JPS6163684A - 新規セフエム化合物およびその製造法 - Google Patents

新規セフエム化合物およびその製造法

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JPS6163684A
JPS6163684A JP18086885A JP18086885A JPS6163684A JP S6163684 A JPS6163684 A JP S6163684A JP 18086885 A JP18086885 A JP 18086885A JP 18086885 A JP18086885 A JP 18086885A JP S6163684 A JPS6163684 A JP S6163684A
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JP
Japan
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group
formula
compound
acid
salt
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Pending
Application number
JP18086885A
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English (en)
Inventor
Takao Takatani
高谷 隆男
Yoshiko Inamoto
稲本 美子
Kenji Miyai
宮井 健二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、抗菌活性を有する新規セフェム化金物およ
びその製造法に関するものであり、医療の分野で利用さ
れる。
[従来の技術] 7位に、シアンビニルチオアセチル基を有するセフェム
化合物としては、特開昭53−98991号公報、同5
3−121788号公報等に記載のものが知られており
、今なお、新規セフェム化合物の研究がなされている。
[発明の目的コ この発明は、抗菌活性を有するセフェム化合物のうち特
に、経口投与の形で使用できるセフェム化合物を提供す
ることを目的とする。
[発明の構成コ 目的とするセフェム化合物は次の一般式[I]で示すこ
とができる。
(式中、R1は水素;)10ゲン;低級アルコキシ基;
低級アルキルチオ基;低級アルケニル基;低級アルコキ
シ基、低級アルキルチオ基、アミン基、アンルアミノ基
、アジド基およびピリジニオ基から選択された置換基を
有していてもよい低級アルキル基:または複素環チオ基
、 R2はカル梁キシ基またはエステル化きれたカルボキシ
基を意味する)。
この発明におけるセフェム化合物[1]は次の反応こ1
式で示される種々の製造法で製造することがでさる。
製造法1 [■コ はそれらの塩 またはその塩 製造法2 またはその塩 またはその塩 製造法3 またはその塩 (式中、R1およびR2はそれぞれ前と同じ意味であり
、 RおよびRbはそれぞれエステル化されたカルボキシ基
を意味する)。
この発明の出発原料中、化合物[I[]のある種のもの
は新規化合物であり、下記反応式で示される製造法で製
造することができる。
製造法A またはその塩        またはその塩[Ia] またはその塩 (式中、R1はトリアゾリルチオ基、 R3は保護されたアミノ基、 Xは脱離基を意味し、 R2は前と同じ意味である)。
この明細書の以上および以下の記載における種々の定義
の好適な例を、以下詳細に説明する。
「低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子1〜6個
を意味するものとする。
R1のハロゲンの好適な例としては、塩素、臭素、ふっ
素または沃素が挙げられる。
R1の低級アルコキシ基の好適な例としては、メトキシ
、エトキシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、
インブトキシ、第三級ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキ
シルチオシ等の基が挙げられる。
R1の低級アルキルチオ基の好適な例としては、メチル
チオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、
ブチルチオ、イソブチルチオ、第三級ブチルチオ、ペン
チルチオ、ヘキシルチオ等の基が挙げられる。
R1の低級アルケニル基の好適な例としては、ビニル、
イソプロペニル、1−エチルビニル、1−プロペニル、
アリル、1−ブテニル、2−/テニル、3−/テニル、
4−ペンテニル、5−へキセニル等の基が挙げられる。
R1の低級アルキル基の好適な例としては、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
第三ブチル、ペンチル、ヘキシル等の基が挙げられ、該
低級アルキル基は、低級アルコキシ基、低級アルキルチ
オ基、アミノ基、アシルアミノ基、アジド基およびピリ
ジニオ基から選択された置換基を有していてもよい。
この置換基である低級アルコキン基および低級アルキル
チオ基の好適な例としては前に例示したものと同様のも
のを挙げることができる。
アシルアミノ基の好適な例としては、例えばホルミルア
ミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ヘキサノ
イルアミノ、ピバロイルアミノ等の低級アルカノイルア
ミノ基、例えばメトキシカルボニルアミノ、エトキシカ
ルボニルアミノ、第三級ブトキシカルボニルアミノ、第
三級ペンチルオキシカルボニルアミノ、ヘキシルオキシ
カッしボニルアミノ等の低級アルフキジカルボニルアミ
ノ基、例えばベンゾイルアミノ、トルオイルアミノ、ナ
フトイルアミノ等のアロイルアミノ基、例えはフェニル
アセチルアミノ、フェニルプロピオニルアミノ等のアル
(低級)アルカノイルアミ7基、1列えばフェノキシカ
ルボニルアミノ、ナフチルオキシカルボニルアミノ等の
アリールオキシカルボニルアミノ基、例えばフェノキシ
アセチルアミン、フェノキシプロピオニルアミノ等のア
リールオキシ(低級)アルカノイルアミノ基、例えばフ
ェニルグリオキシロイルアミノ、ナフチルグリオキシロ
イルアミノ等のアリールグリオキシロイルアミノ基、例
えばベンジルオキシカルボニルアミノ、フェネチルオキ
シカルボニルアミノ等リアル(低級)アルコキシカルボ
ニルアミノ基等が挙げられる。
R1の複素環チオ基の複素環部分としては、酸素原子、
硫黄原子および窒素原子から選択きれたペテロ原子少な
くとも1個を含む飽和または不飽和の単環または多環複
素環基が挙げられる。
それらの中で好ましい複素環基としては、例えば、ピロ
リル、ピロリニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジ
ル、ピリジル・N−オキシド、ピリジニオ、ジヒドロピ
リジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、例え
ば4H−L、2,4  トリアゾリル、IH−1,2,
3−トリアゾリル、2H−1,2,3−トリアゾリル等
のトリアゾリル、例えばIH−テトラゾリル、2H−テ
トラゾリル等のテトラゾリル等の窒素原子1〜4個を含
む不飽和3〜8員、きらに好ましくは5または6員複素
単環基; 例えば、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリレノ
、ピペラジニル等の窒素原子1〜4個を含む飽和3〜8
員複素単環基; 例えば、インドリル、イソインドリル、イントリジニル
、ベンズイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、イミ
ダゾリル、ベンゾトリアゾリル、テトラシロピリジル、
テトラシロピリダジニル、ジヒドロトリアゾロピリダジ
ニル等の窒素原子1〜5個を含む不飽和縮合複素環基; 例えば、オキサシリル、イソオキサシリル、例えば1.
2.4−オキサジアゾリル、1.3.4−オキサジアゾ
リル、1,2.5−オキサジアゾリル等のオキサジアゾ
リル等の酸素原子1〜2個および窒素原子1〜3個を含
む不飽和3〜8員複素単環基; 例えば、モルホリニル、シトノニル等の酸素原子1〜2
個および窒素原子1〜3個をを含む飽和3〜8員複素単
環基; 例えば、ベンズオキサシリル、ベンズオキサジアゾリル
等の酸素原子1〜2個および窒素原子1〜3個を含む不
飽和縮合複素環基; 例えば、チアゾリル、インチアゾリル、例えば1.2.
