JPS59501628A - 切削工具として使用するための反応結合/ホツトプレスさせたSi↓3N↓4を製造する方法 - Google Patents
切削工具として使用するための反応結合/ホツトプレスさせたSi↓3N↓4を製造する方法Info
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- JPS59501628A JPS59501628A JP50351482A JP50351482A JPS59501628A JP S59501628 A JPS59501628 A JP S59501628A JP 50351482 A JP50351482 A JP 50351482A JP 50351482 A JP50351482 A JP 50351482A JP S59501628 A JPS59501628 A JP S59501628A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
切削工具として使用するための反応結合/ホットプレスさせたS i 3 N
4を製造する方法本発明の背景及び先行技術の所説
5i3N4 I″11857年以来セラミックとして公知であるが、その構造は
1950年代1ではある程度の確かさでは決定されていなかった。本質的に二つ
の方法、すなわち技術、すなわち(1)圧縮助剤と混合したSi3N4粉末のホ
ットプレス、あるいは(2)触媒と混合したSi3N4の窒素中での加熱による
反応結合、によってこのセラミックから有用な物体を製造した。米国特許第3.
839.540号明細書では二つの方法を組み合わせ、反応結合加熱をする前に
圧縮助剤をケイ素に添加できるようにして、触媒の必要をなくし、寸法の点では
るかに精密な製品を製造した。
ホットプレス技術では、純粋な813 N4は加圧下でさえ、はとんど焼結性が
ないので、圧縮助剤添加物は必要であると思われていた。このような助剤は代表
的にはMg、Y 、Ce 、Fe 、C!a 、Or 、Zr 、Zn 、Be
、Af、及び精選された希土類の酸化物を包含していた。米国特許の第6.8
30,652号明細書、第4,304,576号明細書、第3,903,230
号明細書、第4,046,580号明細書、第4,264.343号明細書、第
4,102.698号明細書、及び第4,068.[192号明細書な参照され
たい。圧縮助剤はホットプレス中に低温液体の生成によって、Si3N4粉末の
融解物又は密度増加物を流動性にする手段として機能する。厄介なことには、こ
のようyk 6体は最終生成物中で、むしろたやすくあるタイプのガラス質又は
非晶質の相を形成し、これがセラミックの高温物理特性な抑制し、且つこの材料
で製造した切削工具の寿命を縮める。
ホントプレス技術では、切削工具の寿命を延ばすために、ガラス相に対する置換
体のような添加剤から、ある好ましい第二相微細結晶、たとえばオキシ窒化物、
の生成によって演じられろ役割についての認識はほとんどなかった。ホットプレ
スSi3N4の研究者は種々のオキ7窒fヒ物の存在を検出していたが、セラミ
ック工具の寿命及び性能に対するこれらの重要性あるいは相互関係を理解してい
なかった。第二に、高温酸化に抗して、オキ7窒fヒ物のような置換第二相微細
結晶ばかりでなく、他の微細結晶をも保護するのに、制御されたわずかの量のガ
ラス質相を保持することによって演じられる役割についてもほとんど認識がなか
った。実際、先行技術では、一般に窒化によってセラミックな作るために、粉末
系に酸素を添加するのは有害であるという格言に従っていた。
本発明は、わずかのガラス外皮を伴っているのが有利な、好ましい第二相微細結
晶を生成することになる条件下で、反応量を選定して使用しなければならない添
加剤に関するものであり、Y 203及びM2O3の使用が特に重要である。
反応結合技術では、アルミニウムの酸fヒ物をケイ素粉末と混合して、窒化の結
果として、ソアロン(sialon)生成を促進した、米国特許第4.CI 3
8,092号明細書、並びにネーチャー(ロンドン)フィジカル・サイエy ス
(Nature(London)Physical 5cience〕第236
巻(80号)25〜29ページ(1972年)に発表のケイ・エイチ・ジャック
(K、 H,Jack) 及r)−ダブルニー・ジエー・ウィルソン(W、 J
、 Wilson)による論文「5i−u−○−Nな基質とするセラミック及び
関連系(C!era、m1cs Ba5ed on the 5i−AI!−〇
−N andRelated Systems)Jを参照されたい。イツトリウ
ムの酸fヒ物を、窒化する前に、ケイ素粉末に添加して、次の焼結を促進した(
米国特許第4,285,895号明細書を参照されたい)、あるいは焼結を促進
するためにSi 、A1203及びN2の反応で生成させた窒化ケイ素に添加し
た、米国特許第4,184,884号明細書を参照されたい。しかしながら、こ
のような反応結合技法でAi203又1dY203を使用した人達は、ガラス相
に対する置換体として添加剤から誘導される、一定のオキシ窒化ケイ素の生成に
よって演じさせることのできろ役割を認めることを再び怠った。この理解不足は
米国特許第4,285.895号明細書で特に明白であり、これには、窒化物の
化学分析でSi3N491%、Y2O39%、及び遊離のY、 Si、02及び
N2の少量の相を示した(第6欄、第1行から第6行までな参照されたい)、が
