JPS59186952A - 光学活性スルホン酸エステルおよびその製造法 - Google Patents
光学活性スルホン酸エステルおよびその製造法Info
- Publication number
- JPS59186952A JPS59186952A JP6174383A JP6174383A JPS59186952A JP S59186952 A JPS59186952 A JP S59186952A JP 6174383 A JP6174383 A JP 6174383A JP 6174383 A JP6174383 A JP 6174383A JP S59186952 A JPS59186952 A JP S59186952A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sulfonic acid
- acid ester
- formula
- optically active
- cyclopentenolone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6174383A JPS59186952A (ja) | 1983-04-07 | 1983-04-07 | 光学活性スルホン酸エステルおよびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6174383A JPS59186952A (ja) | 1983-04-07 | 1983-04-07 | 光学活性スルホン酸エステルおよびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59186952A true JPS59186952A (ja) | 1984-10-23 |
| JPH045019B2 JPH045019B2 (cs) | 1992-01-30 |
Family
ID=13179959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6174383A Granted JPS59186952A (ja) | 1983-04-07 | 1983-04-07 | 光学活性スルホン酸エステルおよびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59186952A (cs) |
-
1983
- 1983-04-07 JP JP6174383A patent/JPS59186952A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH045019B2 (cs) | 1992-01-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2502721C2 (ru) | Способ получения производных 1-(2-галогенобифенил-4-ил)-циклопропанкарбоновой кислоты | |
| JPH02262558A (ja) | フエニル―1ジエチルアミノカルボニル―1フタールイミドメチル―2シクロプロパンzの新規な製造方法 | |
| JPH04282326A (ja) | 非対称な三環系化合物の製造法 | |
| JPS59186952A (ja) | 光学活性スルホン酸エステルおよびその製造法 | |
| JP4844793B2 (ja) | フェニルシクロヘキセン誘導体またはスチレン誘導体の製造方法 | |
| JPS6135194B2 (cs) | ||
| JPS58159485A (ja) | キラルな光学活性化合物 | |
| JPS59186953A (ja) | 光学活性シクロペンテノロンの製造法 | |
| JPH0672987A (ja) | メタンスルホニルフルオライド誘導体の製造方法 | |
| KR100424341B1 (ko) | 1-메틸인다졸-3-카르복실산의 제조방법 | |
| JP2005134365A (ja) | 光学活性ビナフチル化合物からなるnmr用キラルシフト試薬 | |
| JPH03153660A (ja) | 4―ハロ―3―ヒドロキシブタンニトリルのスルホン酸エステルおよびその製造法 | |
| JPS60169434A (ja) | 光学活性なビシクロケトン類の製法 | |
| JP4750286B2 (ja) | 反応活性な基を有する新規なビフェニル化合物の製造方法 | |
| JPH03130280A (ja) | 4―アリールオキシ―1,3―ベンゾジオキソール類の製造方法 | |
| JPS59163370A (ja) | O−(アミノメチル)フエニル酢酸ラクタムの製造方法 | |
| JPS5935369B2 (ja) | 光学活性化合物の立体選択的合成法 | |
| JPH093055A (ja) | クロマノン系化合物の製造方法 | |
| JPS63162666A (ja) | アミノオキシ酢酸誘導体およびその製造方法 | |
| JPS59193842A (ja) | 光学活性シクロペンテノロン類の製造法 | |
| JPH01313450A (ja) | エステル誘導体およびその製造法 | |
| JPH0253782A (ja) | ホルミルアミノチアゾール酢酸誘導体の製法 | |
| JPS63243045A (ja) | 光学活性な含フツ素ジオ−ル誘導体 | |
| JPS5978153A (ja) | 3−クロロ−2−フエニル−2−ブテンニトリル誘導体及び製造方法 | |
| JPH03153655A (ja) | 4―ハロ―3―アシルオキシブタンニトリルおよびその製造法 |