JPS59144566A - 真空鋳造装置 - Google Patents
真空鋳造装置Info
- Publication number
- JPS59144566A JPS59144566A JP1821883A JP1821883A JPS59144566A JP S59144566 A JPS59144566 A JP S59144566A JP 1821883 A JP1821883 A JP 1821883A JP 1821883 A JP1821883 A JP 1821883A JP S59144566 A JPS59144566 A JP S59144566A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cavity
- vacuum
- mold
- injection sleeve
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D18/00—Pressure casting; Vacuum casting
- B22D18/06—Vacuum casting, i.e. making use of vacuum to fill the mould
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はダイカストや射出等の成形における真空鋳造法
および装置に関するものである。
および装置に関するものである。
従来より、ダイカストは精密な製品を多量に製に巣のな
い健全性を重要視される製品には適さない場合があった
。
い健全性を重要視される製品には適さない場合があった
。
その理由は高速、高圧で溶融金属を金型のキャビティ内
に充填するため、キャビティ内のガスが充分に抜けきら
ずに、溶融金属と混合して製品中に巣として残存するこ
とがあるためである。
に充填するため、キャビティ内のガスが充分に抜けきら
ずに、溶融金属と混合して製品中に巣として残存するこ
とがあるためである。
このような不都合を解消するものとして2本発明者等は
鋳込製品や金型に制約されずに大量のガスを確実容易に
抜き、ガスの巻き込みをなくして健全なダイカスト製品
を得ることができるようにした金型用ガス抜き装置を開
発した。
鋳込製品や金型に制約されずに大量のガスを確実容易に
抜き、ガスの巻き込みをなくして健全なダイカスト製品
を得ることができるようにした金型用ガス抜き装置を開
発した。
この装置は、金型のキャビティから金型外に通じるカス
排出路を弁の作用で開いておいだ状態で射出を行い、キ
ャビティ内の質量の小さいガスをガス排出路を通して排
出し終わった時点で、キャビテイ外から進んできた質量
の大きな被射出溶融物の慣性力を、前記弁に直接作用さ
せることにより弁を確実に、かつ、素早く移動させて締
め、ガス排出路を直接しゃ断し、このガス排出路からの
被射出溶融物の流出を防ぎうるようにして、射出時に金
型内のガス抜きを確実に、かつ容易に行いうるようにし
たものである。
排出路を弁の作用で開いておいだ状態で射出を行い、キ
ャビティ内の質量の小さいガスをガス排出路を通して排
出し終わった時点で、キャビテイ外から進んできた質量
の大きな被射出溶融物の慣性力を、前記弁に直接作用さ
せることにより弁を確実に、かつ、素早く移動させて締
め、ガス排出路を直接しゃ断し、このガス排出路からの
被射出溶融物の流出を防ぎうるようにして、射出時に金
型内のガス抜きを確実に、かつ容易に行いうるようにし
たものである。
寸だ5本発明者等は、このガス排出路を真空発生装置と
連結することによって、金型のキャビティ内のガスを積
極的に排出する減圧(捷たけ真空)ダイカスト法及びそ
の装置も開発している。この減圧ダイカスト法は、金型
外からキャビティ内へすきまを通って流入するガス量以