オキシ窒化物、あるいはケイ酸は全くなかったと記載しである。、この先行技術
では又、高温酸fヒに対して微細結晶を保護するのに効力のある、制御量のガラ
ス質相の演じている役割を認めることを再び怠った。適切なオキシ窒化物、すな
わち第二相微細結晶の生成では、強度を増したためにではなくて、硬度及びfヒ
学的安定性を増したために工具の寿命を増しているのである。
本発明の概要
本発明は第一に、物体の微細結晶をコーティングしているアルミナ含有量の多い
制御量のケイ酸塩を含有する窒化ケイ素含有物体な製造する方法である。ケイ酸
塩は切削工具材料として使用する場合に、材料の摩耗抵抗を増大する機能がある
。
方法は、(a)窒化ケイ素、密度増加助剤、シリカ、アルミナ、あるいは7リカ
及びアルミナの他の反応生成物の混合物を作り、該アルミナ及びシリカは2より
も大きいアルミナ/7リカ比になるように比例させ、該密度増加助剤は次の熱処
理中、アルミナ/シリカの必要な比率を確実に維持するように選定して比例させ
、且つ(b)該混合物な熱処理して、実質的に完全に理論密度になっている熱融
解し、実質的に結晶した窒化ケイ素含有物体、及び第二相微細結晶を作り、該窒
fヒケイ素及び第二相微細結晶はアルミナ含有量の多いケイ酸塩薄膜でコーティ
ングされている。
密度増加助剤はY2O3であり、且つ該混合物の少なくとも2重量係の量で該混
合中に存在するのが好1しく、重量は物体のホットプレスを促進して実質的に完
全な密度にするだけでなく、該Y2O3を該シリカと実質的に完全に反応させて
該物体中に第二相微細結晶を作る。
混合物はケイ素、シリカ−、アルミナの第一混合物を作ることによって製造する
のが好1しく、密度増加は第一混合物を窒(ヒ雰囲気中で加熱して、窒化ケイ素
の第二混合物、シリカ及びアルミナの反応生成物、及び第二相微細結晶を作り、
該第二混合物に工程(b)を施す。
第一混合物は本質的にY2O32重量係から19重量係まで、A12030.4
重量係から5重量係まで、5io21重量係から3重量%1でを含有し、残部は
ケイ素であるのが好ましい。
本発明は第二には(a)ケイ素粉末及び反応性酸素担持剤の混合物から圧縮体を
作り、後者は加熱して圧縮体全体に分散された少なくとも一つの第二相微細結晶
を作るのに有効であわ、該反応性酸素担持剤は窒素中での加熱で実質的に完全に
該ケイ素と反応する量で該混合物中に存在して、圧縮体は本質的に813 N
4及び第二相微細結晶から成り、(b)通常ホットプレスに伴う加圧を行わない
で、圧縮体を窒化雰囲気中で加熱して、本質的にSi3N、及び該第二相微細結
晶から成る窒化ケイ素含有物体を作り、該物体は作ろうとしている物体よりも大
きい大きさであり、小さい密度であり、且つ(C)物体をホットプレスして、切
削工具として有効な、必要な寸法及び密度があり、且つ該物体で本質的に化学か
ら成る窒化ケイ素含有物体を生成する、工程によって、反応結合/ホットプレス
した窒化ケイ素含有物体を製造する方法である。
本発明の方法では813N 4生成物中で第二相としてのガラスの生成を著しく
少なくし、最初に、813N4の生成に使用していない、利用できるケイ素及び
有効量の酸素担持剤の完全な反応生成物として、ホットプレスする前に、生成し
た微細結晶でガラスを置換する。
Si3N、及び第二相微細結晶の配合では、(a)切削工具して使用する場合に
、得られる物体の摩耗速度を減じ、(b)物体の硬度及び高温安定性な増し、且
つ(C)必要なホットプレス温度な下げ、且つホットプレスのときに粉末の必須
条件として通常粘度を下げるのに欠かせない混合割合の制限を取り除くことによ
って、処理の経済性をかなり達成できる。
ケイ素は純度が98%又は以上であり、金属汚染物質が1.5重量%よシも少な
く且つ炭素が0.05重量%よりも少ないのが好ましい。シリカは原料のケイ素
に表面酸化物として存在し、且つ混合物を製粉した生成物(ケイ素の1重量%か
ら3重量%まで)として、ケイ素粉末上の酸化物表面コーティングとして混合物
中に導入するのが好ましい。反応性酸素担持粉末剤は、ガラス質相及び第二相微
細結晶の生成を経済的に減じようとする本発明の最も一般的な見地を考慮に入れ
れば、ケイ素、イツトリウム、セリウム、ジルコニウム、ハフニウム及び他の希
土類(すなわちGd2O3,La2031Bc203)の酸化物から成る群から
選定することができる。反応性酸素担持剤は混合物中に、ケイ素モル百分率で0
.4から2,4までの範囲で存在する。第二相微細結晶は本質的に同じホットプ
レス物体のままで留まる窒化物体の269重量%から14.4重量%までに限定
するのが好ましい。
しかしながら、酸素担持粉末剤の選定を、Y2O33係から19%まで及びAJ
!203Q、4%から5%までに制限して、追加改良をする、特にオキシ窒化ケ
イ素イツトリウム微細結晶(場合によってはY I S i 02 N )を生
成させるのが最も有利であり、前者はホットプレス中の必要温度を更に下げ、且
つ後者は切削工具として使用する場合に、オキシ窒化ケイ素をコーティングして
、高温での酸化による破滅的な破損を防止する独特の保護非晶質ケイ酸塩の生成
を促進する。
拡散係数の小さい保護非晶質ガラスの臨界的な少量の生成は、5102及びY2
O3、特に0.4%から5チまでのAj! 203と反応性の酸化物の存在で促
進される。ガラスを形成する反応性酸化物はAf203. MgO,CeO2,
Fe203cao、 Cr2O3,ZrO2,BeO及び希土類酸fヒ物から成
