、  8.0Hz)、  7.3
8  (28,ブロード S)。
9.55 (LH,s)、  9.61  (LH,d
、J=8.0Hz)(11)?−[2−(2−ホルムア
ミド−5−クロロチアゾール−4−イル)−2−アリル
オキシイミノアセトアミトコ−3−(1−メチル−IH
−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(スジ3−ル)  :  3200. 1775.
 1670  am−’NMR(DMSO−ds、l;
 ) ’ 3.73 (2N1m)−3,95(3H1
s)、 4.33 (2H,m)、 4.69 (2H
,m)、 5.09−5.58(2B、m)、 5.1
6 (LH,d、J=5、OHz>、 5.72−6.
33(IH,m>、 5.86 (IH,dd、J=5
.0)1z、 8.0Hz)。
8.55 (IH,s)、 9.70 (LH,d、J
4.0Hz)、 12.96(IH,ブロード 5) (12)7−[2−(2−ホルムアミド−5−クロロチ
アゾール−4−イル)−2−アリルオキシイミノアセト
アミド]−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体
)。
IR(スジ3−ル)  :  3200. 1780.
 1760. 1720. 1670゜1650 am
’ NMR(DMSO−ds、l; ) ’ 3.58 (
2N1m>、4−67 (2N1m)、 5.04−5
.57 (2H,m)、 5.10 (IH,d。
J=5.0)1z)、 5.72−6.32 (IH,
m)、 5.87 (IH。
ddJ=5.0Hz、 8.0Hz)、 6.47 (
IH,m>、 8.53(IH,s)、 9.67 (
LH,d、J=8.0Hz)、 12.94(IH,ブ
ロード 5) (13)7−[2−(2−ホルムアミド−5−クロロチ
アゾール−4−イル)−2−アリルオキシイミノアセト
アミド]−3−(1,3,4−チアジアゾ−4−2−イ
ル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン
異性体)。
IR(スジヲール)  :  3160. 1780.
 1680  am’NMR(DMSO−ds、δ) 
: 3.71 (2H,m)、 4.45 <2H。
q、J=14.0Hz)、 4.68 (2H,m)、
 5.10−5.56(28,m)、  5.16 (
IH,d、J=5.0Hz)、  5.71−15.2
3(18,m)、  5.85  (LH,dd、J=
5、OHz、  8.0Hz)。
8.54  (IH,s)、  9.56  (LH,
s)、  9.68  <LH,d。
J=8.0Hz)、  12.94  (1)1.ブロ
ード 5)(14)7−[2−(2−ホルムアミド−5
−クロロチアゾール−4−イル)−2−プロパルギルオ
キシイミノアセトアミド]−3−セフェム−4−カルボ
ン酸(シン異性体)。
IR(スジョール)  :  3300. 3200.
 1780. 1710. 1670゜1650、16
30 am−’ NMR(DMSO−ds、δ) : 3.40−3.8
6 (3H,m)、 4.80(2H,d、J=2.0
Hz>、  5.12 (IH,d、J:5.0Hz>
5.88  (IH,dd、J=5.0Hz、  8.
0Hz)、  6.50  (IH。
t、J−4,0Hz>、  8.56 (IH,s)、
  9.73  (LH,d。
J=8.0Hz>、  12.97  (1)!、ブロ
ード 5)(15)7−42−(2−ホルムアミド−5
−クロロチアゾール−4−イル)−2−プロパルギルオ
キシイミノアセトアミドコー3−(1−メチル−IH−
テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−
4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(ヌジタールン :  3230. 2130. 
1780. 1720゜1680 am−1 NMR(DMSO−ds、S ) ’ 3.51 (L
H,m)−3,73(2N1m)、  3.96 (3
H,s)、  4.34 (2H,m)、  4.79
 (21(。
dJ=2.0Hz>、  5.16 (IH,d、J=
5.0Hz)、  5゜83(IH,dd、J=5.0
Hz、  8.0Hz)、  8.56 <LH,s)
9.74  (LH,d、J=8.0Hz)、  12
.98  (IH,ブロード 5)(16)7−[2−
(2−ホルムアミド−5−クロロチアゾール−4−イル
)−2−プロパルギルオキシイミノアセトアミド]−3
−(5−メチル−1,3,4−チアジアゾール−2−イ
ル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン
異性体)。
IR(スジ3−ル)  :  2120. 1780.
 1715. 1670  am−INMR<DMSO
−ds、S  )  ’  2.69  <3H1s)
、 3.50  (1)1゜m)、 3.68 (2H
,m)、 4.40 (2H,q、J:14Hz)、4
.81 (2H,m>、 5.16 (1)1.d、J
=5.0Hz)、 5.83(1N、dd、J=5.0
Hz、 8.0)1z)、 8.56 (IH,s>。
9.73 (LH,d、J=8.0Hz)、 12.9
6 (IH,5)(17)7−[2−(2−ホルムアミ
ド−5−クロロチアゾール−4−イル)−2−(2−シ
クロペンテン−1−イル)オキシイミノアセトアミド]
−3−(1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チオ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)
LR(スジニール)  :  3170. 1770.
 1670. 1540  am−INMR(DMSO
−da、S ) ’ 1−86−2.50 (4H1m
)、3.62(2H,AB−q、J=17Hz)、 4
.36 (2H,q、J=13Hz)。
5.06 (IH,d、J:5Hz)、 5.20−5
.36 (IH,m)。
5.56−6.16 (3)1.m)、 8.42 (
LH,s)、 9゜44(1)1.s)、 9.46 
(IH,d、J=8Hz>、 12.70 (IH,5
)(18)7−[2−(2−アミノ−5−クロロチアゾ
ール−4−イル)−2−プロパルギルオキシイミノアセ
トアミド]セファロスポラン酸(シン異性体)。
IR(スジ1−ル)  :  3290. 3200.