上にキャビティ内のガスを外部から吸引することによっ
て減圧する。いわば、流入する量と排気する量とのバラ
ンスの程度によって減圧する方法である。したがって、
キャビティ内を真空発生装置により吸引すると、キャビ
ティ内が負圧になるが、このとき、固定金型と可動金型
からなる金型合せ面、中子がある場合はその摺動面、あ
るいは、射出スリーブとプランジャチップのすきまなど
には、外から内へのガスの流れが発生している。この流
れは、キャビテイ外に存在する水分、あるいは、離型剤
、潤滑剤等をキャビティ内へ吸込んだり、射出スリーブ
内へ注湯した溶融物をキャビティ内へ吸込み。
連結することによって、金型のキャビティ内のガスを積
極的に排出する減圧(捷たけ真空)ダイカスト法及びそ
の装置も開発している。この減圧ダイカスト法は、金型
外からキャビティ内へすきまを通って流入するガス量以
上にキャビティ内のガスを外部から吸引することによっ
て減圧する。いわば、流入する量と排気する量とのバラ
ンスの程度によって減圧する方法である。したがって、
キャビティ内を真空発生装置により吸引すると、キャビ
ティ内が負圧になるが、このとき、固定金型と可動金型
からなる金型合せ面、中子がある場合はその摺動面、あ
るいは、射出スリーブとプランジャチップのすきまなど
には、外から内へのガスの流れが発生している。この流
れは、キャビテイ外に存在する水分、あるいは、離型剤
、潤滑剤等をキャビティ内へ吸込んだり、射出スリーブ
内へ注湯した溶融物をキャビティ内へ吸込み。
製品に対して悪影響をおよぼすことがある。
すなわち、従来より、ダイカスト等の成形法において真
空鋳造を行うとき1通常の場合、低速射出領域で真空吸
引を開始し、キャビティ内が所定の真空値に達した時点
より高速射出を行い、キへ・ビティ内へ溶融物を充填す
るが、低速射出領域で真空吸引を開始する時、射出スリ
ーブ内の余剰な潤滑剤、射出スリーブ内の余剰水分、金
型合わせ面、中子摺動面に残存する水分等をキャビティ
内へ吸込むことは、潤滑剤は不純物として製品内へ混入
し水分はせっかくキャビティ内をある真空値にしておき
ながら、水分が吸込捷れ残在することによって充填され
てきた溶融物と接触してガス化し、製品内に残留し、巣
を生じ、結果的には。
空鋳造を行うとき1通常の場合、低速射出領域で真空吸
引を開始し、キャビティ内が所定の真空値に達した時点
より高速射出を行い、キへ・ビティ内へ溶融物を充填す
るが、低速射出領域で真空吸引を開始する時、射出スリ
ーブ内の余剰な潤滑剤、射出スリーブ内の余剰水分、金
型合わせ面、中子摺動面に残存する水分等をキャビティ
内へ吸込むことは、潤滑剤は不純物として製品内へ混入
し水分はせっかくキャビティ内をある真空値にしておき
ながら、水分が吸込捷れ残在することによって充填され
てきた溶融物と接触してガス化し、製品内に残留し、巣
を生じ、結果的には。
真空の効果を十分発揮することができない。また。
低速射出領域で真空吸引することにより、射出スリーブ
内の溶融物がキへ・ビテイ内へ吸込まれることは、真空
吸引途上にあり、キャビティ内が十分な真空値に達しな
いうちに溶融物が入りこむことであり、その時の溶融物
はガスを巻込み、また。
内の溶融物がキへ・ビテイ内へ吸込まれることは、真空
吸引途上にあり、キャビティ内が十分な真空値に達しな
いうちに溶融物が入りこむことであり、その時の溶融物
はガスを巻込み、また。
後に高速射出領域で充填されてくる溶融物との間に十分
な融和が行われに<<、製品の外観に悪影響を及ぼす。
な融和が行われに<<、製品の外観に悪影響を及ぼす。
したがって、従来は2作業者は、離型剤の塗布。
外部などによる水残りに対して、キャビティ内だけでな
く、金型合わせ面、中子摺動面などにも十分注意して、
水残り、離型剤残り、あるいは、プランジャチップ潤滑