3−チアジアゾリル、1.2.4−チアジアゾリル、1
,3.4−チアジアゾリル、1.2.5−チアジアゾリ
ル等のチアジアゾリル、ジヒドロチアジニル等のイ才つ
原子1〜2個および窒素原子1〜3個を含む不飽和3〜
8員複素単環基;(列えば、チアゾリジニル等のイ才つ
原子1〜2佃および窒素原子1〜3個を含む飽和3〜8
員複素単環基; 例えば、チェニル等のイ才つ原子1〜2個を含む不飽和
3〜8員複素単環基; 例えば、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル等の
イ才つ原子1〜2個および窒素原子1〜3個を含む不飽
和縮合複素環基: 例えば、フリル等の酸素原子1個を含む不飽和3〜8員
複素単環基; 酸素原子1個およびイ才つ原子1〜2個を含む不飽和3
〜8員複素単環基; 例えば、ベンゾチェニル尋のイ才つ原子1〜2個を含む
不飽和縮合複素環基; 例えば、ベンズオキサチイニル等の酸素原子1個および
イ才つ原子1〜2個を含む不飽和縮合複素環基等が挙げ
られる。
R2、R2およびRbのエステル化されたカルボキシ基
の好適なエステル部分としては、例えばメチルエステル
、エチルエステル、プロピルエステル、イソプロピルエ
ステル、ブチルエステル、イソヅチルエステル、ペンチ
ルエステル、ヘキシルエステル、1−シクロプロピルエ
チルエステル等の適当な置換基を有していてもよい低級
アルキルエステル、その例として、例えばアセトキシメ
チルエステル、プロピオニルオキシメチルエステル、ブ
チリルオキシメチルエステル、バレリルオキシメチルエ
ステル、ピバロイルオキシメチルエステル、1−アセト
キシエチルエステル、1−プロピオニルオキシエチルエ
ステル、2−アセトキシエチルエステル、2−プロピオ
ニルオキシエチルエステル、ヘキサノイルオキシメチル
エステル等の低級アルカノイルオキシ(低級)アルキル
エステル、例えば2−メシルエチルエステル等の低級ア
ルカンスルホニル(低級)アルキルエステルまたは例え
ば2−ヨードエチルエステル、2,2゜2− ト’J 
クロロエチルエステル等のモノ(マタハジまたはトリ)
ハロ(低級)アルキルエステル;例えばビニルエステル
、アリルエステル等の低級アルケニルエステル、例えば
エチニルエステル、プロピニルエステル等の低級アルキ
ニルエステル、例えばベンジルエステル、4−メトキシ
ベンジルエステル、4−ニトロベンジルエステル、°フ
ェネチルエステル、トリチルエステル、ジフェニルメチ
ルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチルエステル
、3.4−ジメトキシベンジルエステル、4−ヒドロキ
シ−3,5−ジ第三級ブチルベンジルエステル等の適当
な置換基を有していてもよいアル(低級)アルキルエス
テル、例えばフェニルエステル、4−クロロフェニルエ
ステル、トリルエステル、4−J三級ブチルフェニルエ
ステル、キシリルエステル、メシチルエステル、クメニ
ルエステル等の適当な置換基を有していてもよいアリー
ルエステル等のようなものが挙げられる。
R1のトリアゾリルチオ基の好適な例としては、2H−
1,2,3−トリアゾール−5−イルチオ、2H−1,
2,3−トリアゾール−4−イルチオ、LH−1,2,
3−トリアゾール−4−イルチオ、IH−1,2,3−
トリアゾール−5−イルチオ、4H−1,2,4−トリ
アゾール−3−イルチオ、4H−1,2,4−トリアゾ
ール−5−イルチオ、IH−1,2,4−トリアゾール
−3−イルチオ、IH−1,2,4−トリアゾール−5
−イルチオ等が挙げられる。
R3の好適な保護されたアミノ基としては前記アシルア
ミノ基が挙げられる。
Xの脱離基の好適な例としては、例えば塩素、臭素、沃
素等のハロゲン、例えばメタンスルホン醍エステル、ベ
ンゼンスルホン酸エステル、トルエンスルホン酸エステ
ル等のスルホン酸エステル基が挙げられる。
目的化合物[I]の医薬として許容される好適な塩類は
慣用の無毒性塩類であり、例えばナトリウム塩、カリウ
ム塩等のアルカリ金属塩および例えばカルシウム塩、マ
グネシウム塩等のアルカリ土類金属塩のような金属塩、
アンモニウム塩、例えばトリメチルアミン塩、トリエチ
ルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシ
ルアミン塩、N、N−ジベンジルエチレンジアミン塩等
の有機塩基塩、例えば酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩
、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ギ酸塩
、トルエンスルホン酸塩等の有機酸塩、例えば塩酸塩、
臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩、例えばア
ルギニン塩、アスパラキン酸塩、グルタミン酸塩等のア
ミノ酸との塩等が挙げられる。
この点に関して、化合物[1a]、[I:bコおよび[
1c]は化合物[1]の範囲内に包含され、従ってこれ
らの化合物[I a]、[1b]および[I c]の好
適な塩類については、化合物CI]4こついて・例示し
た上記のものを参照することができる。
この発明の目的化合物[I]の製造法を以下詳細に説明
する。
製造法1 目的化合物[I]およびその塩は、化合物τ1コもしく
はアミン基におけるその厘応性誘導体またはそれらの塩
を、化合物[11[]もし・<壮カルボキシ基における
その反応性誘導体またはそれらの塩と反応させることに
より製造することができる。
化合物CI[’]のアミノ基(こおける反応性誘導体と
しては、化合物[1コとアルデヒド、ケトン等のカルボ
ニル化合物との反応によって生成するシップ塩基型イミ
7基またはそのエナミン型互変異性体;化合物[I]と
ビス(トルメチルシリル)アセトアミド、モノ(トルメ
チルシリル)アセトアミド、ビス(トルメチルシリル)
R素等のシリル化合物との反応↓こよって生成するシリ
ル誘導体:化合物CI]と三塩化燐またはホスゲンとの
反応によって生成する誘導体等が挙げられる。
化合物II]およびその反応性誘導体の好適な塩として
は、化合物[1コについて例示したようなものを挙げる
ことができる。
化合物[111]のカルボキシ基における好適な反応性
s4体止しては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化ア
ミド、活性化エステル等が挙げられる。
それらの反応性誘導体の好適な例としては、酸塩化物;
酸アジド:例えばジアルキル燐酸、フェニル、*厳1.
.;フニニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸等
の!換された燐酸、ジアルキル亜清酸、型硫徴、チオ硫
厳、硫酸、例えばメタンスルホン酸等のスルホシ厳、例
えば酢*、プ0ピオン厳、酪酸、イソ酪酸、ピバリン酸
、ペンタン厳、インペンタン厳、2−エチル酪酸、トリ
クコミ#酸等の脂肪族カルボン酸または安息香酸等の芳
香族カルボン酸のような酸との混合酸無水物;対称酸無
水物:イミダゾール、4−1[換イミダゾール、ジメチ
ルピラゾール、トリアゾールまたはテトラゾールとの活
性化アミド;または例えばシアノメチルエステル、メト
キシメチルエステル、ジメチルイミノメチル [(CH3)2N喝CH−]エステル、ビニルエステル
、プロパルギルエステル、p−ニトロフェニルエステル
、2.4−ジニトロフェニルエステル、トリクロロフェ
ニルエステル、ペンタクロロフェニルエステル、メシル
フェニルエステル、フェニルアゾフェニルエステル、フ
ェニルチオエステル、p−ニトロフェニルチオエステル
、p−クレジルチオエステル、カルボキシメチルチオエ
ステル、ピラニルエステル、ピリジルエステル、ピペリ
ジルエステル、8−キノリルチオエステル等の活性化エ
ステル、または例えばN、N−ジメチルヒトミキシルア
ミン、1−ヒドロキシ−2−(IH)−ピリドン、N−
ヒドロキシスクシンイミド%N−ヒドロキシフタルイミ
ド% 1−ヒドロキシ−6−クロロ−IH−ベンゾトリ
アゾール等のN−ヒドロキシ化合物とのエステル等が挙
げられる。これらの反応性誘導体は、使用される化合物
[IH]の種類によってそれらの中から任意に選択する
ことができる。
化合物[11[]およびその反応性誘導体の好適な塩と
しては、無機塩基との塩、その例として、例えばナトリ
ウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、例えばカルシ
ウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩、アン
モニウム塩:有機塩基との塩、その例として、例えばト
リエチルアミン塩、ピリジン塩、ピッリン塩、エタノー
ルアミン塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシ
ルアミン塩、N、N’−ジベンジルエチレンジアミン塩
等の有機アミン塩等;例えばアルギニン塩、すンン塩、
オルニデン堀、ヒスチジン塩等のアミノ酸との塩等の塩
基との塩が挙げられる。
反応は通常、水、例えばメタノール、エタノ−1し等の
アルコール、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、
クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒ
ドロフラン、酢酸エチル、N、N−ジメチルホルムアミ
ド、ピリジンのような慣用の溶媒中で行われるが、反応
に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる
有機溶媒中でも反応を行うことができる。これらの慣用
の溶媒は水との混合物として使用してもよい。
化合物[11[]を遊離酸の形または塩の形で反応に使
用する場合、N、N’−ジシクロへキシルカルボジイミ
ド;N−シクロへキシル−N″−モルホリノエチルカル
ボジイミド:N−シクロヘキシル−N゛−(4−ジエチ
ルアミノシクロヘキシル)カルボジイミド; N、N’
−ジエデル力ルポジイミド、N、N’−ジイソプロピル
カルボジイミド;N−エデルーN’−(3−ジメチルア
ミノプロピル)カルホシイミF;N、N’−カルボニル
ビス(2−メチルイミダゾール);ペンタメチレン−N
−シクロヘキシルイミン;ジフェニルケテン−N−シク
ロヘキシルイミン;エトキシアセチレン:1−アルコキ
シ−1−クロロエチレン;亜燐酸トリアルキル;ポリ燐
酸エチル;ポリ燐酸イソプロピル;オキシ塩化燐(塩化
ホスホリル);三塩化燐;塩化チオニル;塩化オキザリ
