JPS59169981A - セラミツク材料およびセラミツク材料の製造方法 - Google Patents

セラミツク材料およびセラミツク材料の製造方法

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JPS59169981A
JPS59169981A JP59035865A JP3586584A JPS59169981A JP S59169981 A JPS59169981 A JP S59169981A JP 59035865 A JP59035865 A JP 59035865A JP 3586584 A JP3586584 A JP 3586584A JP S59169981 A JPS59169981 A JP S59169981A
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    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/515Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
    • C04B35/58Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
    • C04B35/597Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon oxynitride, e.g. SIALONS

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 する。
近年、窒素系セラミックが大いに注目さオ’Lでおり、
特に、サイアロン(SIALON )と亦されろシリコ
ン・アルミニウム・オそゾニトリドカ圧目をあびている
,。このセラミック材料はβ一相シリコン・二) IJ
ド(釜化珪累) S匂NBの結晶格子構造のケイ素がア
ルミニウムで部分吋換され且つ窒素原子が酸素によって
部分置換さtて該結晶格子が膨眼度を示すとともに、化
学的攻撃および呟化に対してすぐれた耐久性を示す。更
に、該材料は高温(/2θ0℃〜/弘θO℃の程度)で
もそのすぐれた性質を維持することができろ。材料は上
記の如きすぐit.た・6實を有しているので、その製
造に際してぼ材料のfr’A +4的7JD にを必′
ノ2とせJ゛、史Vこは、製造後の材料自身に加工乞必
女としないような技術に関する多(の研究が行われてき
た。ここで、焼成時に圧力を使用しない方法は、材料自
体を殆ど加工せずに複雑な形状を得ることができる点に
おいて 力的な方法である。しかして、β−シリコン・
ニトリド結晶格子構造を有するサイアロンは、このよう
な製造ができる段階に達しており、現在の課題は、従来
熱プレス(ポットプレス)法でのみ得られたような高密
度を得ることにある。
シリコン・オキシニトリド( SitNtO )は昔か
ら使用な工/ゾニアリングセラミックとして知らオtて
おり、これを製造できる方法は次の通りである。
3 SL+Sc02+ 2 N2 → 2S42N.、
0・・・・・・(1)S402 + &3Nイ   →
 2Si.2N20   ・・・・・・(2ユSt02
 + 3 C + N2  → S4N20+3CO・
・・・・・(ωしかしながら、方法(1)〜(jでは高
密度で純粋なSfi N20セラミツクスを製造するこ
とができない。
また反応(、IJおよび(、J5は反応が非常に遅い。
各種の高密度化添7JO剤がシリコン・オキシニトリド
について使用されているが、熱プレス法は低い気孔率の
材料を得る場合に必要とさ3ているのが通常である。
高密度化添加剤としてアルミナを使用して無圧下にシリ
コン・ニトリドを焼成する方法は、反り結合をも有して
いるのであるgKは成功している。
しかしながら、反応助剤が存在する場合は、理論値の9
左cl2程度までの密度が文献中足報告されているもの
の、このような密度が製造品で保持されるという証拠は
殆ど示されていない。
Trans’ and J Brlt  Ceram 
 Soc,72  376〜glI(/デフ3)におい
てに、H. J aCkは、ある程度の置換( 、%”
’−+ N 3−:AI”+ Q2−とが、β一相Sc
。N8中と同様にS匂N20でも釘晶構造が変化するこ
となく生じ得ることを示している。更に、リチウーL1
+′および/またはカルシウムCa2+ の如き他のカ
チオンも原子価バランスを維持したまま受位を満すこと
ができろ。しかしながらこのような材料のエンジュアリ
ンダセラミックスとしての有用性あるイハ熱プレス法を
使用しないで済むそのような材料の製造方法には殆ど注
意が払われていない。
本明細書全体における「シリコン・アルミニウム・オキ
シニトリド」という語は、シリコン,アルミニウム、酸
素2よび窒素から成るセラミック材料のみならず、更に
他のカチオンを含む上記の如き材料なも意味する。
本発明はシリコン・オキシニトリドの結晶俗子構造を有
するが、セル寸法の膨It、It した7リコン・アル
ミニウム・オキシニトリド(以下0′−相/リコン・ア
ルミニウム・オキシニトリドと称する)ン含有する高’
6flfのセラミック材料およびそのような材料の製造
方法(特に非加圧抗酸を言む方法)に関する。
本発明に従えば、第1相としてSθ〜qgM量チのO′
