JPS59181343A - 剥離現像方法 - Google Patents

剥離現像方法

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Publication number
JPS59181343A
JPS59181343A JP5710983A JP5710983A JPS59181343A JP S59181343 A JPS59181343 A JP S59181343A JP 5710983 A JP5710983 A JP 5710983A JP 5710983 A JP5710983 A JP 5710983A JP S59181343 A JPS59181343 A JP S59181343A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
peeling
composition layer
stripping
photopolymerizable composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5710983A
Other languages
English (en)
Inventor
Shunichi Hayashi
俊一 林
Tomomichi Kaneko
金子 與道
Takashi Yamamura
隆 山村
Saburo Miyamoto
三郎 宮本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Electric Industrial Co Ltd filed Critical Nitto Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP5710983A priority Critical patent/JPS59181343A/ja
Publication of JPS59181343A publication Critical patent/JPS59181343A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/34Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away
    • G03F7/343Lamination or delamination methods or apparatus for photolitographic photosensitive material

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は印刷回路等の製造の用に供される剥離現像方
法に関するものである。
印刷回路の製造等のために、画像形成用基板の表面に透
明支持体とこの支持体上に被着された光重合性組成物層
からなる画像形成材料の上記光重合性組成物1m側を粘
着し、この光重合性組成物層を画像状に露光して硬化領
域を形成して、さらに必要に応じて」−配向像形成材料
を加熱した後、上記支持体を基板から剥離して該基板上
に画像状のレジストを形成する画像形成手段がすでに案
出されている。
」二記の方法によって得られる画像状のレジスト性 はその画像再現性が光重へμ成物層の組成によって左右
されるが、上記支持体の剥離の仕方にも大きな影響を受
りる。すなわち、これは上記剥頗ト現像の原理が光重合
性組成物層における露光部分と未露光部分とで接着力が
異なることを利用しているからである、。
このため、上記剥離を人手に依って行なおうとすれば、
上記露光部分と非露光部分とに対して剥離力を加減しな
い限り、原画に忠実な画像状レジストを得ることは困難
であり、ましてや上記露光部分と非露光部分とが複雑に
入り組んだパターンにおいては、剥離力の手加減さえで
きなくなる。
このため、特開昭52−16538号公報や実開昭51
−90837号公報などに示されているように、支持体
とともに基板」二から剥離される未露光部分を圧着・剥
離ロールとニップロールで挾みながら上記基板上からひ
き剥がす方法が提案されている。これは人手によって剥
離するのと違って画像再現性を容易に向上させ得るもの
であるが、厳密にはなおつぎのような欠点を有している
ことが判ってきた。
すなわち、上記ロールによる剥離手段においては、剥離
中の基板の変動が問題となる。これを第1図(A) 、
 (B)で説明する。同図において、■は画像形成用基
板、2は上記基板1の主面に接着された画像形成材料層
であり、これは光重合性組成物層3およびこの層3を支
持する透明支持体4からなる。
5は圧着・剥離ロール、6はニップロールである。
上記両ロール5,6による剥離開始時においては、同図
(Nのよう1こ未露光部分3bとともに支持体4が上記
圧着・剥離ロール5の周面に沿って剥がされるが、両ロ
ール5,6による挾持位置Pと基板ILの剥離進行線Q
の距離が最も短いところは、同図(B)に示すように上
記支持体4が基板1の主面に対して90 の角度(θ)
で剥離される位fg?であるから、この位置まで支持体
4が引張られるに従って」二記基板1が黒矢印方向へ変
移し、以後上記支持体4は上記の角度のままで剥離され
ることになる。このような剥離中の剥離角度の変化のほ
か、露光部3aと未露光部3bとで接着力の異なる部分
が剥離反力となって基板1に付勢されるから、該基板l
が上下動を起こし、剥離速度の変動を惹起させるから、
これにより画像状のレジストにぎざ部が形成されたり、
未露光部分が局部的に残存してしまう。