ル;例えばクロロギ酸エチル、クロロギ酸イソプロピル
等のハロギ酸低Hアルキルエステル;トリフェニルホス
フィン:2−エチル−7−ヒドロキシベンズイソオキサ
ゾリウム塩;2−エチル−5−(m−スルホフェニル)
インオキサシリウムヒドロキシド分子内塩;1−(p−
クロロベンゼンスルホニルオキシ)−6−クロロ−IH
−ベンゾトリアゾール、N.N−ジメチルホルムアミド
と塩化デ才二ル、ホスゲン、クロロギ酸トリクロロメチ
ル、オキシ塩化燐等との反応によって調製したいわゆる
ビルスマイヤー試薬等の慣用の縮合剤の存在下に反応を
行うのが好ましい。
この反応はまた、アルカリ金属炭酸水素塩、トリ(低級
)アルキルアミン、ピリジン、N−(低級)アルキルモ
ルホリン、N.N−ジ(低級)アーレキルベンジルアミ
ン等の無機塩基または有機塩基の存在下に行ってもよい
反応温度は特に限定きれず、通常は冷却下または常温で
反応が行われる。
1産亘ユ 目的化合物[Ib]およびその塩は、化合物[ I a
]またはその塩を脱エステル反応に付すことにより製造
することができる. ′ この反応は加水分解、還元等の常法によって行われる。
加水分解は塩基または酸の存在下に行うのが好ましい。
好適な塩基としては、例えばナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属、例えばマグネシウム、カルシウム等のア
ルカリ土類金属、それらの水酸化物または炭酸塩または
炭酸水素塩、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミ
ン等のトリアルキルアミン、ピッリン、1.5−ジアザ
ビシクロ[43、0コノナー5−エン、1.4−ジアザ
ビシクロ[ 2.2.2 1オクタン、1.8−ジアザ
ビシクロ[ 5.4.0 ]ウンデカ−7ーエン等の無
機塩基および有機塩基が挙げられる。
好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸および例
えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無m酸が挙げられる。
例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のトリハロ
酢酸等のルイス酸を使用する脱離は、例えばアニソール
、フェノール等の陽イオン捕捉剤の存在下に行うのが好
ましい。
反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、塩化メチレン、テトラヒドロフランのような
溶媒、またはそれらの混合溶媒中で行われるが、反応に
悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる溶
媒中でも反応を行うことができる.また液状の塩基また
は酸も溶媒として使用することができる。
反応温度は特に限定きれないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。
還元は4−ニトロベンジル、2−ヨードニブル、2;2
,2−ト’)クロロエチル等のエステル部分の脱離に適
用するのが好ましい、脱離反応に適用されうる還元法と
しては、化学的還元および接触還元が挙げられる。  
 ′ 化学的還元に使用きれる好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化クロム、酢酸クロム
等の金属化合物と、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、臭
化水素酸等の有機酸または無機酸との組合わせである。
接触還元に使用きれる好適な触媒は、例えば白金板、白
金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等の
白金触媒、例えばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化
パラジウム、パラジウム−次素、コロイドパラジウム、
パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム
等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニッケ
ル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば還元コバ
ルト、ラネーコバルト等のコバルト触媒、例えば還元鉄
、ラネー鉄等の鉄触媒、例えば還元鋼、ラネー銅、ウル
マン銅等の銅触媒のような慣用のものである。
還元は通常、水、メタノール、エタノール、プロパツー
ル、N、N−ジメチルホルムアミドのような反応に悪影
響を及ぼさない溶媒またはそれらの混合溶媒中で行われ
る。さらに、化学的還元に使用する上記酸が液体である
場合には、それらを溶媒として使用することもできる。
芒らにまた、接触還元に使用きれる好適な溶媒としては
、−上記溶媒のほかジエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン等の慣用の溶媒またはそれらの混合溶
媒が挙げられる。
この還元の反応温度は特に限定されないが、通常は冷却
下ないし加温下に反応が行われる。
なお、分子間第四級塩の形の化合物[Iblが、常法、
例えば化合物[Iblの塩基処理により、その分子内第
四級塩に変換される場合も、この発明の範囲内に包含さ
れる。
製」I(ユ 化合物[1c]およびその塩は、化合物[−Iblもし
くはカルボキシ基におけるその反応性誘導体またはそれ
らの塩を、エステル化することにより製造することがで
きる。
化合物[Iblのカルボキシ基における好適な反応性誘
導体としては、例えば酸塩化物、酸臭化物等の酸ハロゲ
ン化物等のこの反応に適用されうる慣用のものが挙げら
れる。
この反応に使用されるエステル化剤としては、アルフー
ルまたはその反応性同族体[例えばハロゲン化物、スル
ホン酸エステル、硫酸エステル、ジアゾ化合物等]など
が挙げられる。
この反応もまた、例えばリチウム、ナトリウム、カリウ
ム等のアルカリ金属、例えばカルシウム等のアルカリ土
類金属、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素
化物、例えば水素化力ルンウム等のアルカリ土類金属水
素化物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の
アルカリ金属水酸化物、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、例えば
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金
属炭酸水素塩、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシド、カリウム第三級ブトキシド等のアルカリ
金属アルフキシト、例えば酢酸ナトリウム等のアルカリ
金属アルカン酸塩、例えばトリエチルアミン等のトリア
ルキルアミン、1.8−ジアザビシクロ[5,4,Oコ
ウンデカー7−エン、例えばピリジン、ルチジン、ピコ
リン等のピリジン化合物、キノリン等の有機塩基または
無機塩基の存在下に行うことができ、また、例えば沃化
ナトリウム、沃化カリウム等の金属沃化物の存在下に反
応を行ってもよい。
アルコールをエステル化剤として使用する場合には、例
えばN、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド、N−
シクロヘキシル−N’−(4−ジエチルアミノシクロヘ
キシル)カルボジイミド、N。
N゛−ジエチルカルボジイミド、N、N’−ジイソプロ
ピルカルボジイミド、N−エチル−N’−(3−ジメチ
ルアミノプロピル)カルポジイミド等のカルボジイミド
化合物、例えば1−(4−クロロベンゼンスルホニルオ
キシ−6−クロロ−IH−ベンゾトリアゾール等のN−
ヒドロキシベンゾトリアゾール誘導体のスルホン酸エス
テル等の縮合剤の存在下に反応を行うことができる。
この反応は通常、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、ベンゼン、塩化メチレン、塩化エチ
レン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジメチルスル
ホキシド、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジ
メチルアセトアミド、ピリジン、ヘキサメチルホスフォ
ラミド等の反応に悪影響を及ぼさない溶媒中、またはそ
れらの混合溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定きれず、冷却下、常温、加温下また
は加熱下に反応を行うことができる。
出発原料[1[alの製造法を以下詳細に説明する。
製造法A (1)第一工程 化合物[VI]およびその塩は、化合物[IV]または
その塩を化合物[V]またはその塩と反応させることに
より製造することができる。 。
化合物[IV]、[V]および[VI]の好適な塩につ
いては、化合物CI’ ]について例示したものを参照
することができる。
反応は通常、水、アセトン、クロロホルム、ニトロベン
ゼン、塩化メチレン、塩化エチレン、アセトニトリル、
N、N−ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノー
ル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランのような溶
媒中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であ
れば、その他のいかなる慣用の溶媒中でも反応を行うこ
とができる。
化合物[V]を遊離の形で反応に使用する場合、例えば
、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカ
リ金属炭酸水素塩、例えばナトリウムメトキシド、ナト
リウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、例え
ばトリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピ
ルエチルアミン等のトリアルキルアミン、ピリジン等の
塩基の存在下に中性付近の条件で反応を行うのが好まし
い。
反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下、常温ま
