JPS591704B2 - アミノフエニルテトラゾ−ル誘導体及びその塩 - Google Patents

アミノフエニルテトラゾ−ル誘導体及びその塩

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JPS591704B2
JPS591704B2 JP11518179A JP11518179A JPS591704B2 JP S591704 B2 JPS591704 B2 JP S591704B2 JP 11518179 A JP11518179 A JP 11518179A JP 11518179 A JP11518179 A JP 11518179A JP S591704 B2 JPS591704 B2 JP S591704B2
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JP
Japan
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aminophenyl
tetrazole
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compound
salts
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JP11518179A
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JPS5640673A (en
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光治 阿形
博 後藤
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Wakamoto Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Wakamoto Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式(I) □(−X−O、−−−’−−””゛ (但し、式中Rは炭素数1〜4のアルキル基を示す。
)で示されるアミノフェニルテトラゾール誘導体及びそ
の薬学土適当なカチオンとの塩に関するJ本発明に係る
一般式(I)で示される化合物はいづれも優れた抗アレ
ルギー作用を有し、且つ低毒性であることから医薬品と
して有用である。
この化合物(I)を医薬品として製剤化する場合使用目
的により、又は、溶解性を調節するため薬学土適当なカ
チオンとの塩にすることが出来る。
この場合、カチオンはテトラゾール環のH″f’が離脱
したアニオンに付加した形の塩を形成する。本発明で利
用する薬学土適当なカチオンは、通常利用されている低
毒性のものから使用目的に合わせて適宜選択することが
出来、例えば、Na、K等のアルカリ金属、Ca,Mg
等のアルカリ土金属、Al等その他適当な金属あるいは
、アンモニア、トリメチルアミン、トリエチルアミン、
トリス(ヒドロキシメチル)アミノメメン等のカチオン
を代表例として挙げることが出来る。本発明の化合物は
下記の反応式で示される方法により製造することが出来
る。
(但し、式中Rは前記と同じ意義を示し、Aはハロゲン
又は炭素数1〜4のアルコキシ基を示すo)即ち、式(
fl)で示される5 −( 2 −アミノフエニル)テ
トラゾールとー一般式叫で示されるオキサリル誘導体と
を適当な溶媒中で、必要に応じ塩基の共存下、反応させ
ることにより式(I)の目的化合物を製造することが出
来る。
本発明に於て使用する溶媒は特に限定されるものでなく
、通常の有機合成反応に使用する不活性有機溶媒を使用
することが出来、例えば、クロロホルム、メチレンクロ
ライド、ベンゼン、トルエン、キシレン、メメノール、
エメノール、アセトン、テトラヒドロフラ冫′、ピリジ
ン、ジメテノレホルムアミド等が使用出来る。
叫式化合物のAがハロゲンの場合は、通常塩基の存在下
、化合物(11)に対し1.2〜2倍モルの割合で滴下
攪拌すれば室温で容易に反応し、目的化合物(I)を得
ることが出来る。
塩基としては、有機塩基のみならず炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム等の無機塩基も使用することが出来る。
反応混合物中の目的化合物(I)は、反応終了後、溶媒
を留去し、残留物をアルカリで溶解し、酸で結晶として
析出させ分離することが出来る。
叫式化合物のAがアルコキシ基の場合は、この出発原料
自体を溶媒として式間の化合物に対して大過剰(通常5
〜10倍モル)使用して反応させることが出来る。この
場合反応は100〜180℃に加熱して行うのが好まし
い。反応終了後、反応混合物を冷却すれば目的化合物は
結晶として析出するので濾過して分離し、これを再結晶
することにより高純度品を得ることが出来る。本発明の
目的化合物(I)を製造するために使用する式…)の化
合物、5 −( 2 −−アミノフエニル)テトラゾー
ルは文献未載の新規化合物であるが、5−( 2 −ニ
トロフエニル)テトラゾールを塩酸と錫で還元すること
により製造することが出来る。
融点207〜208℃、収率85%。以下本発明を実施
例により説明する。
実施例 1 5−(2−−アミノフエニル)テトラゾール4yにエチ
ルオキサレ一卜3 5ml!を加え浴温150℃で攪拌
しながらIH時間反応させる。
冷却後析出した結晶を濾別しメタノールで再結晶して5
−(2−エチルオキサリルアミノフエニル)テトラゾー
ルを得る。収量 4.4 9 y 融点 202〜20