−相シリコンーアルミニウム・オキシニトリドを含有し
、且つ、ケイ素とケイ素およびアルミニウム以外の少な
くとも7種の金属とを有する少な(とも/檀の20〜−
重量%の第2組(これらの俤は第1相および第2相の総
N量に令づ()を含有するシリコン・アルミニウム・オ
キシニトリド材料であって、理論値の約g5〜約’?9
%の密度であり、且つ上記O′−相シリコン・アルミニ
ウム・オキシニトリドが網目状に結晶化して結晶粒界相
としての上記の少なくとも7種の第2相とともに微構造
(microstructure)を形成している上記
材料が提供される。
好ましいものは、第1および第、2相が材料の主要割合
を偶成しているものである。最も好ましい材料は熾/お
よび第2組から本質的に成るとともに必′をに応じて不
活性な分散相を有するものである。
少なくとも7種の第2相はガラス相(・出濱アルミニウ
ムを含有している)から成るものであってもよいし、ま
たはそれを一部に含有するものであってもよい。また、
少なくとも71噸の第2相は結晶相から成るものであっ
てもよいし、あるいはそれを含有するものであってもよ
い。
ケイ素2よびアルミニウム以外の金属としては、シリカ
および−アルミナと反応し材料の焼成時に府融している
ガラス相を形成し、そこからO′−相シリコン・アルミ
ニウム・オキシニトリドが析出するような金属を選択す
るのが好ましい。例えば、ケイ素およびアルミニウム以
外の金属としてはイツトリウム、リチウム、マグネシウ
ム、カルシウム、スカンジウム、セリウムおよび他のシ
イ6十類元素から成る群から選択する。
更に、本発明は、(a)シリコンニドlJl’&θ〜A
!r重Jikチ、υ1シリカコ2〜3S−重址チ(シリ
コンニトリドに対するノリ力のモル比は少なくとも/:
/である) 、 (C)酸素含有アルミニウム化合物/
〜20重量%(酸化物として)および(diケイ素およ
びアルミニウム以外の金属の酸化物、水酸化物、炭酸塩
、オキシニ) IJド、硝酸塩またはケイ酸塩から選ば
れた少なくとも7種の化合物7〜75重量%(酸化物と
して)(上記の谷係は成分(at〜(dの総重量に基づ
()を含有する粉末混合物を調製する工程;上記粉末混
合物を1boo℃〜/90θ℃の温度で非酸化性 囲気
中で焼成して上記混合物中の上記のアルミニウム化合物
、少なくとも7種の化合物およびシリカの7部を反応さ
せて液相を形成し該液相からO′−相シリコン・アルミ
ニウム・オキシニ) IJドを析出させる工程および焼
成した材料を冷却してO′−相シリコン・アルミニウム
・オキシニトリドとケイ素と上記金属を含有する少な(
とも7種の結晶粒界相を含有する目的物を形成する工程
の各工程から成る高密度セラミック材料を形成する方法
を提供する。
「酸素含有アルミニウム化合物」という語は、酸化アル
ミニウム、または上記の焼成温度で酸化アルミニウムを
形成し得る酸素含有アルミニウム化合物を包含する。
上記の混合物はSO〜乙O重叶俸のシリコンニトリド、
2j?〜30重献チのシリカ、/、θ〜/S重遺%(酸
化物として)のアルミニウム化合物および3〜72屯量
%(酸化−吻として)の上記の少なくとも/様の化合物
を含有するのが好ましい。
焼成工程は圧力をかけずに行うのが好まじり・0前記の
少な(とも7種の化合物はシリカの一部およびアルミニ
ウムの酸化物と反応して反応中にその焼成温度で溶融す
る上記金属のアルミノ/リケードを生じるようなものを
選択するのが好まし℃)。
上記の溶融した金属アルミノシリケートは、屋素が結合
して(・てもよく、このためには、例えば、焼成m度に
おいてシリコンニトリドを溶解する。
混合物は/600℃〜/ ’? 00℃で焼成し、自然
に室温まで冷却させてケイ素、アルミニウムおよび前記
金属を含有するガラスから成7)第2の相を目的とする
材料中に存在させることができる。
自然冷却後の生成物は、該生成・物を1000℃〜/1
I00℃の程度の温度に再加熱して処理することにより
ガラス相を非ガラス化(devltrlfled)させ
るのが好ましい。
別の方法として上記の非ガラス化は、/乙0σC〜/q
00℃で焼成した後生成物をガ゛ラス状物か非ガラス化
するのに十分に遅い速度で冷却することによっても達成
することができる。典型的な冷却速度は700℃/時間
以下である。
上記化合物の金属としてはイツトリウム、リチウム、マ
グネシウム、カルシウム、スカンジウム。
セリウムまたは他の稀土類元素が好ましく、また化合物
としては酸化物または焼成温度で分解して酸化物を生じ
る化合物が好ましい。
この代わりに、上記の金属化合物はシリカの一部あるい
はシリカおよびアルミナと反応してガラス状あるいは結
晶状化合物を生成させ、その後に残りの成分と反応させ
て所望の材料をC÷でもよい。
−上記金属化合物がイツトリアである場合は、シリカと
イツトリアを、2:/のモル比で反応させてイツトリウ
ムシリケート(Y2 S?07)?生成させ、且つ七肚
を反応種に加え該混合物を焼成して高密度のセラミック
材料を錫るのが好ましい。
本発明の第1群の実154例では、西独のH,スターク
(Starck)から供給されグレードLC/θとして
知られている左デ、6gのシリコン・ニトリド(3暇散
チの表面シリカ、θ、02重量係の鉄、 0.03貞k
c%のアルミニウムおよび0.07重@3のカルシウム
(すべて酸化物として)を含有する高純度のもので平均
粒子径は0.3マイクロメーターであろ); 27.!