たは加温下に反応が行われる。
(2)第二工程 化合物[1[alおよびその塩は、化合物CVIコまた
はその塩をアミノ保護基の脱離反応に付すことにより製
造することができる。
化合物[1[alの好適な塩については、化合物[I]
について例示したものを参照することができる。
好適な脱離法としては、加水分解、還元等の常法が挙げ
られる。
この脱離反応は前記製造法2と同様にして行うことがで
きる。従ってこの製造法の反応方式および例えば酸、塩
基、触媒、溶媒、反応温度等の反応条件については製造
法2の説明を参照することができる。
化合物[Iコ、[I b]、[Ic]、[I[alおよ
び[]は、再結晶、カラムクロマトグラフィー、再沈殿
等の常法で分離、精製することができる。
目的化合物[I]および原料化合物[1[]、[I[a
l、[I[[]、[]V]および[VI]には、不斉炭
素原子および/または炭素−炭素間の二重結合に基づく
1個以上の立体異性体、すなわち、2−異性体およびE
−異性体が含まれ、そのような異性体およびそれらの混
合物もこの発明の範囲内に包含される。
治療用として投与するためにこの発明の目的化合物[I
]および医薬として許容されるその塩は、経口、非経口
および外用投与に適した有機もしくは無機固体状もしく
は液状賦形剤のような医薬として許容される担体と混合
して前記化合物を有効成分として含有する慣用の医薬製
剤の形で使用される。医薬製剤は錠剤、顆粒、粉剤、カ
プセルのような固体状であってもよいし、溶液、懸濁液
、シロップ、エマルジョン、レモネード等のようなl夜
状であってもよい。
必要に応じて上記製剤中に助剤、安定剤、湿潤剤および
その他乳糖、クエン酸、酒石酸、ステアリン酸、ステア
リン酸マグネシウム、白土、蔗糖、コーン・スターチ、
タルク、ゼラチン、寒天、ペクチン、落花生油、オリー
ブ油、カカオ脂、エチレングリフール等の通常使用され
る添加剤が含まれていてもよい。
化合物[I]の投与量は患者の年齢、条件、疾患の種類
、使用する化合物[1]の種類等によって変化する。一
般的には、1日当り1mg〜約4000mgの間の量ま
たはそれ以上患者に投与してもよい、この発明の化合物
[I]は平均1回投与量約50mg、100mg、 2
50mg、500mg、 1000mg、 2000m
gを病原菌感染症治療に使用すればよい。
この発明の目的化合物[I]および医薬として許容され
るその塩は新規化合物であり、高い抗菌活性を有し、抗
菌剤、とりわけ経口投与用として有用である。
次に、目的化合物の有用性を示すために、この発明の代
表的化合物[I]のMIC(最小発育阻止濃度)および
床中排出についての試験結果を以下に示す。
越l已【針り 7β−[(2)−β−シアンビニルチオアセトアミド]
−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸(以下化
合物Aと称する)。
7β−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミド]
−3−メトキシメチル−3−セフェム−4−カルボン#
(以下化合物Bと称する)。
7β−[:(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミド
コ−3−メチルチオ−3−セフェム−4−カルボンa2
(以下化合物Cと称する)。
7β−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミド]
−3−メチルチオメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸(以下化合物りと称する)。
7β−m(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミド]
−3−アジドメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(
以下化合物Eと称する)。
ス竺1(最小発育阻止濃度) (1)試験法 試験管内抗菌活性を下記の寒天板倍数希釈法によって測
定した。
各試験菌株をトリプトケース・ソイ・ブロス中−夜培養
してその一白金耳(生菌数108個/m1l)を、各濃
度段階の代表的試験化合物を含むハート・インフュージ
ョン寒天(HI寒天)に接種し、37°Cで20時間培
養後、最小発育阻止濃度(MIC)をsg/rtdlで
表わした。
(2)試験結果 ス鳳1(尿中排出) 〈1)試験法 試験抗生物質をラットに20mg/kg経口投与し、投
与後0〜6時間および6〜24時間の尿を欠株取器で採
取した。尿試料中の抗生物質濃度を1/15M燐酸緩衝
液で調製した標準溶液(pH7、O)により生物検定し
、24時間中の床中排出率を計算した。
(2)試験結果 [発明の効果] 上記の試験結果より明らかなように、この発明の目的化
合物[I]は、顕著な抗菌活性を示し、抗菌剤とりわけ
経口投与用として有用である。
[実施例] 以下この発明を製造例および実施例によって説明する。
製造例1 7β−ホルムアミド−3−メシルオキシ−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリル(12,4&)のアセ
トニトリル(somQ)溶(夜に、2−メルカプト−2
H−1,2,3−トリアゾール(8,8g)およびN、
N−ジメチルホルムアミド(80附)を−30・℃で殖
える。混合物を一3’O・℃、で2時間。
攪拌する。
これに水を加、え、反応、混合物を101%塩酸でpa
3′、 (1に調整する。溶媒を減圧下に留、′去して
a/fを酢酸エチルで抽出する。抽出・潰を炭酸水素ナ
トリウム5%水溶液および飽和食塩水で順次洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥する。!媒を留去して、7β−ホ
ルムアミド−3−(2H−1,2,3−トリアゾール−
4−イル)チオ−3−セフェム−4−力ルボン酸ベンズ
ヒドリル(11,6g)を得る。
KMR(DMSO−ds−1; ) ” 3−40−3
−77 (2H,m)、5.19(IH,d、J:5H
z)、 5.78 (IH,dd、J=5.8Hz)。
6.91 (IH,s)、 7.07−7.63 (1
0H,m)、 8.10(LH,s)、 8.19 (
IH,s)、 9.0 (IH,d、J=8Hz)製造
例2 7β−ホルムアミド−3−(2H−1,2,3−トリア
ゾール−4−イル)チオ−3−セフェム−4−カルボン
酸ベンズヒドリル(5g)をメタノール(25mm1 
)に懸濁させ、塩酸(3,61d)およびテトラヒドロ
フラン(251111) ’=  35℃以下に温度を
保ちながら加える。混合物を同温で1時間攪拌する。こ
れに水を加え、混合物を酢酸エチルで抽1日・する1、
a出液を炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で
順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧
下に留去して残渣をジインプロピルエーテル中で粉砕す
る。粉末を濾取し、ジインプロピルエーテルで洗浄して
、7β−アミノー3−(2H−12,3−トリアゾール
−4−イル)チオ−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリル(2,90K)を得る。
NIIIR(DMSO−d6.δ) : 3.43−3
.77 (2H,a+)、 4.93(LH,d、J=
5Hz>、 5.13 (IH,d、J=5Hz)、 
6.97(LH,s)、 7.13−7.73 (10
H,a*)、 8.26 (IH,s)1亙遭ユ N、N−ジメチルホルムアミド(0,6111)および
酢酸エチル(1,6811)の混合溶媒に、オキシ塩化
燐(Q、7mm)を冷却下に加え、同条件下に30分間
攪拌する。攪拌後、反応混合物に酢酸エチル(10−)
と(Z)−β−シアノビニルチオ酢酸(1,。
g)とを水冷、攪拌下に加える。混合物を3〜5℃でき
らに50分間攪拌して活性化酸溶液を得る。
−1別に7β−アミノ−3−メチルチオメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(2,71g)
およびN−トリメチルシリルアセトアミド(5,84g
)(7)酢酸エチル(toomu )溶液に、上記で得
られる活性化酸溶液を一20°Cで一挙に加え、混合物
を−20〜−10℃で2時間攪拌する0反応混合物に水
(50mQ )を加える。沈殿を濾去して濾液の酢酸エ
チル層を分取する。水層を塩析して酢酸エチル(301
11fl )で抽出する。酢酸エチル暦を会わせて水、
炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、残渣
をジエチルエーテル中で粉砕する。粉末を濾取し、ジエ
チルエーテルで洗浄して、7β−[(2)−β−シアノ
ビニルチオアセトアミドコ−3−メチルチオメチル−3
−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(2,64
&)を得る。
NMR(DMSO−d6.δ)=1.82 (9H,s
)、 3.43−3.87(6H,m)、 5.22 
(LH,d、J=5Hz)、 5.69 (18,d。
J=10Hz)、  5.57−5.90 (IH,m
>、  6.93 (IH,s)。
7.17−7.63 (10H,m)、 7.65 (
IH,dJJOHz)。
9.20 (IH,d、J=8Hz) 以下、実施例1と同様の方法で実施例2〜6の化合物を
得る。
X農遭ニ アβ−[(Z)−β−シアンビニルチオアセトアミl’
]−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボン酸p−ニ
トロベンジル NMR(DMSO−d6.δ) ’ 3.73 (2H
,s)、 3.91 (2)1゜dd、J48Hz、2
9Hz)、 5.25 (LH,d、J=5Hz>。
5.46(2H,s)、 5.57−5.88 (IH
,m)、 5.69 (LH。
d、J:1OHz>、 7.63 (IH,dJ=10
Hz)、 7.68(2H,d、J=8)1z)、 8
.23 <28.d、J=8Hz)、 9.24・(I
H,d、J=8H2) 火蓋贋ニ アβ−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミド]
−3−メトキシ−3−セフェム−4−カルボン酸p−ニ
トロベンジル NMR(DMSO−da、8 ) ’ 3.60−3.