る群から選定することができる。ガラスは切削工具として、あるいは高温の酸f
ヒ性環境で使用する場合に、物体の摩耗寿命の増加を最適にするのに重要であり
、入ること夕っできたガラスは微細結晶上に薄いコーティング(すなわち、厚さ
が8′Aから10xまで)を作って、オキシ窒fヒケイ素イツトリウムのような
微細結晶の、好ましくない酸fヒ線速度に必要な酸素の輸送を軽減する。Y1S
i102N(Y2O3の量を8%から12%までに制限して)のような第二相微
細結晶を少なくとも80チ生成するように混合物を比例させれば、制御量のガラ
スを微細気孔の全くない、拡散係数の改良されたガラスにする。その上、窒fヒ
サイクル及びホットプレス温度の水準はY4Si102N相の生成に影響を及ぼ
す。窒fヒサイクルは窒化がスQ〕最初の組成な実質的に一定に維持するよつに
計画するべきであり、且つ圧縮混合物中に、あらかじめ反応させたオキシ窒化物
を使−用して、発熱反応をできろたけ最小限度にするべきである。窒化反応は、
ケイ素をできろたけ多く、すなわち99.5%を、しかも少なくとも60%の量
がα−型になっている、Si3N4に転化させるように計画するべきである。ホ
ットプレスの温度は、多量のα−8i3N4を、強度が一段と良い、優れた編み
物構造を生じる、長い針状粒子があるβ−813N4に転fヒできるように計画
するべきであり、これは約1650’C(3DOD″FI)が好IL、い。
場合によっては、酸素担持剤/ 5i02の比を1.1%から6.4%までに維
持する。Y2O3/5i02比を制御して、N−メリライト相(Y2O3・5i
3N4)の縮小を促進し、物体の0.5重量%よりも多くなくし、且つ該物体の
密度を少なくとも2.39 / crn”にするのが好ましい。原料のY2O3
及びAI! 203の純度はそれぞれ99.99%及び99.5%あるいはこれ
以上になるように選定するのが好ましい。混合物の少なくとも50%が約4.0
μ又はこれ以下になり、且つ混合物の90%が23μよりも細かくなるように製
粉して、混合物にとって好ましい平均粒度にする。
窒fヒ物にする加熱は、本質的に窒fヒケイ素(少なくとも60容量%がα−型
であるのが好ましい)、第二相微細結晶、すなわちオキシ窒化ケイ素イツトリウ
ム(YIS102N相が好ましいう2.9%から14.4%まで、及び残部は耐
火性ケイ酸塩、遊離ケイ素、及び未反応Y2O3から成る物体を生成するのに十
分な時間の間、最終温度(20[]0キから2600′F’まで) 10900
Cから14ろo ’cまで(25,ISO’Fが好ましい)で行うのが好捷しい
。窒化物体は2.3 g/crn3から2.78.9/crrL3までの定席が
特徴であるのが好ましい。
ホットプレスは、3600ボンド/平方インチから0.25時間から3.0時間
までの間、1670’Cに等しいか、あるいはこれよりも低い、場合によっては
1371°Cから1650°cまで(25oo″Fがら3000ff″!fで)
の最終圧縮温度で、不活性性に関する制御を施さない環境〔炭素質容器内の環境
雰囲気〕で行うのが有利である。
圧縮比は実質的に減じて1.0 : 1から1.8:1までである。窒化するの
に使用する混合物の粘度は、これらのホットプレス条件の結果として高くしても
よい。
得られろ物体は、窒化ケイ素が実質的にβ−型又はβ−プライム型であり、オキ
シ窒化ケイ素は厚さが8Aから1OAまでで、微細気孔の全くない、ケイ酸イツ
トリウム ガラスで包まれているのが特徴であるのが好ましい。物体は、硬度が
45−Nスケルで88.5から92.0まで、密度が3.2 g/ crn3か
ら3.359/c1n”まで、破壊強度が空気中1200℃での四点曲げ試験で
約85,000ポンド/平方インチであり、且つ空気中で1000°Cで450
時間後の物体による重量ピックアップを阻止する酸rヒ抵抗力がある。
詳細な説明
本発明による窒化ケイ素含有物体を製造する好ましい方法は下記の通りである。
1圧縮
この工程の前に、粉末ケイ素、5i02及び反応性酸素担持粉末剤の混合物を製
造して製粉する。本明細書では、反応性酸素担持粉末剤は、加熱窒素雰囲気中で
ケイ素と反応させた場合に、第二相微細結晶を形成するのに有効な粉末成分を意
味するものと定義する。粉末剤は5102. Y2O3,0e203. ZrO
2,HfO2,及び他の希土類から成る群から有利に選定することができる。こ
れらの粉末剤を使用して、(a)均一に分散され、且つ(1))量が制御され、
且つ制限されている場合を除いて、通常生成する有害なガラス質ケイ酸塩相を実
質的に置換する、第二相微細結晶の物理特性及び生成を改良する。
臨界量のY2O3及びAizo 3を使用すれば、(a)ホットプレス温度を大
きく下げることを可能にして、経済性をよくする、窒化の結果大量に生成するオ
キシ窒化物相としてのYISi02Nの生成、(1))高温で使用中の切削工具
の、微細結晶が高温酸比するのな防止するのに効果のある、微細結晶、すなわち
オキシ窒化物をコーティングする、臨界的に少量の保護性非晶ガラス質ケイ酸塩
の生成、を包含する追加の改良ができる。
好ましい方法のためには、ケイ素2000g(混合物の86.6重量%)、Y2
O3278,9(混合物の12重量%及びケイ素の13.9%)、及びAj!2
0332 g(混合物の1.4重量%及びケイ素の1.6%)で均一な粉末混合
物を製造する。酸素担持剤の使用に適した範囲は混合物の0.4モル係から2.