; 9のクララシュドシリカ(10θppm4−j度の
アルミニウムおよび、201)l)m e4Lの池の今
晩(すべて酸化物として存在する)を含有し99.9%
以上の純度のものであってコマイクロメートルの平均粒
子径を有し、英国のサーマル・シン・ゾケート・リミテ
ッド(Thermal 5yndlcate Llml
ted)から供給されている) ; +−,t yのア
ルミナ(米国のデ・アルミニウム・カンパニーによりア
ルコア(Alcoa) A / Aの名称で供給され、
99.91以上の純度を有し不純物、とじて0.0 g
 %のソーダ。
o、o s %のシリカ、0.03%のライム、θ、o
 t %のマグネシアおよび0.θ/チの酸化鉄(車量
襲)を含有し/マイクロメーター以下の粒子径を有する
) ; g、tt iのイツトリア(デワ、?チの純度
で、金属酸化物の含有看は/ 00 ppm以下であり
、707421メートル以下の粒子径を有するものであ
って、英国のレア・アース・ゾロダクツ・リミテッド(
Rare Earth Products Llmlt
ed)から供給されている)から成る混合物を調製した
次に上記混合物をアルミナ媒体を使用してインゾロビル
アルコール中で2S時間磨伜し、得られた均一な混合物
を/ 2 j ”Cで乾燥したところ、磨砕処理でビラ
ファツジされたアルミナが出発時の粉末のアルミナ含有
酸を2.0g増加させたことが認められた。かくして、
シリコン・ニトリドの表面シリカと磨砕時のアルミナの
ビラファツジを考慮すると、第1表中の(81として表
示した粉末混合物の重t %組成は51p、7 %のシ
リコン・ニトリドScs N4 ; I2 g 、 7
チのシリカ&02;乙、qチのアルミナA403 ;お
よびg、コチのイツトリアY2O3(これらの各チは各
成分の合計重彼基準である)であった。
従って、56.7重A%のシリコン・ニトリドと24、
.7 重量%のシリカとが/:/のモル比となり、残り
の先グ喧量チシリカが焼成温度でアルミナおよびイツト
リアと反応し、溶融イツトリウムアルミシリフートを生
成することができ、この溶融イツトリウムアルミノシリ
ケート中にはシリコン・ニトリドからの溶解によって入
る窒素が存在することもある。液状媒となるのはこの溶
融相であって、この液相かも07−相シリコン・アルミ
ニウム・オキシニトリドが析出する。
混合物(四から多数の予備成形物を用意し、最終生成物
に対する焼成温度の効果を検討した。予備成形は、粉末
をスチール製ダイのキャビティ中に導入し、スチール製
パンチの間に室温で90MPaで一軸的な圧力を加え、
次いで200 MPaで等圧的に加圧して行った。この
ようにして侍らI’tたサンプルヲ/:/のモル比のシ
リカ/アルミナ・ニトリド粉末混合物中に埋込み、続い
て圧力をかけずに/乙00℃〜/g50℃の範囲の温度
で高純度窒素中でカーぎン抵坑炉中で連続的に加熱した
つこの場合に各サンプルは所望の温度に30分〜S時間
の範囲の時間保持した。すべてのサングルの市!損失は
へ〇取量係以下であった。
得られた材料YX線回折で調べたところ、苛晶相を示し
該結晶相が約go重量%を占めるJJ脹したノリコン・
オキシニトリド格子構造(0’−相)ヲ有するシリコン
・アルミニウム・オキシニトリドから主として成るもの
であった。/600°C〜/700℃の低い温度で得た
サンゾルは、5重量%程度の少量のα−相シリコンニト
リド(X線回折で同定)を示し、このシリコン・ニトリ
ドの量は温度の上昇とともに減少するものであった。こ
れより高い温I毘で得たサングルは、少欲のβ−相シリ
コン・ニトリドおよびβ′−相サイアロンを示した(5
重量qb8度)。しかしながら、該β−相は主としてサ
ンゾルの表面で認められ、この第ユの相がサンプルから
一酸化ケイ素が失われろためであることが推測される。
これは保Ml境をシリカ/シリコン・ニトリド(これは
サンプルのまわりに一定の一酸化ケイ素分圧を形成させ
ることにより正確な反応を確保し且つ重量損失を抑えて
(・ろ)から、例えば、ゾロン・ニトリド/シリカl昆
合物に変えることおよび/または炉の雰囲気をコントロ
ールすることによって制呻することができる。
保護媒体を使用すれば1g5o℃〜/デθ0°Cの温度
範囲で焼成した時に生じる解(碓の問題を減じることが
できることも見い出されているが、7g30°Cまでの
最高温度で焼成するのが好ましいことを見い出した。
結晶相が存在することに加えて、Jトガラス化前には、
15係を超えない量のガラス相が結晶粒在中に存在し、
該ガラス相が元素状のイツ) IJウム。
アルミニウムおよびケイ素を含有していることが認めら
れた。従って出発時の混合物中のアルミナは混合物の他
の成分と反応して、膨張オキシニトリドが析出する液相
を与えているが、その弥(7部がシリコン・オキシニト
リドの彬映の原因となっている。
組成物<131については、約、2.g g i cr
nB  の高% )1部密度(水銀浸漬による測定)、