97 (4H1m> 、3.87(2H,s)、  5
.17  (LH,d、J=5Hz>、  5.38 
(2H,s)。
5.45−5.70 (LH,m)、  5.72 (
LH,d、J:10Hz>。
7.68 (IH,d、J=10Hz)、  7.67
 (2H,d、に8Hz)。
8.25 (LH,d、J=81(z)、  9.16
 (LH,d、J=8Hz)実施例4 7β−[(Z)−β−シアンビニルチオアセトアミトコ
−3−(2H−1,2,3−トリアゾール−4−イル)
チオ−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル IR(スジ3−ル)  :  2210. 1780.
 1670−1690゜1540cm−1 NMR(DMSO−ds、S ) ’ 3.36 (2
H1s)、3−77 (2H1s)、 5.24 (L
H,d、J=5Hz>、 5.60−5.93 (IH
m)、 5.73 (LH,d、J=10Hz)、 6
.98 (IH,s)。
7.10−7.90 (IOH,m)、 7.68 (
IH,d、J=10Hz>。
8.27 (IH,s)、 9.25 (LH,d、J
=8Hz>X厘亘至 7β−[(Z)−β−シアンビニルチオアセトアミトコ
−3−メトキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリル iR<スジシール)  :  3250. 2210.
 1760−1765. 1728゜1640cm’ NMR(DMSO−ds、S ) ’ 3.06 (3
H9s)、3.57 (2H9s)、  3.73 (
2H,s)、  4.07 (2H,s)、  5.1
7 (IH。
d、J=5Hz>、  5.57−5.92 (LH,
m)、  5.70 (LH,d。
J=10Hz>、  6.93 (LH,s)、  7
.17−7.63 (IOH。
m)、  7.65 (LH,d、J=10Hz>、 
 9.22 (IH,d。
J=8H2) X星■1 7β−[(Z)−β−シアンビニルチオアセトアミトコ
−3−セフェム−4−カルボン酸1−アセトキシエチル
を得る。
IR(スジ蕾−ル)  :  3280. 2400.
 1740−1790. 1655゜1630cm”” NMR(DMSO−ds、8 ) ’ 1−50 (3
H,dJ=6Hz)、 2−05(3H,s)、 3.
64 (2H,d、J=4Hz)、 3.73 (2H
,s)。
5.09 (IH,d、J=5Hz)、 5.53−5
.93 (LH,m)。
5.69 (LH,d、J=10Hz)、 6.61 
(IH,t、J=4Hz)。
6.86 (LH,ABq、J=6Hz)、 7.63
 (IH,d。
J=10Hz)、 9.13 (IH,d、J=8Hz
)寒maヱ N、N−ジメチルホルムアミド(0,7711Q )お
よびテトラヒドロフラン(2,2m1l)の混合溶媒に
、オキシ塩化燐(0,911m )を冷却下に加える。
混合物を同条件下に30分間攪拌する。攪拌後、反応混
合物にテトラヒドロフラン(13111Q )および(
Z)−β−シアノビニルチオ酢酸(1,3g )を水冷
、攪拌下に加える。混合物を3〜5℃で50分間攪拌し
て、活性化酸溶液を得る゛。
一方別に、7β−アミノ−3−セフェム−4−カルボン
酸(2g)の、N−トリメチルシリルアセトアミド ( 9omu )溶液に、上記で得られる活性化酸溶液
を一20℃で一挙に加え、混合物を−20〜−10℃で
2時間攪拌する.反応混合物に飽和食塩水( 40+1
111 )を加える.生成する沈殿を濾去し、濾液のテ
トラヒドロフラン層を分取する.分離した水層を塩析し
て酢酸エチルで抽出する。有機層を合わせて水を加える
.混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7〜7.5
にFA整し、常温で30分間攪拌する。水層を分取して
10%塩酸を攪拌下5℃に冷却しながら加えてpH2に
11整し、酢酸エチルおよびテトラヒドロフランの混合
溶媒で抽出する。抽出液を塩化ナトリウム飽和水溶液で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する.溶媒を留去し、
残渣をジエチルエーテル中で粉砕して濾取し、ジエチル
エーテルで洗浄後、五酸化溝で乾燥して、7β−[(2
)−β−シアンビニルチオアセトアミトコ−3−セフェ
ム−4−カルボン酸(199g)を白色粉末として得る
IR  (Xジi−x)  :  3300.  17
70.  1715.  1660.  1630。
1540cm−1 NMR (DMSO−ds,l; ) ’ 3− 27
−3.90 (2H,m) 、3. 77(2H,s)
、 5.03 (IH,d.J:5Hz>、 5.43
−5、83(LH.m)、 5.72 (IH.d.J
JOHz>、 6.40 (LH。
t)、 7.69 (IH.d,J=10Hz>、 9
.10 (LH.d。
J=8Hz) 以下、実施例7と同様の方法で実施例8〜16の化合物
を得る。
実施例8 7β−[(Z)−β−シアンビニルチオアセトアミトコ
−3−メチルチオ−3−セフェム−4−カルボン酸 IR(スジヲール)  :  3260. 2200.
 1770. 1750. 1700゜1660、15
40cm−1 NMR(DMSO−da、  δ )  :  2.3
3  (3H,s)、  3.33−3.97(2H,
m)、  3.77  (2H,s)、  5.14 
 (LH,d、に5Hz>。
5.47−5.93 (18,n)、 5.74 (L
H,d、J:10Hz>。
7.72 (LH,d、J=10Hz)、 9.20 
(IH,d、J:8Hz>実施例9 7β−[(Z)−β−シアンビニルチオアセトアミトコ
 −3−(,1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−
4−カルボキシレート IR(スジモール)  :  2230. 1780.