6モル係まで、及びケ通常ケイ素の6重敬係から199重量%で、及び混合物の
6.2重量%から15.6重量%までの範囲で使用する。N2O3のようなガラ
ス形成酸fヒ物はケイ素の0.4重敬係から5重量%1で、及び混合物の0.4
重量%から4.0重量%までの範囲で使用する。5102は通常ケイ素粉末上に
酸化物として存在し、製粉でケイ素の1重量%から6重量%まで増加する。51
02及びY2O3と反応させて保護性非晶質ガラスを作るのに添加する酸化物’
d Mgo、 ce○2. Au203. Fe2O3,Oa○、 C!r20
3. ZrO2+Bed、及び他の希土類酸化物から成る群から選定することが
できる。
ケイ素は純度が98%又はこれ以上に、又最初の平均粒度は8μから9.2μま
でになるように選定する。
こりつような純度で実際にある微量の主な金属汚染物質Kid、最多量としてF
e 1.Q%、Aio、5%、及びMn0909%を包含する。非金属汚染物質
では、最多量として、炭素0.05%、o20.5%以下を包含する。イツトリ
アは結晶の平均の大きさが0.0438μ(438久)で、純度が少なくとも9
9.99%のものを選定する。アルミナは平均粒度が0.3μから0.5μまで
で、純度が少なくとも99.5%のものな選定する。
Cylinder )の形状の粉砕媒体(Aj!20385%及び810211
%、MgO2%、Ca01.2%、摩滅のために混合物のu、2o3を増やj
CTio2. F′e203. Na2o、 K20]0.8%)と−緒に不活
性製粉ジャーの中に仕込んで、64回転/分で48時間製粉することによって、
粉砕及び混和をし、次に#10メツンユふるいを使用して混合物を媒体から分離
する。製粉は乾燥状態で行うのが好ましいが、多少の不利はあるが、湿った状態
で行うことができる。酸素担持剤は表面積が広く、且つ結晶粒度が小さくて、反
応性形態になっていなければならない。製粉して得られる混合物は、少なくとも
50%は平均粒度約4μであり、90%は平均粒度が23μより小さい。空気中
で製粉した後の酸素水準は増加してケイ素の1.6重量−係になり、且つケイ素
上に3.0重量%の量で酸rヒ物コーティングとして存在する。酸fヒ物コーテ
ィングを決して取り除いてはならない。
Y2O3/5i02のような酸素担持剤/5102の比率は1.1から6.4ま
で0範囲、好1しくは約4になるように制御する。
製粉した混合物の測定量を冷間圧縮グイ装置に詰め込み、環境条件で、1400
ボンド/平方インチから1500ポンド/平方インチを使用して圧縮し、大きさ
が約6インチ×0.6インチ、密度が1.4jjlα3の圧縮体を作る。
2、窒化物への加熱
ホットプレスに通常伴う圧力を使用することなく、窒化雰囲気中で圧縮体を加熱
して、513N4 、少なくとも一つの分散第二相微細結晶(すなわちオキシ窒
化ケィ素イツトリウム)、ケイ酸塩0.2%からIL16(物体の重量基準で)
、及び遊離ケイ素、並びに未反応酸素担持剤(ここではY2O3及びA1203
) 0.5重量係までから成ろ窒化ケイ素含有物体を製造する。物体は作ろうと
する物体よりも寸法は大きく、密度は小さい。
加熱を行うために、圧縮体を密閉炉に入れ、好ましくは1μよりも低い圧力1で
減圧し、且つ速い速度、スナわち500’F/時(278°/時)で1200″
F(649°C)まで加熱する。次に窒素72重量係、水素3%、及びヘリウム
25%から成るガス混合物を圧力約2.7ボンド/平方インチ・デージ圧で炉に
満たす。
このようなガス混合物中の02及びH2Oの全含有量id4ppmよりも少ない
。次に炉の温度を段階的に、500″F/時で1200”Fから1700’Fま
で、200″F/時(111°C/時)で1700−’Fから2000’Fまで
、又窒fヒ温度2000″Fから2600”Fまで(109ろ0Cから1427
°Cまで)は、ずっと遅い速度で、上げろ。その後、温度を一定に保持する。新
鮮な窒素を断続的に炉に供給して、S i 3 N 4及びオキシ窒fヒ物の生
成で消費された窒素を復元する。圧力が2.4fンド/平方インチ・ケゞ−ジ圧
よりも下がれば、窒素を追加して最高圧力2.7ポンド/平方インチ・デージ圧
まで戻す。
窒素を追加した後に温度を上げて2560′F1まで戻す。
材料な速度250″F/時(568C/時)で冷却して室温にする。
窒1ヒした物体は、窒fヒケイ素(その少なくとも60%はα−型になっている
) 、Y1Si02N相に々つているオキシ窒化ケイ素イツトリウムろ係から1
5係まで、及び残部のケイ酸イツトリウム ガラス(これは理論上ij:Y1s
io2である)、及びケイ素並びに未反応y、、o30.5係までから成るのが
好ましい。時々、多少微量のY工。S 16024N 2相が存在することがあ
る。N−メリライト相(Y2O3・3i3N4)は物体の0.5重量係よりも多
くない量で存在する。物体は密度が少なくとも2.3 & /cm”である。α
−813N4/β−3i3N4の最小比は1.5である。
この物体は中間生成物、あるいは、中の一つはホットプレスであるが、他の成形
技法用の原料ブロックとして独立した用途のある必需品である。
6ホツトプレス
窒fヒ物体をホットプレスして、必要外寸法及び密度の、窒化ケイ素含有物体を
製造する。壁体がグラファイトである圧縮固定具を使用してホットプレスを行う
。
壁体及び窒fヒ物体の両方な窒化ホウ素のスラリーでコーティングして乾燥する
。窒化物体の入っている圧縮固定具をホットプレス炉の中に入れる。加熱及び圧
縮を少しずつ行い、(1)室温で100ボンド/平方インチの機械的負荷を物体
に加え、(2)温度を上げて1800″F(982°C)にし、且つ圧力を増し
て500ボンド/平方インチにし、(3)次に温度を上げて2500’F(13
71°G)にし、且つ同時に圧力を上げて2500ボンド/平方インチにし、(
4)最後に温度を上げてホットプレス温度3000’F(1649°G)にし、
且つ圧力を増してろ700ボンド/平方インチにし、後者の条件を理論的に完全
な密度の少なくとも99%、又は好ましくは99.5%は達するまで維持するの
が好ましい。これにはホットプレス温度で、通常0.25時間から6.0時間ま
でが必要である。次に物体を任意の速度で、急冷ででも、冷却して室温にする。
得られる物体は本質的にβ−窒fこケイ素、厚さが8久から10Afでで、微細
気孔の全くないケイ酸塩相で包1れたオキ/窒1ヒケイ素(大部分がy1szo
2N) 2.9重量係から14.4重量係までから成っている。物体は、硬度が