3℃元素分析値 C11H11N5O3とレ〔計算値
C50.57 H4.24 N26.81実測値 C5
0.39 H4.38 N26.73核磁気共鳴スベク
トル(DMSO、6 0MHz)2.12ppm(t)
3H) 4.4 8ppm(q)2H) 7.26〜8
.92ppm(m、4H)12.4 2ppm(s)I
H) 14.2 9ppm(s)IH)実施例 2 5 −( 2 −アミノフエニル)テトラゾールIV)
ピリジン15mlの混合物に氷冷攪拌下にエチルオキサ
リルクロライド1.2 7Vを30分間で滴下する。
滴下終了後、徐々に温度を士げ室温で2時間反応させる
。反応混合物を減圧下で濃縮し残留物に炭酸ナトリウム
溶液を加えて溶解後、稀塩酸で弱酸性として析出する沈
殿を濾別し水洗後沈殿物をメタノールで2回再結晶を行
なつて目的物を得る。収量0.657実施例1で得たも
のと混融すると融点降下を示さず。
なお、本化合物のマウスLD5Oは腹腔で740TI1
9/Kgである。実施例 3 5−(2−アミノフエニル)テトラゾール0.57にn
−フロピルオキサレート5m1を加え、浴温150℃で
2時間攪拌し、冷後析出した結晶を濾過し、結晶をn−
ヘキサンで洗浄、乾燥して5(2−n−プロピルオキザ
リルアミノフェニル)テトラゾールを得る。
収量0.57、アセトン−nヘキサンより再結晶したも
のの融点164.5〜165℃。元素分析値 Cl2H
l3N5O3として核磁気共鳴スペクトル(DMSO−
D6、60MHz)1.08ppm(T.3H)、1.
40〜2.27ppm(M.2H)、4.40ppm(
T.2H)、7.27〜8.90ppm(M.4H)、
12.47ppm(s・1H)、12.87ppm(プ
ロードS.lH)実施例 45−(2−アミノフエニル
)テトラゾール0.8yにn−ブチルオキサレート10
m1を加え、浴温150〜16『Cで2時間攪拌する。
冷後析出した結晶を濾過し、結晶をn−ヘキサンで洗浄
して5−(2−n−ブチルオキザリルアミノフェニル)
テトラゾールを得る。収量0.87、アセトン−nヘキ
サンより再結晶したものの融点132〜137゜C元素
分析値 Cl3Hl5N5O3として核磁気共鳴スペク
トル(アセトン−D6、60MHz)) 1.00p
pm(T.3H)、1.22〜2.22ppm(M.4
H)、4.45PPm(T.2H)、7.22〜9.0
2ppm(M.4H)、12.62ppm(フロードS
.2H)参考例 ラツト受身皮膚アナフイラキシ一検定(PCA)を次の
ように行なつた。
ウイスメ一系雄性ラツトの背部皮内に希釈した抗血清(
青色斑の面積が100m71前後となる様適宜希釈、0
.1m1/Site)を注射して受身的に感作し、48
時間経過後に抗原DNP−AS(プタ回虫より精製した
蛋白質との結合物)2ηを含む1.0%エバンスブル一
0.5m1を静脈内に注入する。
抗原およびエバンスブル一注射30分後に放血致死、青
色斑の径を測定する。被験薬はNa塩水溶液を使用し、
抗原投与前に経口投与または静脈内投与を行なつた。5
−(2−エチルオキザリルアミノフェニル)一テトラゾ
ールの50%抑制投与量は経口投与では75η/K9 静脈投与では15η/K9である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・( I
    )(但し、式中Rは炭素数1〜4のアルキル基を示す。 )で示されるアミノフェニルテトラゾール誘導体及びそ
    の薬学上適当なカチオンとの塩。 2 5−(2−アミノフェニル)テトラゾールと一般式
    (III)▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・
    ・(III)(但し、式中Aはハロゲン又は炭素数1〜4
    のアルコキシ基を示し、Rは炭素数1〜4のアルキル基
    を示す。 )で示される化合物とを反応させ、所望により薬学上適
    当なカチオンと造塩させることを特徴とする一般式(
    I )▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・(
    I )(但し、式中Rは前記と同じ意義を示す。 )で示されるアミノフェニルテトラゾール誘導体及びそ
    の薬学上適当なカチオンとの塩の製造法。
JP11518179A 1979-09-10 1979-09-10 アミノフエニルテトラゾ−ル誘導体及びその塩 Expired JPS591704B2 (ja)

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JPS5640673A JPS5640673A (en) 1981-04-16
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GB2170403B (en) * 1984-12-24 1989-08-09 Wakamoto Pharma Co Ltd Medicament for treatment of asthma and preparation thereof
JPS6344570A (ja) * 1986-08-12 1988-02-25 Wakamoto Pharmaceut Co Ltd 3−(1h−テトラゾ−ル−5−イル)オキサニリツクアシツド及びその製造法

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JPS5640673A (en) 1981-04-16

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