すなわち理論値密j斐ツ、?0αづのqqチが/700
°C/時間の焼成が優られた。重量損失はハθチ以下で
あった。
/qIIRノスノソンおよヒ0./ ** / m1m
 (r) りo スヘッド速度で三点曲げ試験法により
この材料の里霊での破断係数をul+定したところ、弘
θ’0MPa以上の値な示し、また、7300℃まです
ぐれた耐酸イし性を有していた。同様な結果は、同じ組
成物旧を同様′な方法であるがより長い時間およびより
低(・温度すなわち/ろ00℃で5時間焼成して侍られ
た。測定した。′lll1.缶度は2.73gcrn”
すなわち理論1直のqグJ%であった。
次に本発明の第2群の実施声]を行い、出発混合物のア
ルミナ含有量の変化による効果を検討した。
これらの実施例はアルミナ以外については、第1群の実
施例に2げろと実質的に、C11−割合の反応−力を用
い且つ、無加圧で/乙0θ〜/g3θ°Cの範囲の温度
で30分〜S時間の範囲の保持時間で潴成して行った。
混合および布枠した粉末の典晰的な組成は第1群の実施
例の組成物(Dと比1設できろよ5に第1辰中に(2)
、 (Q 、 (Dl 、 (Elおよび(F)として
示した。すべてのサンプルは’I 00 MPa以上の
室温破断係数値2よび7300℃までのすぐれた甘酸化
性を示した。
アルミナ含有域がg重量係程+、>から/10程度に低
下すると、高ぞ便化は次ン4に困几となろが、/乙0θ
℃〜/gり0°Cの侘囲のうちの高い部分である770
0〜/g30℃の温度で焼成するか、あるいは保持時間
を延長するかあるいは両方によって高い嵩密度が得られ
た。弘、7屯敗係のアルミナを含有する材料(Aは77
00℃で60分同7セト成すると2.g 31 crn
−” 8反の高密反すなゎら浬、詩匝密152.909
儂−3の9gφを示した。アルミナば有量が/3チから
20%に上昇すると焼成は更に容易となる。しかしなが
ら耐酸化性はfM 11が7300℃程度以上に上昇す
ると保持できな(なることを見い出した。嵩密度はコ、
g3F1cm−すなわち理論密度のqgチ以上であった
ユ、2〜iq、qM量チの種々のアルミナを有する材料
^、 (81、El 、 (D 、旧および旧について
、i里論値密度の95%以上の嵩密度を有する高密度材
料の典型的な焼成条件は第1表の下に示している。
従って、/〜20重量係の範囲のアルミナで有用な材料
が得られると結論付けることができるか、焼成が容易且
つ良好な耐酸化性が所望さnろ賜金は一/〜/S車量係
の範囲の敵を使用するのが好ましい。
第1表について                  
(出発物質のSi3 N 4 含有量が!;OH幇%以
下に減  (少するとモル比が/:/になるに一安する
Sc 02は20重量%(実際は、、27ダ重量%)に
近つき始め  ゛る。このことは反応の残りの成分が、
2 g、l、水量%  ″を構成することを急味してい
る。N2 Q 3  含有量は  “混合物全体の、2
ON童%を超えないように、好ましくは/S産坩%を超
えないようにしつつ、過剰のδLO2とY2O3を実質
的に、2:/のモル比に保持するべきであることが見い
出された。商い蛍のA12o3(,20f@、fd%)
を含有して製造された材料は膨張  jを受は易く且つ
At2 Q 3含有量が15−20止址%の程度である
材料も膨張が問題になるが、このような問題はそれほど
m著ではなく、焼成工程を注  ジ意深くコントロール
することにより軽減し得るこ   1とを見い出した。
例えは、焼成したサンプルを中  5間温度(15θθ
〜/乙00℃)に0.S時間保持し−1次いで/70θ
℃〜/gθθ℃の最長温度に上げ且つ0.3時間保持す
ることにより上記の問題  −を解決し得ることを見い
出した。温度の上昇速度  1・ま6θ℃/分程度であ
るが、膨張の問題の克服に・ま他の焼成条件も適当であ
り、例えは、上記のような中間温度で保持せずに更にゆ
っくりとした上畔速度も過当である。このような修正し
た温度スフジュールでもよいのは、焼成サイクル中にお
いて早期に^い高密度化が始まり、続いて、それより高
い温度で液体中でO′−相が析出するからでありo焼成
を市り御すること(汐11えは、Ω工程)イる:とによ
りすべてのサンプルの密度の値を改善すbことができた
。材料Eta:/700℃で7時間の腓一工程で焼成で
得られた最高の焼成嵩密度は2−g O?cc−’であ
り、これに対して7600℃で7時間および7g00℃
で7時間の一工程焼成の船台は2g4LPcc−’であ
った。サンプルCおよび)は第1表において2段階焼成
したものであり一曳りのサンプルは/工程焼成したもの
である。
出発混合物中のScs N 4含有量を約グS1蚕%以
下とする場合は、膨張の問題は上記の修正した焼成り法
でも克服が更に困難となることが飽められ、疋って出発
混合物中のN3 N 4 は最少限Sθ1倉%で本発明
の材料を満足に製造することができるとの結論となった