この発明は」1記欠点を解消するためになされたもので
、上記基板に転接してこれを剥離速度に同調する定速度
で前方へ送り出させるピンチロールを付加することによ
り、剥離中の基板の変動が抑止され、画像の再現性の向
上を図り得る剥離現像方法を提供することを目的として
いる。
以下、この発明を図面にもとづいて説明する。
第2図はこの発明に係る剥離現像方法の一例を示すもの
で、第1図とト部所には同一符号を付して説明を省略す
る。
同図に示すように、この発明においては、基板lに転接
するピンチロール7が圧着・剥離ロール5に対向して配
設されている。つまり上記圧着・剥hllロール5と上
記ピンチロール7とで基板lを挾持さぜながらこの基板
1を支持体4の剥離動作にともなって前方(矢印a方向
)へ送り出させる。
これにより、基板lが送られる速度と、支持体4の剥離
速度とが等しくなり、支持体4の剥離角度も安定する。
とくに上記圧着・剥離ロール5とピンチロール7とで基
板1を保持さぜるため、光重合性組成物層3の露光部3
aと未露光部8bの接着力の差によって」二記基板1が
上下動しようとするのが抑制され、これにより支持体4
の剥離がスムースになされ原画が良好に再現される。こ
の場合、上記ピンチロール7の材質としては、基板1を
効果的に圧接できる点からゴムロールのような弾性材を
設けたものが好ましい。
ところで、上記ピンチロール7を第3図のように2組用
意し、上記圧接・剥離ロール5に対向しない位置で基板
lを保持さぜるようにしてもよいが、上記両ロール5,
7を同調さぜやすい点からは上記実施例の構成を採るの
が好ましい。
また、」二記各例では基板1の片面に画像形成材料2を
積層したもので説明したが、この発明の構成は基板1の
両面に画像形成材料2を積層したものにも適用できるこ
とは勿論である。
つぎに、この発明の実施例を以下に示す。
実施例 画像形成材料として、日東電気工業社製商品名I−ネオ
トロツクーナ」を使用し、2ooμmの配線パターンを
有するマスクを使用して、露光を行なった後、ピンチロ
ールのない第1図(5)、(B)に示す如き状態で剥離
現像を行なうと、10枚中1〜2枚のとれ残り不良がみ
られたものが、ピンチロールを設けた第2図に示す剥離
操作を採用することにより上記の不良はみられなかった
、以上のように、この発明の剥離現像方法によれば、基
板を剥離速度に同調して前方へ送り出すピンチロールを
イ・」加することにより、基板の変動がなく、原画の[
[工場性を向上させることができる0
【図面の簡単な説明】
第1図(Δ) 、 (B)は従来の剥離現像方法の説明
図、第2図はこの発明に係る剥離現像方法の説明図、第
3図はこの発明の詳細な説明図である。。 ■・・・基板、2・・画像形成材料、3・・・光重合性
組成物層、3a・・・露光部、3b・・・未露光部、4
・・・透明支持体、5・・・圧着・剥離ロール、6・・
・ニップロール、7・・ピンチロール。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)画像を形成すべき基板の表面に、透明支持体およ
    び光重合性組成物層からなる画像形成材料を積層腰パタ
    ーン状の露光を行なった後、圧着・剥離ロールとニップ
    τコールとにより上記支持体と未露光の光重合性組成物
    層を」二記基板から剥削して、露光された光重合性組成
    物層を上記基板」二に残存させる剥離現像方法において
    、」二記基板に転接して上記両ロールとで」二記基板を
    前方へ−・定速度で送り出すピンチτコールを配設して
    この送り出し速度に同調させながら上記剥離操作を行な
    わせることを特徴とする剥離現像方法。
JP5710983A 1983-03-31 1983-03-31 剥離現像方法 Pending JPS59181343A (ja)

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JP5710983A JPS59181343A (ja) 1983-03-31 1983-03-31 剥離現像方法

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JPS59181343A true JPS59181343A (ja) 1984-10-15

Family

ID=13046347

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JP5710983A Pending JPS59181343A (ja) 1983-03-31 1983-03-31 剥離現像方法

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JP (1) JPS59181343A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03107852A (ja) * 1989-09-21 1991-05-08 Toyo Ink Mfg Co Ltd 画像形成方法
JP2009138846A (ja) * 2007-12-06 2009-06-25 Hitachi Ltd 電磁ディスクブレーキ

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03107852A (ja) * 1989-09-21 1991-05-08 Toyo Ink Mfg Co Ltd 画像形成方法
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