 1680. 1620cm−1HMR(D20.8 
) : 3.18および3.68 (2H,ABq。
J=18Hz)、 3.77 (2H,s)、 5.2
0 (LH,d。
J=5Hz)、 5.37および5.63 (2H,A
Bq。
J−13Hz)、 5.40−5.80 (IH,m)
、 5.60 (LH,d。
J=lOHz>、 7.19 (LH,d、J=10H
z>、 8.15 (21゜mj=7Hz)、  8.
66 (IH,m、JニアHz)、  9.03  <
2H。
m、J=7Hz) Σ」目九四 7β−m(Z)−β−シアンビニルチオアセトアミトコ
−3−アジドメチル−3−セフェム−4−カルボン酸 iR<スジ3−ル)  :  220G、  2100
. 1740. 1720. 1660゜1620cm
−1 NMR(DMSO−ds、8 ) :3.23−3.8
7 (2H,m)、 3.70(2H,s)、 4.1
3 (2H,dd、J=13Hz、33Hz)、 5.
10(LH,d、J=5Hz>、  5.67  (I
H,d、J=10Hz>、  5.53−5.87 (
LH,m)、 7.62 (LH,d、J=10Hz>
、 9.17(LH,d、J=8Hz) 衷」11■ 7β−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミ)’
]−3−ビニルー3−セフェムー4−カルボン酸 IR(スジ1−ル)  :  3300. 2200.
 1760. 1700. 1680゜1540cm−
1 NMR(DMSO−da、 l; ) : 3.53お
よび3.88 (2H,ABq。
J=18)1z)、  3.75 (2)1.s)、 
 5.13 (LH,d。
J=5)1z)、  5.30 <1)1.d、J=1
1Hz>、  5.55 (IH,d。
J=17Hz)、  5.68 (IH,d、J:10
Hz)、  6.95 (LH。
ddJ−11Hz、17Hz)、  7.67 (11
(、d、、Cl0Hz)。
9.22 (LH,d、、c8Hz) 実施例12 7β−[(Z)−β−シアンビニルチオアセトアミトコ
−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボン酸を得る。
IR(スジ3−ル)  :  3280. 2210.
 1770. 1705. 1645゜1530cm’ NMR(DMSO−ds、8  )  ’  3.70
  (2H9s)、 3.82  (2H−dd、JJ
8Hz、33Hz)、 5.18 (LH,d、J=5
Hz)。
5.55−5.80 (LH,m>、 5.68 (L
H,d、J:1OHz)。
7.62 (LH,d、に10)1z)、 9.21 
(LH,d、に8Hz>実施例13 7β−[(Z)−β−シアンビニルチオアセトアミトコ
−3−メトキシ−3−セフェム−4−カルボン酸 IR(スフ1−ル)  :  3270. 2200.
 1760. 1660゜1540cm’ NMR(DMSO−da、8 ) ’ 3.43−3.
90 (2H1m)、3.72(2H,s)、  3.
74  (3H,s>、  5.07  (IH,d、
J=5Hz)。
5.42 (IH,dd、J=5.8Hz>、  5.
68 (IH,d。
J=10Hz)、  7.63 (lH,d、J=10
)1z)、  9.08 (LH。
d、J=8Hz) 実施例14 7β−[(Z)−β−シアンビニルチオアセトアミトコ
−3−メチルチオメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸 IR(スジタール)  :  3300. 2210.
 1760. 1740゜1610cm−1 NMR(DMSO−da、δ) : 2.0 (3H,
s)、 3.64 (2H,s)。
3.74 (2H,s)、 5.17 (LH,d、J
−5Hz)、 5.72(IH,d、J=10Hz>、
 5.52−5.88 (IH,m>、 7.99(L
H,d、J=lOHz)、 9.17 (18,d、J
=8Hz)罠亘五長 7β−[(Z)−β−シアンビニルチオアセトアミトコ
−3−(2H−1,2,3−トリアゾール−4−イル)
チオ−3−セフェム−4−カルボンIN  (スh−ル
)  :  22.30. 1770. 1700. 
1660cm−1HMR(DMSO−da、S  ) 
 ’  3.29  <2H1s)、 3.71  <
2H1s)、  り、LZ (LtL、d、J=51t
z)、、  5.50−5.87  (IH。
tn>、  5.67  (ILd、J=i0Hz)、
  7.62  <LH,d。
J=LOHz)、  8.23  <it!、s)、 
 9.16  (134,d、J=8)tz)火IJ1
聾 7β−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミド]
−3−メトキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸 IR(スh−ル)  :  22G0. 1750. 
1720. 1635゜1540cm−1 NMR(DMSO−da−8)  ’  3−23  
(3H0s)、 3.57  (211゜s)、 3.
73 <211.s)、 4.20 (211,s)、
 5.15 (IR。
d、J−5Hz)、 5.75 (ILd、J=10H
z)、 5.60−5.83<LH,m)、  7.7
0  (ILd、J=1011z)、  9.25  
(IH,d。
J=8Hz) 実施例17 (1)N、N−ジメチルホルムアミド(0,77adl
 )およびテトラヒドロフラン(2,2ml )の混合
溶媒に、オキシ塩化燐(0,9111111)を冷却下
に加える。混合物を水冷下に30分間攪拌する。攪拌後
、テトラヒドロフラン(13mQ )および(Z)−β
−シアンビニルチオ酢酸(1,3g)をこれに水冷、攪
拌下に加える。混合物を3〜5℃で50分間撹拌して活
性化酸溶液を得る。
一方別に、7β−アミノ−3−(第三級ブトキシカッし
ボニルアミノメチル ーカルボン#(3.0g)のテトラヒドロフラン50%
水溶液( 1201d )溶液を、炭酸水素ナトリウム
水溶液で水冷下にp)17. 5に調整する.この溶液
に水冷、攪拌下、上記で得る活性化酸溶液を、炭酸水素
ナトリウム水溶液でp)17. 0〜8.0に保ちなが
ら滴下する.添加終了後、混合物を0〜5℃で2時間撹
拌し、テトラヒドロフランを減圧下に留去する.残った
水溶液を酢酸エチル( 50mjl )およびジエチル
エーテル( 30m11 )で順次洗浄し、IN塩酸で
pH2. 5に調整する.酸性にした溶液を酢酸エチル
で抽出する.抽出液を飽和食塩水でfc浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する.溶媒を留去して残渣をジエチルエ
ーテル中で粉砕する.粉末を濾取してジエチルエーテル
で洗浄し、五酸化溝で乾燥して、7β−[(Z)−βシ
アノビニルチオアセトアミド]−3−(第三級ブトキシ
カルボニルアミノメチル)−3−セフェム−4−カルボ
ン酸( 1.29g )を得る。
IR  (スジコール)  :  2210.  17
60.  1700.  1660。
1540cm−’ NMR (DMSO−9.S):1、38 (9)1.
s)、 3.17−3.80(2H.m)、  3.7
4  (28,s)、  3.57−4、23  (2
)1,m)。
5、07 (18,d.に5)1z)、 5.50−5
.87 <ILm)。
5、69  (LH.d.J=10Hz)、  6.7
7−7、17  (LH.m)。
7、65  (L)1.d.J=LOHz)、  9.
12  <LH,d.J=8Hz)(2)7β−〔(Z
)−βーシアンビニルチオアセトアミド]−3−(第三
級ブトキシカルボニルアミノ)メチル−3−セフェム−
4−カルボン酸( 1.6g )を塩化メチレン(4.
8m11)およびアニソール(1.6mQ)混合物に懸
濁させ、トリフルオロ酢酸(3.2ml+)を水冷下に
加える,混合物を常温で2時間攪拌する.反応混合物に
ジイソプロピルエーテル( 1601111 )を加え
、沈殿を濾取し℃ジイソプロピルエーテルで洗浄し、乾
燥して、7β−[(2)−βーシアノビニルデオアセト
アミド]−3−アミノメチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸(0.53g)を得る。
IR  (スジう一ル)  :  2230.  17
70.  16B0,  1640.  1625。
1560cm−1 NMR (DMSO−da.δ> : 3.17−3.