次に、第1群の実施例と同様に更に別の実施例を行った
。但し、これらの実施例では混合物のY2O3濃度を5
−6重量%程度に減じ、且つそれぞれ実質的に2:/の
モル比の5tO2: Y2O3となるようにシリカを過
剰に配合した。出発材料および形成条件は前記の実施例
の通りとした。実施例G〜にの典型的な組成を第2表に
焼成条件を該表の下に示した。
第2表について 第1表と同様にル、03がユ〜/ 3 M fi%の間
で変化するとA/203  の量が増すにつれて密度の
改良が観察されるが、75重i%以上のAt203 で
は第7表における如く膨張が問題となるが、第1表にお
ける如く、焼成条件を調節することにより制御し得るこ
とを見い出した。
Sj、O7の濃度がコS、OX量%程度に減少すると材
料の高密度化が更に困難となって、シリカ綴度がココ、
θ重量%までに減少すると理嗣領の密度のg5%以上の
督度の材料を得るのが困難となるだけでなく、他の成分
を変化させてもgo%以上の0′−相シリコン・アルミ
ニウム・オキシニトリドを含有する材料を得ることがで
きなくなることを見い出した。従って、22重量%のシ
リカでも有用な材料な製造できるが、シリカの最少限の
蛍は25重t%とするのが好ましいとの結論となった。
出発混合物中の843N 4の上限を決める実験では、
5tBN4 が乙Sl童%以上になると、843N4と
つり合い且つ/:/のモル比関係を与えるのに必をなシ
リカは、S=、 N 4  と必要なシリカとの合計が
約93Mk%となることを示した。残りの成分であるY
2O3’、 Al2O3およびその他の&02はそれぞ
れ3重景%、2.!f;’M景%および/、左重舒%す
なわちSLO2Il、 y20sが実質的に2:/のモ
ル比関係を維持する鍵となる。混合物を2段階すなわち
/乙0σCで/時間続いて一/と00℃で7時間焼成す
ることによって、go%以上のO′−相シリコン・アル
ミニウム・オキシニトリドであってス・lIL’l W
 cc−’の密度を有する目的材料か得られた。この場
合、計算上の理論密度が2 g 7 ?cc−’である
から、理論値のg5%以上の密度が得られたことになる
。約3亘幇%のY、O,が加圧焼成を行なわすに不党明
の材料を得ることができる最少限のY2O3含有蓋であ
ると考えられる。しかしながらY2O3の濃度を/1値
%の如く低くした材料についてテストを行ったところ、
これらの材料を加圧焼成で形成すれは本発明の満足でき
る材料が得られることが判明した。
またこのような少量のY、03を含有する混合物による
高密度化はアルミナの#¥度を高めることによつて更に
促進されることも見い出した。
史に、第1群の実施例と同様な方法で、且つ混合物中の
yto3瀝度を約77重量%にまで高めて本発明の別の
群のサンプルを調製した。この混合物は第3表に示し、
その焼成条件は該表の下に示す。
第3表について これらの実験結果を第1表の結果と照合すれば出発材料
中のSt O2の好ましい最大量は約30重菫ダ6であ
り、一方〃、0.は/〜/S止量%の範囲にあることが
好ましいことが示される。ここでもアルミナの製置を7
5重量%(好ましい範囲の上限)から岐太限の20血窟
%に高めると、第7表の谷サンプルについて例7J(シ
た如< m:j何1した焼成条件に従った場合にのみ膨
J恨を回逝できることを児い出した。また1、tt兄材
料中の84.0!が約30朋輩%以上に上昇すると、過
剰のStO2が存在1−るために処刑」の5402とY
、03 とのモル比をそれぞれ2:/につり台セること
が次第に困難になることを児い出した。5LO2のfA
度が混合物全体の約35ム鈑%の埴を超えろと、最長材
料の膨張か認められるたけでなく、最長材料のX線回析
によると、gθ%の0′−相シリコン・アルミニウム・
オキシニトリドを得るという必髪な条件は、それよりも
少菫で既に得られていることが認められた。
槌って、満足できる材料を得るためには33■量%が出
発材料中の840.としての上限である。しかし、生産
段階ではこの上限を30重%−%に低下させることが好
ましいと悶えられる。/ 0−7 * ’Fax−。
5以上の茜い量のY、0.を仮相して丈位を行ったとこ
ろ、出発材料中のY2O3の1が/S重i%までで7置
足できる材料が得られるが、そθ)ような;6い伊にな
るとgo%以上のO′−札シリコン・アルミニウム・オ
キシニトリドを坑成材料中にイ(ることに回灯になるこ
とが絡められた。したがって72L1%のY2O3が得
られる材料の好ましい上限であり、且つ常に良好な性買
を示1−ものであると名えもれる。
更に実験を行い、混合物中の5L3N 4  に対する
84.02の相対比を変化させた効果を牙zめたところ
(&0□:、5j3N4の最少モル比を/:/として)
、Y2O,によって涜■中に液相が存在1−ろために必
伎な過剰」のシリカの麓は、混合物中におけるSc3 
N 4の総量に対するシリカの酩蓋がモル比で/、、!
