JPS59169129A - 高融点金属あるいは高融点金属シリサイドの成膜方法 - Google Patents
高融点金属あるいは高融点金属シリサイドの成膜方法Info
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- JPS59169129A JPS59169129A JP58044883A JP4488383A JPS59169129A JP S59169129 A JPS59169129 A JP S59169129A JP 58044883 A JP58044883 A JP 58044883A JP 4488383 A JP4488383 A JP 4488383A JP S59169129 A JPS59169129 A JP S59169129A
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-
- H10P14/42—
Landscapes
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58044883A JPS59169129A (ja) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | 高融点金属あるいは高融点金属シリサイドの成膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58044883A JPS59169129A (ja) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | 高融点金属あるいは高融点金属シリサイドの成膜方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59169129A true JPS59169129A (ja) | 1984-09-25 |
| JPH0414493B2 JPH0414493B2 (en:Method) | 1992-03-13 |
Family
ID=12703885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58044883A Granted JPS59169129A (ja) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | 高融点金属あるいは高融点金属シリサイドの成膜方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59169129A (en:Method) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61245525A (ja) * | 1985-04-23 | 1986-10-31 | Fujitsu Ltd | 金属薄膜の製造方法 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7714445B2 (ja) | 2021-11-24 | 2025-07-29 | 信越化学工業株式会社 | レジスト下層膜材料、パターン形成方法、及びレジスト下層膜形成方法 |
| JP2023129266A (ja) | 2022-03-03 | 2023-09-14 | 信越化学工業株式会社 | 金属酸化膜形成用組成物、パターン形成方法、及び金属酸化膜形成方法 |
| JP2024008372A (ja) | 2022-07-08 | 2024-01-19 | 信越化学工業株式会社 | 金属酸化膜形成用組成物、パターン形成方法、及び金属酸化膜形成方法 |
| JP2024068637A (ja) | 2022-11-08 | 2024-05-20 | 信越化学工業株式会社 | 金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、及びパターン形成方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56147434A (en) * | 1980-04-18 | 1981-11-16 | Sanyo Electric Co Ltd | Manufacture of semiconductor device |
-
1983
- 1983-03-16 JP JP58044883A patent/JPS59169129A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56147434A (en) * | 1980-04-18 | 1981-11-16 | Sanyo Electric Co Ltd | Manufacture of semiconductor device |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61245525A (ja) * | 1985-04-23 | 1986-10-31 | Fujitsu Ltd | 金属薄膜の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0414493B2 (en:Method) | 1992-03-13 |
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