JPS59181248A - ジアゾメタン誘導体の製造方法 - Google Patents

ジアゾメタン誘導体の製造方法

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JPS59181248A
JPS59181248A JP58056339A JP5633983A JPS59181248A JP S59181248 A JPS59181248 A JP S59181248A JP 58056339 A JP58056339 A JP 58056339A JP 5633983 A JP5633983 A JP 5633983A JP S59181248 A JPS59181248 A JP S59181248A
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manganese dioxide
methylene chloride
hydrazone
electrolytic manganese
reaction
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JP58056339A
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Yoshihiko Hirayama
平山 吉彦
Shigeya Saijo
西條 茂彌
Koretomo Kouno
河野 之伴
Yoshihisa Shiraishi
白石 喜久
Tamio Sakai
酒井 民生
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Taoka Chemical Co Ltd
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Taoka Chemical Co Ltd
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式(,1) (式中R1およびR2は同じであっても異なっていても
よい置換または非置換の芳香族残基である)で表わされ
るジアゾメタン誘導体の製造方法に関する。
一般式(I)で示されるジアゾメタン誘導体は有機化合
物のカルボキシル基部位の保護基として、有用であるこ
とが知られている。
かかるジアゾメタン誘導体の従来公知の製造方法として
は、ヒドラゾン誘導体を二酸化マンガンにより酸化する
方法がある。しかしながら、例えばJ、R,Adams
on(J、C,S、Perkin I、1975.20
31頁)らによればペンゾフェノンヒドラソンを二酸化
マンガンで酸化してジアゾジフェニルメタンを得るに際
し、不活性二酸化マンガンを用いると生成収率は30〜
40%に過ぎず、活性炭に支持させた二酸化マンガンを
使用してもその収率は58%であり、さらにこの場合に
触媒として沃素を使っても尚71%の低収率しかなく、
一方USP 2710862によればp−クロルベンゾ
フェノンヒドラゾンを酸化してp−クロルジフェニルジ
アゾメタンを定量的に得るためには5倍モルの二酸化マ
ンガンを要すること等が記載されているように、ヒドラ
ゾン誘導体から酸化によってジアゾメタン誘導体を得る
に当っては二酸化マンガンを使用することは工業的には
不利であるとされていた。
本発明者等は、ジアゾメタン誘導体の工業的製造方法に
ついて鋭意検討した結果、本発明を見出すに至ったもの
である。
本発明の方法は一般式(II) (式中R1およびR□ は同じであっても異なっていて
もよい置換または非置換の芳香族残基である)で表わさ
れるヒドラゾン誘導体を塩化メチレン中で電解二酸化マ
ンガンを用いて酸化することを特徴とする一般式(+) (式中R9およびRユ は一般式(II)と同じ)で表
わされるジアゾメタン誘導体の製造方法である。
本発明の方法で最も好ましいのは塩化メチレン中で(n
)式に示されるヒドラゾン誘導体の含量を40〜70w
t%とした後酸化することである。
本発明に使用される一般式(旧のヒドラゾン誘導体とし
ては具体的には例えば、ベンゾフェノンヒドラゾン、p
−メチルベンゾフェノンヒドラゾン、p−クロルベンゾ
フェノンヒドラゾン、p−ニトロベンゾフェノンヒドラ
ゾン、p、p’−ジクロルベンゾフェノンヒドラゾンな
どがあげられる。
本発明に使用される電解二酸化マンガンは電解法によっ
て製造された活性のあるγ型のものである。電解二酸化
マンガンの好ましい使用量は本発明の原料である前記一
般式(II)で表わされるヒドラゾン誘導体1モルに対
して有効酸素量換算で2〜4モル、適切には2.5〜3
.5モルの範囲である。
この範囲以下では反応が完結されないし、この範囲以上
では更に反応が進み主にベンゾフェノン誘導体の副生成
が著しくいずれの場合も収率、純度において不良であっ
て好ましくない。
本発明の溶媒としては塩化メチレンに限定する。
塩化メチレンは原料ヒドラゾン誘導体および生成したジ
アゾメタン誘導体に対して非反応性でありかつこれらを
よく溶解させ、高濃度で反応させることができること、
またその比重が大きいので二酸化マンガンの分散性がよ
いこと、工業的に多量に扱う場合問題となる毒性、引火
性についても、低毒性であり通常の工業的使用条件では
非引火性であること、その沸点が39.8℃なので、反
応温度がこの沸点以上には上昇せずジアゾメタン誘導体
の熱による分解や1反応の暴走が防げること、溶媒回収
の際、回収が容易であること等において他の溶媒、例え
ばヘキサン、ヘプタン、石油エーテル等に比して格段に
優れる。
本発明の溶媒濃度はヒドラゾン誘導体−塩化メチレンの
2成分系でヒドラゾン誘導体濃度が40〜701%の範
囲で行うことに限定する。
ジアゾメタン誘導体は非常に分解しやすいことが知られ