−: /を超えない餅であることが認められた。従って
混合物中に5θ重鈑%の最少ktのS匂N4 を使方3
する場合は所望の材料を提供できる5(02の最大量は
3.2重量%となる。
史に実験を行って混合物中の過剰のシリカを0(零)に
する、すなわち/:/のモル比関係でSi3 N 4 
 と丁度つり合うだけの、%021CLだ場合の効果を
検討した。しかしながら、混合物中の#20 。
濃度を高く、好ましくは出発混合物の約/ 3 M f
it%以上にするときにのみ満“足できる材料か借られ
ることを児い出した。このようにして得られた材料は、
幾分過剰の&0□すなわち/:/のモル比で5−L3 
N 4  とつり合う量以上の霊のSL O2を混合物
中に存在させた場合の如き高い耐酸化性を示すものでは
なかった。
次に本発明のすべての実施例サンプルを後加熱処理して
存在するガ゛ラス相を非ガラス化した。この非ガラス化
は焼成したサンプルを酸基濃度の低い雰囲気中に鮨、き
且つ該サンプルを7300℃に加熱して25時間保持し
、そし℃低い酸素濃度の雰囲気を保持したまま室温にま
で自然冷却させて行った。
ガラス相から析出した結晶相はイッ) IJウムシリケ
ートであった。出発混合物のアルミナ良度を−高く、す
なわち75重量%以上とした場合は、」”反終材料中に
はムライトも認められた。
上iピの非ガラス化実施例では7300℃のδ1.A度
を使用したが、非ガラス化は、/ 000 ’Cという
低い温度でも、また、約/ダoo″Gまでの茜い温度で
も生じる。しかしながら元盆な非ガラス化が必要である
場合は、低い温度では長時間の加熱が必要となる。上記
の実施例では後加熱処理を使用して非ガラス化を行った
が、m5Xした時のサンプルをそのまま制御しながら冷
却するのも同様に有効であり、このような制御冷却は通
常は/θθ℃/時間以下の速度で何う。
本発明の史に別の7群の実施+yvでは、第/肝の実m
 ’dAJで使用した如きシリカおよび酸化イツトリウ
ムを粉末状で2:/のモル比で雇合し、/ g 001
:で焼成してイツトリウムシリケートY2s4207 
 音形成した。この生成物をアルミナ媒を使用して約d
〜5マイクロメーターの粒子径に粉砕した。
乙/、/2のシリコン・ニトリド1,23.72′のシ
リカおよびユ、2りのアルミナから成る混合物をユ個の
パッチに分け、/方のバッチにg、3 ?の上記のイツ
トリウムシリケートを加え、第一のパッチには/乙、9
2のイツトリウムシリケートを加えた。
各々のバッチをアルミナ媒を使用して2S時間磨砕しグ
、5yのアルミナをビツクアツノした。第/のバッチの
最終混合物は59.3重量%のシリコン・ニトリド、、
23.!;N蓋%のシリカ、乙、7ボ盆70のアルミナ
およびg、5重量%のイツトリウム7リケートを含有し
ていた。5ン、3X景%のシリコン・ニトリドと23.
3Mm%のシリカとは/:/のモル比となっている。第
一のパッチの最終混合物は3L7M’h(%のシリコン
・ニトリド、、23.!;重重%のシリカ、6.2重倉
%のアルミナおよび/ぷろM址%のイツトリウムシリケ
ートを含有し、シリコン・ニトリドとシリコンとは同様
に/:/のモル比であった。
第7群の実施例における如くして冷間圧縮および等出向
加圧を行い、窒集中での焼成は/7SOCでコ時間行っ
た。得られた材料についてX線回折分析を行ったところ
主結晶相はO′−札シリコン・アルミニウム・オキシニ
トリドであり、それとともに微かのシリコン・ニトリド
を示した。これらの材料の上ンノニャリングセラミック
スとしての評価はまた為されていないが、それらの有用
件は脱ガラス化処理によって高まるものと考えられる。
上記の実施例ではイツトリアおよびイツトリウムシリケ
ートを金属化合物として使用したか、その水酸化物、炭
酸塩、オキシニトリドまたは硝酸塩も使用することがで
きる。上記ではイツトリウムをシリコンおよびアルミニ
ウム以外の金属として使用したが、全編としてはイツト
リウム、リチウム、マクネシウム、カルシウム、スカン
ジウム。
セリウムおよび他の稀土類元素から成る群の7棟または
2押以上でもよい。娩つかのも合では選択した金属元素
はシリコン・オキシニトリドの格子構造を有するシリコ
ン・アルミニウム・オキシニトリド内の空位を満すもの
である。
タングステンカーバイド、シリコンカーバイドおよびモ
リブデン等の如き金属のような不活性添加剤も、最終生
成物の性質を向上させる必要がある場合は本発明の材料
中に包含させることができる。
本発明の拐料はO′−相シリコン・アルミニウム・オキ
シニ) IJドに富んでおり且つ結晶粒界相にY−8L
−ルー0−Nガラス相を有している。しかしながら非ガ
゛ラス化によってガラス相を節分的にあるいは完全に結
晶相に変換されている。すべての材料に対する酸化テス
トの結果はすぐれており且つ7300℃で静的空気中で
/2.!;−20時間で0、/・9 m”’ h−’以
下の程度であり、脱ガラス化の前後でのサングル間には
殆んど差か酩められなかった。
429−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (/l  O’−相シリコン・アルミニウム・オキシニ
    トリドから成る第1相gO〜qg重量%、および@■−
    −imaiiアルミニウム以外の少なくとも7種の金属
    とケイ素とから成る少なくとも/挿の第コ相ユθ〜2重
    量%を含有しく上記の各チは第1の相および第ツの相の
    総重量に基づいている)、苦度が理論値の約gS〜約ヲ
    5係であり、且つO′−相シリコン・アルミニウム・オ
    キシニトリドが網目状に結晶化して結晶粒界相としての
    上記の少な(とも7種の第2相とともに微精晶を形成し
    ているシリコン・アルミニラμ・オキシニトリド材料。 (2)第1相および第2組が材料の主要割合を占めてい
    る特許請求の範囲第(1)項に記載の材料。 (3)第1相および第2指から本質的に成り、必要に応
    じて不活性分散相を含有してもよい特許請求の範囲第(
    h項に記載の材料。 (例 少な(とも1種の第2相がガラス相から成るか、
    あるいはガラス相を包含する特許請求の範囲第(1)項
    に記載の材料。 (j 少1ヨくとも7種の第2相が結晶相から成るか、
    あるいは結晶相を包含する特許請求の範囲第(1)項に
    記載の材料。 弘) ケイ素およびアルミニウム以外の金属が、クリ力
    およびアルミナと反応して材料の焼成時に浴融している
    ガラス相を形成し且つ該ガラス相からO′−相シリコン
    ・アルミニウム・オキシニトリドが析出するようなもの
    である特許請求の範囲m (/1項に記載の材料。 (7)  ケイ素およびアルミニウム以外の金属が、イ
    ツトリウム、リチクム、マグネシウム、カルシウム、゛
    スカンジウム、セリウムおよび他の稀土類元素からなる
    群から選択される特許請求の範囲第(6)項に記載の材
    料。 (gl  (at !;θ〜65重童チのシリコン・ニ
    トリド、(bl 2.2.〜3S重i%のシリカ(シリ
    コン・ニトリドに対するシリカのモル比は少なくとも/
    :/である)、tc+酸化物として/〜20重縫チの酸
    素含有アルミニウム化合・吻および(山酸化物として/
    〜/S重tt%の少なくとも7種の化合物であってケイ