 2110. 1775. 1720゜1675、16
30 am−’ (19)7−[2−(2−アミノ−5−クロロチアゾー
ル−4−イル)−2−アリルオキシイミノアセトアミド
]−3−(1−メチル−IH−テトラゾール−5−イル
)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異
性体)。
IR(スジクール)  :  3300. 3200.
 1770. 1670゜1620 cm−1 (20)7−[2−(2−アミノ−5−クロロチアゾー
ル−4−イル)−2−アリルオキシイミノアセトアミド
]−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(スジ9−ル’)  :  3400. 3250
. 3200. 1780. 1665゜1620 c
m−1 (21)7−[2−(2−アミノ−5−クロロチアゾー
ル−4−イル)−2−アリルオキシイミノアセトアミド
]−3−(1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チ
オメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体
)。
IR(スジ3−ル)  :  3300. 3200.
 1775. 1670゜1620 am−1 (22)7−[2−(2−アミノ−5−クロロチアゾー
ル−4−イル)−2−プロパルギルオキシイミノアセト
アミド]−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体
)。
IR(スジ9−ル)  :  3400. 3250.
 3200. 2100. 1780゜1670、16
20 cm−1 (23)7−[2−(2−アミノ−5−クロロチアゾー
ル−4−イル)−2−プロパルギルオキシイミノアセト
アミドコー3−(1−メチル−IH−テトラゾール−5
−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(
シン異f’lJ)。
IR(スジ3−ル)  : 3290. 3200. 
2110. 1775. 1675゜1620CI11
−1 (24)7−[2−(2−アミノ−5−クロロチアゾー
ル−4−イル)−2−プロパルギルオキシイミノアセト
アミドコー3−(5−メチル−1,3゜4−チアジアゾ
ール−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸(シン異性体)。
LR(スジ3−ル)  :  3280. 3180.
 2100. 1775. 1675゜1620 am
”” (25)7−[2−(2−アミノ−5−クロロチアゾー
ル−4−イル)−2−(2−シクロペンテン−1−イル
)オキシイミノアセトアミド]−3−(1,3,4−チ
アジアゾール−2−イル)チオメチル−3−セフェム−
4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(スジ1−ル)  :  3300. 3170.
 1770. 1670゜1530 cm’ (26)7−[2−(5−クロロ−2−トリフルオロア
セトアミドチアゾール−4−イル)−2−プロパルギル
オキシイミノアセトアミドコー3−(5−カルボキシメ
チル−4−メチルチアゾール−2−イル)チオメチル−
3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(スジ9−ル)  :  1770. 1710.
 1670  (ブロード)  cm−INMR(DM
SO−da、l; ) ’ 2.23 (3)1.s)
、3.47 (11(。
m)、 3.65 (2H,q、J=19.0Hz)、
 3.74 (2H,s)。
4.27 (2H,q、J=14.0Hz)、 4.7
8 (2H,d。
J=2.0Hz)、 5.12 (1)!、d、J=5
.0Hz)、 5.80(1)1.d−d、J=5.0
Hz、 8.0Hz)、 9.73 (IH,d。
J=8.0Hz) (27)7−[2−(2−アミノ−5−クロロチアゾー
ル−4−イル)−2−プロパルギルオキシイミノアセト
アミド]−3−(5−カルボキシメチル−4−メチルチ
アゾール−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸(シン異性体)。
IR(スジヲール)  :  3280. 3190.
 1770. 1675゜1620 am−1 (28)7−[2−(5−クロロ−2−トリフルオロア
セトアミトチゾール−4−イル)−2−アリルオキシイ
ミノアセトアミトコ−3−(5−カルボキシメチル−4
−メチルチアゾール−2−イル)チオメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(スジ9−ル)  ’  3170. 1780.
 1710. 1655  cm−’NMR(DMSO
−da、8 ) :2−23 (3)1.s)、3.6
5 (2H1q。
J=18.(]Hz)、 3.74 (2H,s)、 
4.29 (2H,q。
J=14.0Hz)、 4.68 (2H,d、J=5
.0Hz)、 5.12−5.54 (2H,m)、 
5.13 (IH,d、J=4.0Hz>、 5.68
−6.32 (2H,m)、 9.69 (IH,d、
J=8.0Hz)(29)7−[2−(2−アミノ−5
−クロロチアゾール−4−イル)−2−アリルオキシイ
ミノアセトアミトコ−3−[5−カルボキシメチル−メ
チルチアゾール−2−イル)チオメチル−3セフェム−
4−カルボン酸(シン異性体)。
IR  (ス九−ル)  :  3290、 3190
,  1770,  1670。
1620 cm″′1

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1はアミノ基または保護されたアミノ基; R^2はカルボキシ(低級)アルケニル基、保護された
    カルボキシ(低級)アルケニル基または不飽和低級脂肪
    族炭化水素基; Xはハロゲン; Yはカルボキシ基または保護されたカルボキシ基をそれ
    ぞれ意味する]で示される酢酸誘導体およびその塩類。
JP63312575A 1980-12-31 1988-12-09 酢酸誘導体およびその塩類 Granted JPH02176A (ja)

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