45− Nスケールで88.5から92.0まで、密度が3.21 / cyn
3から3.35.9 /σ31で、破族強度が四点曲げ試験で1200°Cて約
85,000ボンド/平方インチ、及び空気中で1000°Gで450時間後に
物体による重量?ツクアップを阻止する酸fヒ抵抗力があるのが好ましい。Y1
oSi6024N2相及びY 4 S L 2 ON 2相の若干のオキシ窒化
物は、微細結晶第二相の10%まで存在することができろ。
実施例
切削工具の一連の試料を製造して、物理的ノ々ラメ−ター及び機械加工性能につ
いて試験して、処理及び化学のどのような変1ヒが本発明の利点達成を容易にす
るか、あるいは妨げになるかを説明する。結果を第1表7
に要約する。第2欄では、試料をケイ素粉末で製造したか、あるいは窒化ケイ素
粉末で製造したかを示す。
試料の1から3までは、粉末添加剤を813N 4粉末に加え(S102は原料
の513N4粉末上の表面酸fヒ物として、又製粉による生成物として存在する
)、且つ粉末の形で直接ホットプレスを施す通常の先行技術のホットプレスの慣
例に従って製造した。混合物の粘度は、試料の1から6までに関しては多少重要
であり、製粉及び圧縮を妨げろことなく加えることのできる添加剤の量を制限す
る。従って、酸素担持剤が9%よりも多い混合物は製造しなかった。仁れらの試
料用の成分は窒化ケイ素混合物の重量百分率を基準にした。Si3N4粉末は純
度が99%で、表面酸fヒ物(Si02.)含有量は1饅から3%までであった
。Y2O3粉末は純度が99,9%であった。
製粉はホットプレスなする前に、μ1203製粉媒体製粉用して、平均粒度が2
μから7μになるまで行った。
湿潤滑剤の製粉(メタノール〕中に、窒化ケイ素粉末と1:1の比率で添加した
。混合物は、製粉速度、原料粉末の粒度、及び達成しようとする平均粒度、好ま
しくは約2.5μ、によって決まる時間の間製粉した。
次に、混合物を乾燥して、ふるい分けした(−100メツンユ)。
試料の4から13までは、表示の割合(第3欄を参照されたい)のケイ素粉末及
び酸化物添加剤を、粉砕媒体(バッチとしてシリンダー10,000g)として
、長さ又は直径が各13/16インチのプルンダムンリンダーを入れであるポリ
プロピレン製ナルケゝン・ジャー(na:Lgene jar )に入れて製造
した。原料のケイ素は、主な微量金属汚染物質としてFe (0,6重量係)、
M(0,11重量%)、及びMn ([1,06重量%)を含み、純度は98.
5%であった。他の微量金属はすべて0.05重量%よりも少なかった。原料の
ケイ素の酸素水準は0.46重量%、炭素水準は0.03重量%、及び硫黄水準
は0.0 [] 22重量であった。原料のケイ素粉末は100%が45μより
も小さく、平均粒度は8μであった。使用したイツトリアは純度が99.99%
で、結晶の平均の大きさは438X、又表面積は6.6m2/gであった。使用
したアルミナは純度が99.5%で、最終の結晶粒度は0.3μから0.5μま
でであった。粉末混合物は64回転/分の速度で48時間製粉してから、粉末混
合物を#10メツシュふるいを通過させて、粉砕媒体から分離した。粉砕媒体の
摩滅は全く認められなかった。得られた粉末は、粒度が平均3.1μ捷で低下し
たケイ素粉末及び酸化物添加剤の均一な混合物であった。ケイ素粉末の酸素水準
は増加して1.6重量係になったが、これは3.0重量係の8102含有量に相
幽する。最初のY2O3/5102比は7,2であった(アルミナも少量のSi
○2供給源であった)。
試料の4から13まででは、粉末混合物の一部(約340g)を圧力1400ボ
ンド/平方インチで冷間圧縮して、直径6インチ、厚さ0.05インチから0.
06インチまでの円盤にした。次に圧縮体を窒化し、反応させて813N 4及
び若干の少割合のケイ酸塩ガラスを含む第二相微細結晶を作った。使用した窒化
サイクルは米国特許第4,127.684号明細書に記載のものに類似している
。
窒rヒさせた物体を炉から取り出し、砂吹き付けをして、物体上に出ている白色
コーティングを残らず取り除いた。ホットプレスする前の各試料についての第二
相物質の(ヒ学的性質の特徴な第1表の第4欄に示した。
試料の4から1乙まででは、試料8を除いて、窒化サイクルで多少の割合の第二
相微細結晶を生成した。置換されなかった制御量のケイ酸塩ガラスな第二相物質
の比として示した。
本明細書の好ましい実施態様について示した圧力及び最終温度を使用して、試料
全部をホットプレスした。
プレスは1時間から2時間までの間行って、α−8i3N4を完全にβ−813
N4に転fヒさせた。次にホントプレスした物体を室温まで冷却し、物理的パラ
メーターについて解析した。次に円盤をダイヤモンドのこぎりでひいてTNC−
434構造の切削工具にし、且つ硬度が179から222まで(荷重0.006
kli+のブリネルスケール[1)rinnel 5cale ])のねずみ鋳
鋳鉄固定子材の単純な円柱形表面の連続切断を包含する機械加工操作を施した。
1時間のうちに切断した切片数、及び切削工具の側面摩耗(インチで1llll
定して)をそれぞれ第7欄及第8欄に示す。
1750°Cという高温でホットプレスした試料10は、材料に微細気孔がある
ときの特徴の斑紋のある外観をしていた。イツトリウムの高濃度の領域は、試料
5では明白であって、著しい斑紋のある外観及び非均一性で示されるように微細
細孔性を示した。
kl 203 / S i 02比が2よりも大きいことは重要である。
他の密度増加助剤(酸rヒ物)が混合物中に存在する場合には、比率はもはや最
初のΔ1203及び5i02の比率ではない。5102の一部は密度増加助剤と
の反応に役立つようになり、残って比率の計算に入る量は非常に少ない。従って
、試料ろ、7.9,10.11及び13ではAl103 / S 102比は2
よりも太きいが、試料1,2゜4.5.6.8及び12では大きくない。機械加
工の結果では、正しい比率の試料に有利な偏りを示すことを指摘されるであろう
。理想的には、密度増加助剤の必要、すなわち存在なしに比率を達成するべきで
あり、当業界り〕状態では、これを考慮に入れていないので、最終生成物で適正
なケイ酸塩にするためには、比例に非常な配慮が必要である。このようなケイ酸
塩では、切削工具として使用する場合に、材料と切断しようとする金属との間に
好ましい界面を生成する。ケイ酸塩に又、ホットプレス中に窒化ケイ素の溶解?