93 (2)1.m>、 3.77(2H.s)、 4
.97 (IH.d.J:5Hz)、 5。40−5.
 87(11(、m)、 5.72 (IH,d.J=
10t(z)、 7.72 (II(、d。
J=10)tz)、 9.27 (1)1.d,J:8
)1z)及凰五卦 7β−[(Z)−βーシアノビニルチオアセトアミド]
−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボン酸p−ニト
ロヘンシル( 1.Og ) t. to%バ7ジウム
ー炭素で、水素雰囲気中大気圧下、テトラヒドロフラン
( zomQ)、メタノール(5mQ)および酢酸(0
12唾)の混合溶媒中、常温で5時間水素流加する.触
媒を濾去後、メタノールで洗浄し、濾液と洗液とを合わ
せて減圧濃縮する。残渣i二rF酸エチルを加え、混合
物を次酸水素ナトリウー水溶液でpH7〜7.5に調整
する。攪拌後、水層を分取して酢酸エチルで洗浄し、1
0%塩酸でpH2にy4整する。酸性にした水層を酢酸
エチルで抽出する。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸
マグネ/ラムで乾燥する。溶媒を留去して残渣をジイソ
プロピルエーテル中で粉砕する。粉末を濾取し、フイソ
ブロピルエーテルで洗浄後、五酸化溝で乾燥シて、7β
−[(Z)−β−シアノピニルチオアセトアミドコ−3
−クロロ−3−セフェム−4−カルボン酸(0,38g
)を得る。
IR(スジ1−ル)  :  3280. 2210.
 1770. 1705. 1645゜1530CII
I−1 NMR(DMSO−ds、8 ) ’ 3.70 (2
H1s)、3.82 (2H9dd、J=18Hz、3
3Hz)、 5.18 (LH,d、J=5Hz)。
5.55−5.80 (LH,m)、 5.68 (L
H,d、J=10Hz>。
7.62 (IH,d、、Cl0Hz>、 9.21 
(IH,d、J=8Hz)以下、実施例18と同様の方
法で実施例19〜23の化合物を得る。
害」U1印 7β−[:(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミド
]−3−メトキシ−3−セフェム−4−カルボン酸。
IR<’Xジa−L)  :  3270. 2200
. 1760. 1660゜1540cm′−1 NMR(DMSO−da、ε) : 3.43−3.9
0 (2H,m>、 3.72(2H,s)、 3.7
4 (31,s)、 5.07 (LH,d、J:5H
z)。
5.42 (IH,dd、J=5.8Hz)、 5.6
8 (IH,d。
J=lOHz)、 7.63 (111,d、J=10
Hz>、 9.08 (LH。
d、 J=8Hz ) 衷」己江並 7β−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミド]
−3−セフェム−4−カルボン酸。
IR(Xジi−ル)  :  3300. 1770.
 1715. 1660. 1630゜1540cm−
1 NMR(DMSO−da、S ) ’ 3−27−3−
90 (2H1m) 、3.77(2H,s)、 5.
03 (IH,d、J’5Hz)、 5.43−5.8
3(IH,m)、 5.72 (IH,d、J=10H
z>、 6.40(LH,t)。
7.69  (IH,d、J:1OHz)、   9.
10  (lH,dJ=8)1zン実施例21 7β−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミド]
−3−メチルチオ−3−セフェム−4−カルボン酸。
LR(スフ1−ル)  :  3260. 2200.
 1770. 1750. 1700゜1660、15
40cm’ NMR(DMSO−ds−8) ’ 2.33 (3H
1s)、3.33−3.97(2H,n+)、 3.7
7 (2H,s)、 5.14 (LH,d、J=5H
z)。
5.47−5.93 (LH,m)、 5.74 (L
H,d、J=10Hz)。
7.72 (IH,d、J−10Hz)、 9.20 
<18.d、J=8Hz)K1!η 7β−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミド]
−3−(第三級ブトキシカルボニルアミノメチル)−3
−セフェム−4−カルボン酸。
IR(スジ9−ル)  :  221(+、  176
0. 17(10,166(+。
1540cm’ NMR(DMSO−ds、S ) :1.38 (9H
1S>−3,17−3,80(2H,m>、 3.74
 (2H,s)、 3.57−4.23 (2H,m)
5.07 (LH,d、J:5Hz)、 5.50−5
.87 (1)1.m>。
5.69 (LH,d、J=10Hz>、 6.77−
7.17 (LH,m)。
7.65 (IH,d、J=lOHz)、  9.12
 (LH,dj=8Hz)衷1己」本 7β〜[(Z)−β−シアノビニルテオアセトアミドコ
−3−アミノメチル−3−セフェム−4−カルボン酸。
IR<1’;a−4)  ’  2230. 1770
. 1680. 1640. 1625゜1560cm
−1 NMR(DMSOds、S ) ’ 3−17−3.9
3 (2H1m> 、3.77(28,s)、 4.9
7 (LH,d、J:5Hz)、 5.40−5.87
(IH,m> 5.72 (IH,d、J=10Hz)
、 7.72 (IH,d。
J=10Hz)、 9.27 (IH,d、J=8Hz
>実施例24 7β−[(Z)−β:シアノビニルデオアセトアミド]
−3−メチルチオメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸ベンズヒドリル(2,1g)の塩化メチレン(6,3
ma )およびアニ7−ル(2,1mQ )混合物中懸
l!ilf&に、トリフルオロ酢酸(4,zmBお水冷
下に加える。混合物を常温で2時間攪拌する0反応物に
ジイソプロピルエーテル(1001111)を加え、沈
殿を濾取し、ジイソプ口ピルエーテルで洗浄して、7β
−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミドコ−3
−メチルチオメチル−3−ヒフエム−4−カルボン酸(
0,8g)を得る。
ER(Xジi−ル)  ’  3300. 2210.
 1760. 1740’。
1610cm”■ NMR(DMSO−ds、8 ) ’ 2.0 (3H
9s)、3.64 (2H9s)。
3.74 (2H,s)、 5.17 (IH,d、J
=5Hz>、 5.72(1)1.d、J=10Hz)
、 5.52−5.88 (LH,m>、 7.99(
LH,d、J:10Hz)、 9.17 (LH,d、
J=8Hz)以下実施例24と同様の方法で実施例25
〜29の化合物を得る。
K履±遷 7β−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミド]
−3−(2H−1,2,3−トリアゾール−4−イル)
チオ−3−セフェム−4−カルボン酸 IR(Xジ1−4)  ’  2330. 1770.
 1700. 1660cm−1HMR(DMSO−d
s、ε) : 3.29 (2)1.s)、 3.71
 (2H。
s>、  5.12 (IH,d、J:5Hz>、 5
.50−5.87 (IH。
m>、  5.67 (IH,d、J−10Hz)、 
 7.62 (IH,d。
J:10H2)8.23 (LH,s)、  9.16
 (LH,d、J=8Hz)塞」口江翻 7β−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミド]
−3−メトキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
IR(スジ1−ル)  i  2200. 1750.
 1720. 1635゜1540cm−1 NMR(DMSO−ds、δ) : 3.23 (3H
,s)、 3.57 (2M。
s)、 3.73 (2H,s)、 4.20 (2H
,s)、 5.15 (LH。
d、J:5Hz)、 5.75 (IH,d、J=10
Hz)、 5.60−5.83(LH,m)、 7.7
0 (IH,d、J=10Hz)、 9.25 (IH
,d。
J=8H2) 実施例27 .7β−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミド
]−3−(1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4
−カルボキシレート。
IR(スジ9−ル)  :  2230. 1780.