、例えばジフェニルジアゾメタンの場合室温2日間放置
するとケタジンに分解し、純度はもとの75%にも下る
ことが知られ、従ってこの化合物は取出後、直ちに次の
反応に用いるべきであるとしている。(Organic
 5ynthesis CoCo11ectivr5V
olu m 、p532)  さらには取出の工程中の
分解をさけるため、反応に使った溶媒の溶液のまま分析
して次の反応に使用している。(IIsP 40923
06 )このように折角反応工程において高純度のジア
ゾメタン誘導体を得ても、その取出工程または濃縮工程
で分解させてしまい製品の純度および収率を低下させて
いる。従って溶液として製品を得る場合にはその濃度調
整のための濃縮工程を省略するとか、また結晶やスラリ
ーとして製品化する場合にはその濃縮工程を短時間で行
えるようにするとかして熱履歴をできるたけ減少させる
ため、元の反応溶液の濃度はできるだけ高濃度にするこ
とが好ましい。
ヒドラゾン濃度を40すし%以下で反応させた場合には
、反応後の濃縮工程に時間がかかりすぎ、ジアゾメタン
誘導体の分解が進み純度および収率が低下し、7011
t%以上では原体の濃縮は容易であるが、酸化剤の濾塊
に付着するジアゾメタン誘導体が多くなり、その洗浄に
手間を要するなど工業的に不利である。
反応は式(n )のヒドラゾン誘導体を塩化メチレンに
その含量が40〜70wt%になるように分散し、次い
で電解二酸化マンガンを添加し、0〜30°Cの温度で
進行させる。電解二酸化マンガンは一度に加えてもよい
が、反応熱による昇温を考慮し30℃を超えない範囲に
添加時の温度を設定しな番プればならない。好ましくは
0〜30℃の温度範囲に保持可能な速度で電解二酸化マ
ンガンを逐次添加することである。反応は0〜30℃で
進行するが0℃以ドでは反応速度が遅く、30℃以」二
、特に35℃以上では生成物のジアゾメタン誘導体の分
解が著しい。
好ましくは5〜25℃の温度範囲である。
以上のように本発明の方法により、工業的にジアゾメタ
ン誘導体を製造する場合、反応工程を安全に行い、後処
理工程においても分解を抑え、ジアゾメタン誘導体を高
純度に高収率で得ることが可能となった。
以下、実施例により本発明を更に説明する。
実施例1 ベンゾフェノンヒドラゾン9.8gを塩化メチレン8g
に分散させ(55tyt%)、これに有効酸素91.0
%の電解二酸化マンガン13.2gを系内温度を20〜
25°Cに保ちながら、30分間を要して逐次加え、加
え終ってから20分間攪拌した。次いで反応液を濾過し
、濾塊を少量の塩化メチレンで洗って、母液と合わせ、
ジフェニルジアゾメタン溶液24gを得た。純度4(h
t%、ジフェニルジアゾメタン9.2.、(収率94゜
7%)であった。
実施例2 ベンゾフェノンヒドラゾン9,8gを塩化メチレン4g
に分散させ(711%、)、これに有効酸素91.0%
の電解二酸化マンガン13.2gを系内温度を20〜2
5℃に保ちながら、30分間を要して逐次加え、加え終
ってから20分間攪拌した。次いで反応液を濾過し、濾
塊を少量の塩化メチレンで洗って、母液と合わせ純度5
0%のジフェニルジアゾメタン溶液18gを得た。(収
率92.6%) 実施例3 ガラスライニング製2001反応釜に塩化メチレン43
kgを入れ、ベンゾフェノンヒドラゾン58kgを分散
させ(57wt、%)、これに有効酸素91.0%の電
解二酸化マンガン78kgを系内温度を20〜25℃に
保ちながら、2時間を要して逐次加え、加え終ってから
2時間攪拌した。次いで反応液を濾過し、濾塊を少量の
塩化メチレンで洗って、母液と合わせた。母液を分析す
ると純度40.Owし%であった。この母液を減圧下2
0℃以下で塩化メチレンを回収し、純度75%溶液73
.3kgを得た。ジフェニルジアゾメタン55.0kg
、収率96%を得た。
比較例1 実施例1で塩化メチレン8gの代りに石油エーテル8g
を用いて同じように酸化処理したが、副生物が多く収率
82%であった。
比較例2 実施例1で塩化メチレン50m1を使用(ベンゾフェノ
ンヒドラゾン含量12.9wt%)した以外は実施例1
と同じように処理した後、ジフェニルジアゾメタン純度
が40νL%になるまで塩化メチレンを減圧蒸留して除
いた。ジフェニルジアゾメタン溶液20゜6gで収率8
5%であった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 】、一般式(n) (式中R1およびR2は同じであっても異なっていても
    よい置換または非置換の芳香族残基である)で表わされ
    るヒドラジン誘導体を塩化メチレン中で電解二酸化マン
    ガンを用いて酸化する。ことを特徴する一般式(j) (式中R,およびR2は一般式(旧と同じ)で表わされ
    るジアゾメタン誘導体の製造方法。 2、 塩化メチレン中のヒドラジン誘導体の含量を40
    〜70−L%としたことを特徴とする特許請求の範囲第
    一項記載のジアゾメタン誘導体の製造方法。
JP58056339A 1983-03-30 1983-03-30 ジアゾメタン誘導体の製造方法 Granted JPS59181248A (ja)

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JPH0313222B2 JPH0313222B2 (ja) 1991-02-22

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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J.C.S. PERKIN 1=1975 *

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