促進して、切削工具材料として一段と有効な微細粒子構造ができる。
第1表では、次に窒でヒされて実質的に完全に成分と反応する、ケイ素混合物中
の選定された酸素担持剤(flJえば3%から19%までのY2O3)な適正に
比例させれば、ガラスを置換する微細結晶な生成させろことを示している。第1
表では又随伴する微小気孔がほとんど、あるいは全くない、拡散系数の低いガラ
スの生成を促進する、0,4%から8■での制御量のA、、I! 203を添加
することによって、1000°Cでの酸fヒ抵抗及び側面摩耗の改良が更に行な
われることをも示している。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (l](a) 粉末にしたケイ素及び反応性酸素担持剤0混合物から圧縮体を作 り、後者は加熱すれば圧縮体全体に分散される少なくとも一つの第二相微細結晶 を作るのに有効であり、該反応性酸素相持剤は窒素中で加熱すれば該ケイ素と実 質的に完全に反応する量で存在し、これによって該圧縮体は本質的にSi3N4 及び第二相微細結晶から成り、 (b) ホットプレスに通常伴う圧力を使用することなく、窒rヒ雰囲気中で該 圧縮体を加熱して、本質的にSi3N4及び第二相微細結晶から成る窒化ケイ素 含有物体な生成し、該物体は作ろうとしている物体よりも、大きさは大きく、密 度は低く、且つ(C) 該物体をホットプレスして、切削工具として有効な寸法 及び密度であり、且つ本質的に該物体の中がfヒ学から成る、窒化ケイ素含有物 体を製造する、ことから成る、反応結合/ホットプレスした窒化ケイ素含有物体 な製造する方法。 (2)該窒fヒ物体が0.5重量%よりも多くない遊離ケイ素、及び未反応酸素 担持剤を含有する、第(1)項に記載の方法。 (3)該窒化物体中の該第二相微細結晶が保護性非晶質ケイ酸塩0.2重量%か ら1,0重量%までな含有する、第(2)項に記載の方法。 (4)該反応性酸素担持剤が、ケイ素のモル百分率で、0.4から2.4までの 範囲で混合物中に存在している、第11)項に記載の方法。 (5)該反応性酸素担持粉末剤は実質的に該ケイ素の3重量%から19重量%ま でから成る量のY2O3から成り、且つ該第二微細結晶はオキシ窒化ケイ素イツ トリウムから成る、第(1)項に記載の方法。 (6)該反応性酸素担持粉末剤をケイ素、イソ) IJウム、セリウム、ジルコ ニウム、ハフニウム及び他の希土類の酸比物から成る群から選定する、第(11 項に記載の方法。 (7)該ケイ素は純度が少なくとも98%であり、含有する金属汚染物質は1. 5重量%よりも少なく、且つ炭素(40,05重量%よりも少ない、第(6)項 に記載の方法。 (8)該ケイ素酸化物がケイ素粉末上の表面酸化物として、混合物2つ1重量% から6重量%までの範囲で存在する、第(6)項に記載の方法。 (9)該物体が2.9重量%から14.4重量%までの第二相微細結晶を含有す る、第(1)項に記載の方法。 QO) 該酸素担持剤がオキシ窒化物上の採機性非晶質ガラス コーティングを 形成することのできる酸化物を包含し、該酸化物1’;jAj!203. Mg O,0e02. Fe2O3,cao。 0r203jZr02Hpeoj及び他の希土類から成る群から選定する、第( 1)項に記載の方法。 αD 該酸素担持剤が0.4%から5%までのM2C乙へ・含有する、第(1) 項に記載の方法。 (12+ 該保護性非晶質がラスは厚さが8Xから10Xまでである、第QO) 項に記載の方法。 (13)該圧縮体の化学を比例させて多量のY I S 102 N第二相微細 結晶を作り、これによって該保護性非晶質がラスに随伴する微小気孔を少なくし 、且つ該ガラスの拡散係数を改良する、第101項に記載の方法。 ■ 該酸素担持剤は3チから19%までのY2O3,0,4チから5チまでのA 1203、及び1%から3%までの8102から成り、該Y2O3及びM2O3 は純度がそれぞれ少なくとも99.9%及び99.5%である、第け)項に記載 の方法。 C5) 酸素担持剤対5i02の比率が1,1から6.4までになる量の酸素担 持剤が存在する、第6項に記載の方法。 06) 工程(b)の加熱を行って、該雰囲気中の窒素含有量を実質的に一定に 維持し、且つ該加熱の発熱反応な制御する、第03)項に記載の方法。 αη 工程(+))の窒化させた物体中にN−メリライト相(M2O3・5i3 N4)が、物体の0.5重量%よりも多くない量で存在する、第04項に記載の 方法。 C81(a) 粒粉のケイ素、5102+ Y2O3及び該5102及びY2O 3との反応性があって、加熱すれば制御量の保護性非晶質ケイ酸塩ガラスを形成 する酸化物の混合物から圧縮体を作り、該Y2O3は該混合物中に該ケイ素の3 重量%から199重量%での量で存在し、該酸化物は該ケイ素の0.4重量%か ら5重量%までの量で存在し、該5i02は該ケイ素の1重量%から6重量%ま での量で存在し、且つY 203/S i O2比が1=1から1:6.4まで になっており、(b) ホットプレスに通常伴う圧力を使用することなく、該圧 縮体を窒化雰囲気中で加熱して、S i 3 N 4、生成物体の6重量%から 15重量%までの量で存在し、且つ全体に分散している少なくとも一つのオキシ 窒化ケイ素イツトリウム、0.5%までの遊離ケイ素及び残留Y2O3、該オキ シ窒化ケイ素イツトリウムをコーティングしている1%又はこれより少ないケイ 酸塩ガラスから成る窒化ケイ素含有物体を製造し、該Si3N4の少なくとも6 0%はα−型になっており、該物体は製造しようとする工具よりも大きさは大き く、密度は小さく、 (C)該物体をホットプレスして、本質的に該加熱工程中に、あらかじめ開発し た[ヒ学から成る、必要な寸法及び密度の窒化ケイ素含有切削工具を製造する、 工程から成る、1000 ’Cでの酸化抵抗力の増大した、反応結合/ホットプ レスした窒化ケイ素含有切削工具を製造する方法。 鱈 工程(a)の該酸化物が成203である第α母項に記載の方法。 (20)工程(a)の該酸fヒ物をJV203. MgO,CeO2,Bed。 Fe2o3. cao、 0r203.ZrO2、及び他の希土類酸化物から成 る群から選定する、第08)項に記載の方法。 +2111000°G又はこれ以上での機械加工で使用する場合に、該工具中の オキシ窒化ケイ素イツ) IJウムの破滅的な酸fヒ線速度を阻止する、酸素に ついての拡散係数が低いケイ酸塩ガラスを工程(1))で作るように該酸化物を 選定する、第08)項に記載の方法。 (2渇 該混合物を比1tilさせて、少なくとも800重量%YISi02N から成ろオキシ窒化ケイ素イツトリウムを作る、第Oa項に記載の方法。 C13) 工程(b)で該オキシ窒化ケイ素上に形成させた該ケイ酸塩は厚さが Xから10Xまでである、第18)項に記載の方法。 C2M 該ホットプレスを、不活性性に関して制御を行っていない環境で、12 00°Gから1650°Cまでの最終温度で行う、第(18)項に記載の方法。 t25+ 平均粒度は、該混合物の少なくとも50%については約3.0μであ り、且つ混合物の少なくとも90チについては約23μである、第健項に記載の 方法。 (26) 該Y I S 102 N微細結晶は該物体の重量の6%から15% 寸でから成り、該YISi02N相の少なくとも80%は、ホットプレス中に、 該ケイ酸塩コーティングを周囲に維持したままで、別のオキシ窒化ケイ素に転化 する、第(221項に記載の方法。 (27)該ホットプレスの最終温度は2500″′Fから3000’Fまで(1 371°Cから1650’Cまで〕の範囲にあり、且つ最終圧力は3600ポン ド/平方インチから3800ボンド/平方インチ1での範囲にある、第t26) 項に記載の方法。 (28i 該最終の圧力及び温度な0.25時間から3.0時間捷での間維持す る、第過項に記載の方法。 (29)第08)項の方法を実施して得られる物体、該物体は圧力が1重量%か ら7.5重量%までの第二相微細結晶、硬度が45−Nスケールで88,5から 92.0まで、又密度が5.29 / cx3から乙、65 g / crt& iでか特徴である。 (叫 該物体は更に空気中、1200°Cでの四点曲げ試験で約90.OD O ボンド/平方インチの破壊強度、及び空気中、1ooo℃で45[]時間後の工 具による重量ピックアップを阻止する酸fヒ抵抗力が特徴である、第(29)項 に記載の物体。 Oυ 物体は目で見て均一である、第(30)項に記載の物体。 (3つ 該オキシ窒化微細結晶上の該ケイ酸塩コーティングには、それに随伴す る微小気孔が全くない、第(3υ項に記載の物体。 (33) (a) 粉末のケイ素、5102、及び他の反応性酸素担持剤の混合 物から圧縮体を作り、最後の成分は加一つの第二相微細結晶を形成するのに有効 であり、該ε3]02及び反応性酸素担持粉末剤は窒素中で加熱−1れば該ケイ 素と実質的に完全に反応ずろ量で該混合物中に存在し、これによって該圧縮eh o、5重量係までの遊離ケイ素及び未反応酸素担持剤を含めて、Si3N4 、 第二相微細結晶、0.2重量係から1重量係までのケイ酸塩から成り、且つ (b) 通常ホットプレスに伴う圧力を使用することなく、窒化雰囲気中で圧縮 体を加熱して、513N4、分散している少なくとも一つの第二相微細結晶、0 ゜2重量係から1重量係までの物体ケイ酸塩、及び0.5重量%1での遊離ケイ 素及び未反応酸素担持剤からなろ窒化ケイ素含有物体を生成する、 工程から成る、ホットプレスでの物体お出発材料として有効な、窒化ケイ素含有 物体を製造する方法。 C34)該反応性酸素担持粉末剤は、ケイ素のろ重量%から16重量%までの量 のY2O3、及びケイ素の0.4重量係から5.0重量係までの量のAj!20 3から成り、該混合物中のY2O3/S 102の比は1:1から1 : 6. 4までである、第(33)項に記載の方法。 C35)加熱を1090°Gから14300C4f(2000下から2600’ Fまで)の最終温度で行う、第(34)項に記載の方法。 (36)該Si3N4は少なくとも60容量%はα−型になっており、且つ該オ キシケイ素イツト1ノウムは実質的にYISiC2Nから成る、第(34)項を 実施して得られろ物体。 137) 少なくとも3.25 g/ crn”の密度を特徴とする、第(3G )項に記載の物体。 (138)(a)窒化ケイ素、譲度増加剤、シリカ、アルミナ、又はノリ力及び アルミナの他の反応生成物の混合物を作り、該アルミナ及びシリカは比U]させ て2よりも大きいアルミナ/シリカ比にし、該濃度増加剤は次の熱処理中に必要 なアルミナ/シリカ比を確実に維持するように選定して比例させ、且つ(b) 該混合物を熱処理して、完全な理論密度になっている、熱融解させ、実質的に結 晶させた窒化ケイ素含有物体、及び第二相微細結晶を作り、該窒fヒケイ素及び 第二相微細結晶はアルミナ含有量の高いケイ酸塩薄膜でコーティングされている 、工程から成る、金属の機械加工のための切削工具材料として有用な窒化ケイ素 含有物を製造する方法。 (39)該混合物を工程(b)でホットプレスし、且つ該密度増加助剤は混合物 の少なくとも2重量係の量で該混合物中に存在するY2O3であり、重量は物体 のホットプレスを容易にして実質的に完全な密度にするばかりでなく、該Y2O 3と該シリカとの実質的に完全な反応を行わせて、該物体中に第二相微細結晶を 形成する、第■項に記載の方法。 (40該混合物はケイ素、シリカ、アルミナの第一混合物を作ることによって製 造し、窒化雰囲気中で第一混合物を該密度増加加熱して、窒fヒケイ素、ソリ力 並びにアルミナの反応生成物及び第二相微細結晶の第二混合物を作り、該第二混 合物に工程(b)を施す、第60項に記載の方法。 (4υ 該第−混合物は本質的に、重量で、2%から19%までのY2O3,0 ,4%から5%までのM2O3,1チから6係までの8102を含有し、残部は ケイ素である、第(40)項に記載の方法。 (4り 該物体には一段と均−且つ微細な粒状の微細結晶があり、且つ各微細結 晶はアルミナ含有量の高いケイ酸塩でコーティングされている、第(41)項の 方法を実施して得られろ生成物。
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Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU557621B2 (en) * | 1983-07-19 | 1986-12-24 | Ford Motor Co. | Method of making densified si3n4/oxynitride composite with premixed silicon and oxygen carrying agents |
EP0148832B1 (en) * | 1983-07-19 | 1988-04-27 | Ford Motor Company | Method of making a silicon nitride body from the y 2?o 3?/sio 2?/si 3?n 4?/al 2?o 3? system |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2010915A (en) * | 1977-12-23 | 1979-07-04 | Fiat Spa | Process for sintering reaction bonded silicon nitride |
JPS5622678A (en) * | 1979-07-28 | 1981-03-03 | Ngk Spark Plug Co | Manufacture of high tenacity silicon nitride sintered body |
JPS5663876A (en) * | 1979-10-23 | 1981-05-30 | Kobe Steel Ltd | Manufacture of silicon nitride sintered body |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3206318A (en) * | 1961-04-25 | 1965-09-14 | Showa Denko Kk | Refractory material |
US3455682A (en) * | 1967-07-31 | 1969-07-15 | Du Pont | Isostatic hot pressing of refractory bodies |
GB1340696A (en) * | 1970-07-10 | 1973-12-12 | Lucas Industries Ltd | Method of manufacturing silicon nitride products |
US3991166A (en) * | 1972-01-11 | 1976-11-09 | Joseph Lucas (Industries) Limited | Ceramic materials |