 1680. 1620cm−1HMR(D20.8 
) : 3.18および3.68 (2H,ABq。
J=18Hz>、 3.77 (2H,s) 5.20
 (1)1.d、に5Hz>。
5.37および5.63 (2H,ABq、J=13)
1z)、 5.40−5.80 (IH,m)、  5
.60 (IH,d、J=10Hz)、  7.19(
LH,d、J=LOHz)、  8.15 (2H,m
、J=7Hz>、  8.66(LH,m、J=7Hz
)、  9.03 (2H,m、J=7Hz>衷J0f
fi+競 7β−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミド]
−3−アジドメチル−3−セフェム−4−カルボン酸。
IR(スジミール) ’  2200. 2100. 
1740. 1720. 1660゜1620cm−1 NMR(DMSO−ds、8 ) ’ 3.23−3.
87 (2H1m) 、3.70(2H,s)、 4.
13 <2)!、dd、J=13Hz、33Hz)、 
5.10(IH,dJ=5Hz)、 5.67 (LH
,d、J=10Hz> 5.53−5.87(IH,m
)、 7.62 (LH,d、J=10Hz>、 9.
17(LH,d、J=8Hz) 実施例29 7β−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミド]
−3−ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸。
IR(via−ル) :  3300. 2200. 
1760. 1700. 1680゜1540cm’ NMR(DMSO−ds、、& ) : 3.53.3
.88 (2H,ABq。
J=18Hz)、  3.75 (2)1.s)、  
5.13  (LH,d。
J=5Hz)、  5.30 (LH,d、J:ILH
z)、  5.55 (LH,d。
J=17Hz>、  5.68 (LH,d、J:10
Hz)、  6.95 (L)I。
dd、J−11Hz、17Hz>、  7.67  (
LH,d、J=10Hz)。
9.22 (LH,d、JJHz) 叉JU艷和 7β−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミドコ
−3−セフェム−4−カルボン酸(0,6g)のN、N
−ジメチルホルムアミド(24+1111 )溶液に、
炭酸セシウム(0,6g)を加え、混合物を25℃で3
0分間攪拌する。これに酢酸1−ブロモエチル(154
g)を0〜3℃で滴下する。常温で40分間攪拌後、反
応混合物を酢酸エチル中に注ぎ、不溶物を濾去し、濾液
を水および飽和食塩水で順次洗浄して硫酸マグネシウム
で乾燥する。酢酸エチルを減圧下に留去し、残渣をジエ
チルエーテル中で粉砕して、7β−m(Z)−β−シア
ノビニルチオアセトアミドコ−3−セフェム−4−カル
ボン酸1−アセトキシエチル(0,46g)を得る。
1.R(スジ1−ル>  i  3280. 2400
. 1740(790,1655゜1630cm’ NMR(DMSO−ds、S ) ’ 1.50 (3
H,d、J=6Hz)、 2.05(3H,s)、  
3.64  (2H,d、J=4Hz>、  3.73
  (2H,s)。
5.09 <LH,d、J=5Hz)、 5.53−5
.93 (LH,m)。
5.69 (IH,d、J:10Hz>、 6.61 
(LH,t、J=4Hz>。
6.86 (111,ABq、J=6Hz)、 7.6
3 (LH,d。
J=10t(z)、  9.13  <lLd、J=8
)1z)以r、実施例30と同様の方法で、実施例31
〜35の化合物を得る。
実施例31 7β−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミドコ
−3−メチルチオメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸ベンズヒドリル NMR(DMSO−ds、/;  )  ’  1.8
2  (9H1s)、 3−43−3.87(6H,m
)、 5.22 (IH,d、J=5Hz)、 5.6
9 (11,d。
J=10Hz)、 5.57−5.90 <IH,m)
、 6.93 (IH,s)。
7.17−7.63 (10H,m)、 7.65 (
LH,d、J=10H2)。
9.20 (IH,d、J=8Hz> X]己1芽 7β−[(Z)−β−シアノピニルチオセトアミド]−
3−クロロ−3−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロ
ベンジル NMR(DMSO−ds、S ) ’ 3.73 (2
H,s)、 3−91 (2H1dd、に18Hz、2
9Hz)、 5.25 <LH,d、、C3Hz)。
5.46 (2H,s)、 5.57−5.88 (L
H,m)、 5.69(IH,d、J=10Hz)、 
7.63 (IH,d、J=10Hz)、 7.68<
2)1.d、J=8)1z)、  8.23  (21
(、d、J=8)1z)、  9.24(LH,d、J
=8H2) K轟亘遍 7β−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミド]
−3−メトキシ−3−セフェム−4−カルボン酸p−ニ
トロベンジル NMR(DMSO−d6.δ) : 3.60−3.9
7 (4H,m)、 3.87(2)(、s)、  5
.17  (1)1.d、J=5Hz)、  5.38
  (2H,s)。
5.45−5.70 (IH,m)、 5.72 (I
H,d、J=10Hz>。
7.68 (LH,d、J=10Hz)、 7.67 
(2H,d、J=8Hz>。
8.25 (LH,d、J=8Hz)、 9.16 (
IH,d、J:8Hz)実施例34 7β−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミド]
−3−(2H−1,2,3−トリアゾール−4−イル)
チオ−3−セフェム−4−カルリボン酸ヘンズすドリル IR(スジ3−ル)  :  2210. 1780.
 1670(690゜1540ca+−1 NMR(DMSO−d6.δ) : 3.36 (2H
,s>、 3.77 (2H。
s)、 5.24 (1B、d、J=5Hz)、 5.
60−5.93 (LH。
m)、 5.73 (11(、d、Cl0Hz)、 6
.98 (IH,s)。
7.10−7.90 (LOH,m)、 7.68 (
LH,d、に10Hz>。
8.27 (ILs)、 9.25 (1)1.d、に
21)1z)実施例35 7β−[(Z)−β−シアノビニルチオアセトアミドコ
−3−メトキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリル IR(スジョール)  :  3250. 2210.
 1760−1765. 1728゜1640cm’ NビR(DMSO−ds、f;  )  = 3.06
  <3Ls)、  3.57  <2H−s)、 3
.73 (2H,s)、 4.07 (2H,s)、 
5.17(LH,d、J=5Hz)、  5.57−5
.92  (11,m)、  5.70(LH,d、J
=10Hz)、  6.93 (IH,s)、  7.
17−7.63(10H,m>、  7.65 (IH
,d、J:1OHz)、  9.22 (LH。
d、J=8Hz)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は水素;ハロゲン:低級アルコキシ基;
    低級アルキルチオ基;低級アルケニル基;低級アルコキ
    シ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、アシルアミノ基
    、アジド基およびピリジニオ基から選択された置換基を
    有していてもよい低級アルキル基;または複素環チオ基
    、 R^2はカルボキシ基またはエステル化されたカルボキ
    シ基を意味する) で示される化合物および医薬として許容されるその塩類
  2. (2)(イ)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は水素;ハロゲン;低級アルコキシ基;
    低級アルキルチオ基;低級アルケニル基;低級アルコキ
    シ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、アシルアミノ基
    、アジド基およびピリジニオ基から選択された置換基を
    有していてもよい低級アルキル基;または複素環チオ基
    、 R^2はカルボキシ基またはエステル化されたカルボキ
    シ基を意味する) で示される化合物もしくはアミノ基におけるその反応性
    誘導体またはそれらの塩に 式。 NC−CH=CHSCH_2COOH で示される化合物もしくはカルボキシ基におけるその反
    応性誘導体またはそれらの塩を反応させ、▲数式、化学
    式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^2はそれぞれ前と同じ意味で
    ある) で示される化合物またはその塩を得るか、または(ロ)
    式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2_aはエステル化されたカルボキシ基で
    あり、R^1は前と同じ意味である) で示される化合物またはその塩を脱エステル反応に付し
    、 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される化合物またはその塩を得るか、または(ハ)
    式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は前と同じ意味である) で示される化合物もしくはカルボキシ基におけるその反
    応性誘導体またはそれらの塩をエステル化反応に付し、 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2_bはエステル化されたカルボキシ基で
    あり、R^1は前と同じ意味である) で示される化合物またはその塩を得ることを特徴とする 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^2はそれぞれ前と同じ意味で
    ある) で示されるセフェム化合物またはその塩の製造法。
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