    素およびアルミニウム以外の金属の酸化物、水酸化物、
    炭酸塩、オキシニトリド。 硝酸塩またはケイ酸塩から選ばれる化合物(上記の各々
    の係は成分(al〜(dlの合計重量に基づく)を含有
    する粉末混合物を調製する工程;該粉末混合物を71,
    00℃〜/900℃の温度で非酸化性雰囲気で焼成させ
    ることによって、混合物中のアルミニウム化合物、上記
    の少な(とも7種の化合物およびシリカの一部を反応さ
    せて液相を形成し該液相からO′−相シリコン・アルミ
    ニウムーオキシニトリドを析出させ、る工程;および焼
    成した材料を冷却させて、0′−相シリコン・アルミニ
    ウム・オキシニトリド、および、ケイー素と上記金属と
    を含有する少なくとも7種の結晶粒界相を含有する材料
    を形成する工程の各工程から成る高度のセラミック材料
    の製造方法。 (9)  粉末混合物中のシリコン・ニトリドに対する
    シリカのモル比が/、3:/を超えない特許請求の範囲
    第(g)項に記載の方法。 (/の 粉末混合物が50〜60重量%のシリコン・ニ
    トリド、2s〜30重量係のシリカ、7.0〜/S重′
    fk%(酸化物として)のアルミニウム化合物および3
    〜7.2重量係(@化物として)の少なくとも7種の化
    合物を含有する特許請求の範囲第(g1項に記載の方法
    。 (//)焼成工程を圧力をかけないで行う特許請求の範
    囲第<g+項に記載の方法。 (/2)前記の少なくとも7棟の化合物が、シリカの一
    部およびアルミニウムの酸化物と反応して反応中に焼成
    温度で溶融している当該金属のアルミノシリケートを生
    じるようなものである特許請求の範囲第g4に記載の方
    法。 (/3)前記金属の浴融アルミノンリケードが結合した
    窒素も含有している特許請求の範囲第(/2)項に記載
    の方法。 (/り)冷却工程を室温まで自然冷却で行って、ケイ素
    、アルミニウムおよび前記金属を含有するガラスから成
    る第2相を目的材料中に存在させるようにする特許請求
    の範囲第(g]項に記載の方法。 (/S)冷却工程後、生成材料を7000℃〜/lIθ
    0ぐCの程度の温度に再加熱して熱処理してガラス相を
    非ガラス化−させる特許請求の範囲第(/り項に記載の
    方法。 (/6)冷却工程を充分に遅い速度で行なってガラスを
    非ガラス化させる特許請求の範囲第(g+項に6己載の
    方法。 (/7)冷却速度が100℃/時間以下である特許請求
    の範囲第(/乙)項に記載の方法。 (7g)少なくとも/錘の化合物の金属がイツトリウム
    、リチウノ1.マグネシウム、カルシウム、スカンジウ
    ム、セリウムまたは他の棒上類元素であり且つ該化合物
    がその酸化物あるいは焼成温度で酸化・吻に分)列する
    化合物である特許請求の範囲第(g)項に記載の方法。 (/9)少なくとも1種の化合物をノリ力の7部と反応
    させて残りの成分と反応する前にガラス状または結晶状
    化合物を生成させて所望の材料を得る特許請求の範囲第
    (g)項に記載の方法。 (2))  少なくとも1種の化合・吻をシリカおよび
    アルミナと反応させて、残りの成分と反応する前にガラ
    ス状または結晶状化合物を生成させて所望の材料を外る
    特許請求のC@囲第(g)項に記載の方法。 (2/)少な(とも7種の化合物がイツトリアであり、
    シリカとイツトリアとを、2:、/のモル比で一緒に反
    応させてイツトリウムシリケートを形成し、該シリケー
    トを焼成工程前の7昆合物中に包含させる特許請求の範
    囲第(g)項に記載の方法。 (22)目的材料が、0′−相シリコン・アルミニウム
    ・オキシニトリドから成る第1相gO〜qg屯量チおよ
    び少なくとも7種の結晶粒界相、20〜コ重量%(上記
    の各々の係は上記両相の総M量に基づ()を含有し、旧
    つ該目的材料が理論値の約g5〜99係の密度を有する
    特許請求の範囲第(1項に記載の方法。 (刀)前記両相が目的材料の主要割合を占めている特許
    請求の範囲第0−)項に記載の方法。 (J)  目的材料が、[再記両相から4に質的に成り
    、必要に応じて不活性分散相を包含する特許請求の範囲
    第(ムリ項に記載の方法。
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ZA (1) ZA84996B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6355166A (ja) * 1986-08-26 1988-03-09 三菱マテリアル株式会社 水平式連続鋳造用セラミツクス製鋳造ノズル

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4628039A (en) * 1984-03-06 1986-12-09 Kyocera Corporation Sintered silicon nitride body
JPS62207765A (ja) * 1986-03-06 1987-09-12 日本碍子株式会社 窒化珪素焼結体
WO1987005597A1 (en) * 1986-03-14 1987-09-24 Commonwealth Scientific And Industrial Research Or Method of forming a ceramic product
GB8609067D0 (en) * 1986-04-14 1986-05-21 Atomic Energy Authority Uk Silicon nitride materials
AU597664B2 (en) * 1986-05-28 1990-06-07 Cookson Group Plc An improved ceramic material
GB8712683D0 (en) * 1987-05-29 1987-07-01 Cookson Group Plc Ceramic material
JPH0745350B2 (ja) * 1987-12-01 1995-05-17 日本特殊陶業株式会社 繊維強化セラミックス
US5128285A (en) * 1988-04-14 1992-07-07 Ngk Spark Plug Co., Ltd. Silicon oxynitride sintered body
JPH01301565A (ja) * 1988-05-30 1989-12-05 Agency Of Ind Science & Technol 高強度高耐酸化性サイアロン焼結体
US5302329A (en) * 1989-04-28 1994-04-12 Nihon Cement Co., Ltd. Process for producing β-sialon based sintered bodies
JP2927919B2 (ja) * 1990-09-14 1999-07-28 本田技研工業株式会社 窒化珪素質焼結体の結晶化熱処理方法