GB1393579A (en) * | 1972-11-14 | 1975-05-07 | Nat Res Dev | Method of producing high density silicon nitride |
US4143107A (en) * | 1974-06-28 | 1979-03-06 | Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. | Silicon nitride-based sintered material and method for manufacturing the same |
FR2365517A1 (fr) * | 1976-09-27 | 1978-04-21 | Ceraver | Procede de fabrication de nitrures de silicium modifies |
JPS5377209A (en) * | 1976-12-20 | 1978-07-08 | Sumitomo Chemical Co | Method of manufacturing *saiaron* *solid solution of silicon nitride and alumina* fine powder and its moldings |
US4122140A (en) * | 1977-01-03 | 1978-10-24 | General Electric Company | Hot pressing of silicon nitride using beryllium additive |
US4119690A (en) * | 1977-01-03 | 1978-10-10 | General Electric Company | Sintering of silicon nitride using Mg and Be additives |
US4314961A (en) * | 1978-01-24 | 1982-02-09 | The United States Of America As Represented By The Department Of Energy | Method for hot pressing irregularly shaped refractory articles |
WO1980000080A1 (en) * | 1978-06-15 | 1980-01-24 | Gte Laboratories Inc | High strength silicon nitride |
SE413400B (sv) * | 1978-08-29 | 1980-05-27 | Asea Ab | Sett att framstella ett foremal av kiselnitrid genom isostatisk pressning av en av kiselnitridpulver forformad kropp med ett gasformigt tryckmedium i ett tryckkerl vid en for sintring av kiselnitriden erforderlig ... |
DE2910943A1 (de) * | 1979-03-20 | 1980-09-25 | Motoren Turbinen Union | Verfahren zur herstellung von keramikformteilen aus siliziumnitrid |
US4285895A (en) * | 1979-03-23 | 1981-08-25 | Ford Motor Company | Method of densifying a reaction bonded silicon nitride article |
JPS5834428B2 (ja) * | 1979-11-22 | 1983-07-26 | 株式会社東芝 | 窒化珪素質セラミツクスの製造方法 |
US4264550A (en) * | 1979-12-20 | 1981-04-28 | Ford Motor Company | Method of making silicon nitride base cutting tools -II |
SE438849B (sv) * | 1981-05-25 | 1985-05-13 | Svenska Silikatforskning | Forfarande vid framstellning av formkroppar av kiselnitridbaserade material |
-
1982
- 1982-09-30 BR BR8208097A patent/BR8208097A/pt unknown
- 1982-09-30 EP EP19820903510 patent/EP0126063B1/en not_active Expired
- 1982-09-30 WO PCT/US1982/001372 patent/WO1984001371A1/en active IP Right Grant
- 1982-09-30 DE DE8282903510T patent/DE3278499D1/de not_active Expired
- 1982-09-30 JP JP50351482A patent/JPS59501628A/ja active Pending
- 1982-09-30 AU AU91254/82A patent/AU565753B2/en not_active Ceased
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2010915A (en) * | 1977-12-23 | 1979-07-04 | Fiat Spa | Process for sintering reaction bonded silicon nitride |
JPS5622678A (en) * | 1979-07-28 | 1981-03-03 | Ngk Spark Plug Co | Manufacture of high tenacity silicon nitride sintered body |
JPS5663876A (en) * | 1979-10-23 | 1981-05-30 | Kobe Steel Ltd | Manufacture of silicon nitride sintered body |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU9125482A (en) | 1984-04-24 |
EP0126063B1 (en) | 1988-05-18 |
BR8208097A (pt) | 1984-08-14 |
DE3278499D1 (en) | 1988-06-23 |
EP0126063A4 (en) | 1985-04-03 |
EP0126063A1 (en) | 1984-11-28 |
WO1984001371A1 (en) | 1984-04-12 |
AU565753B2 (en) | 1987-09-24 |
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