US5118646A (en) * 1990-11-21 1992-06-02 Norton Company Process for improving the strength of sialon
US5352395A (en) * 1992-07-17 1994-10-04 Phillips Petroleum Company Carbon and ceramic-containing layers for use in sintering of silicon nitride article
US5316988A (en) * 1993-08-02 1994-05-31 Eg&G Idaho, Inc. Sialon ceramic compositions and methods of fabrication
EP0762997B1 (en) * 1994-06-03 2000-09-06 Industrial Research Limited Ceramic production process
US5521129A (en) * 1994-09-14 1996-05-28 The Carborundum Company Sialon-bonded silicon carbide refractory
US5459112A (en) * 1994-09-14 1995-10-17 The Carborundum Company Reaction-bonded silicon carbide refractory product
US5827472A (en) * 1994-10-19 1998-10-27 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Process for the production of silicon nitride sintered body
NZ280375A (en) * 1996-05-01 1998-09-24 Ind Res Ltd A silicon oxynitride ceramic material characterised by its x-ray powder diffraction trace
US9925295B2 (en) * 2012-05-09 2018-03-27 Amedica Corporation Ceramic and/or glass materials and related methods
US9951952B2 (en) 2014-10-15 2018-04-24 Specialized Component Parts Limited, Inc. Hot surface igniters and methods of making same
CN108863399A (zh) * 2018-07-26 2018-11-23 深圳市东川技术研究有限公司 赛隆电加热新材料的烧结工艺
CN115504791A (zh) * 2022-08-12 2022-12-23 河南好运祥耐材有限公司 一种高抗氧化性能的O’-SiAlON-SiC预制件及其制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52147607A (en) * 1976-06-03 1977-12-08 Lucas Industries Ltd Manufacture of ceramic materials
JPS5314717A (en) * 1975-07-24 1978-02-09 Lucas Industries Ltd Ceramic products and manufacture

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS566392B2 (ja) * 1974-04-01 1981-02-10
US4143107A (en) * 1974-06-28 1979-03-06 Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. Silicon nitride-based sintered material and method for manufacturing the same
US4127416A (en) * 1976-07-24 1978-11-28 Lucas Industries Limited Method of producing a ceramic product
US4331771A (en) * 1980-05-12 1982-05-25 Norton Company High density silicon oxynitride
US4365022A (en) * 1980-12-06 1982-12-21 Agency Of Industrial Science & Technology Method for manufacture of high-strength sintered article of substances having β-silicon nitride type crystal structure
DE3363991D1 (en) * 1982-02-26 1986-07-17 Lucas Ind Plc Method of forming ceramic materials and ceramic products, and ceramic materials and ceramic products formed thereby

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5314717A (en) * 1975-07-24 1978-02-09 Lucas Industries Ltd Ceramic products and manufacture
JPS52147607A (en) * 1976-06-03 1977-12-08 Lucas Industries Ltd Manufacture of ceramic materials

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6355166A (ja) * 1986-08-26 1988-03-09 三菱マテリアル株式会社 水平式連続鋳造用セラミツクス製鋳造ノズル

Also Published As

Publication number Publication date
NO165232C (no) 1991-01-16
US4506021A (en) 1985-03-19
CA1201453A (en) 1986-03-04
EP0124199A1 (en) 1984-11-07
AU565639B2 (en) 1987-09-24
ATE21096T1 (de) 1986-08-15
NO840718L (no) 1984-08-27
EP0124199B1 (en) 1986-07-30
ZA84996B (en) 1984-09-26
JPH0545554B2 (ja) 1993-07-09
DE3460366D1 (en) 1986-09-04
NO165232B (no) 1990-10-08
AU2447284A (en) 1984-08-30

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