の量などに十分注意する必要があった。
く、金型合わせ面、中子摺動面などにも十分注意して、
水残り、離型剤残り、あるいは、プランジャチップ潤滑
の量などに十分注意する必要があった。
このような不都合をFl’にするものとして2本発明者
等は、金型外と金型キャビティ内、射出スリーブとプラ
ンジャチップのすきまなどに発生する流れをなくして鋳
造する真空鋳造法およびその装置を発明した。
等は、金型外と金型キャビティ内、射出スリーブとプラ
ンジャチップのすきまなどに発生する流れをなくして鋳
造する真空鋳造法およびその装置を発明した。
以下図面に示す実施例によって本発明の詳細な説明する
。
。
第1図は、真空吸引時に金型合せ面、中子摺動面などの
すき捷に発生する金型の外から内へのガスの流れを防ぐ
場合の1実施例を示す図である。
すき捷に発生する金型の外から内へのガスの流れを防ぐ
場合の1実施例を示す図である。
1は可動側金型(固定側金型でもよい)、2は金型のキ
ャビティ、ろは本発明者等が発明した金型ガス抜き装置
である。
ャビティ、ろは本発明者等が発明した金型ガス抜き装置
である。
金型ガス抜き装置乙は2例えば、金型1の分前面部に7
キヤビテイ2から導かれたガス抜き溝4゜このガス抜き
溝4の端部で軸線方向に摺動する弁5、この弁5を摺動
自在に支持してそれ自体が軸線方向に摺動しうるスプー
ル6、および、前記ガス抜き溝4の途中から弁5部の側
面に迂回したガス排出路7を設け、かつ、弁5を閉じる
方向に力が作用する弾性体8と、弁5をスプール乙に対
して開き位置で係止させ、弁の閉動作にともなって係止
がはずれる係止機構9とを、スプール6と弁5との間に
備えた装置とした。そして、金型1のキャビティ2から
金型1外に通じるガス排出路7を弁5の作用で開いてお
いた状態で射出を行い。
キヤビテイ2から導かれたガス抜き溝4゜このガス抜き
溝4の端部で軸線方向に摺動する弁5、この弁5を摺動
自在に支持してそれ自体が軸線方向に摺動しうるスプー
ル6、および、前記ガス抜き溝4の途中から弁5部の側
面に迂回したガス排出路7を設け、かつ、弁5を閉じる
方向に力が作用する弾性体8と、弁5をスプール乙に対
して開き位置で係止させ、弁の閉動作にともなって係止
がはずれる係止機構9とを、スプール6と弁5との間に
備えた装置とした。そして、金型1のキャビティ2から
金型1外に通じるガス排出路7を弁5の作用で開いてお
いた状態で射出を行い。
キャビティ2内の質量の小さいガスをガス排出路7を通
して排出し終わった時点で、キャビティ2内から進んで
きた質量の大きな被射出溶融物の慣性力を、前記弁5に
直接作用させることにより弁5を確実に、かつ、素早く
移動させて締め、ガス排出路7を直接しゃ断し、このガ
ス排出路7からの被射出溶融物の流出を防ぎうるように
して、射出時に金型1内のガス抜きを確実に、か、つ容
易に行いうるようにしたものである。10はゝスプール
6移動用のシリンダ、11はブラダ)トで−ある。
して排出し終わった時点で、キャビティ2内から進んで
きた質量の大きな被射出溶融物の慣性力を、前記弁5に
直接作用させることにより弁5を確実に、かつ、素早く
移動させて締め、ガス排出路7を直接しゃ断し、このガ
ス排出路7からの被射出溶融物の流出を防ぎうるように
して、射出時に金型1内のガス抜きを確実に、か、つ容
易に行いうるようにしたものである。10はゝスプール
6移動用のシリンダ、11はブラダ)トで−ある。
金型ガス抜き装置乙のガス排出口12は配管1己を介し
て電磁切替弁14へ連結されている。
て電磁切替弁14へ連結されている。
この電磁切替弁14は配管13aを介して真空ポンプな
どの真空発生装置15へ連結されている。
どの真空発生装置15へ連結されている。
一方、金型1の型合わせ面には、キャビティ2の外周面
から例えば数10mmのように所望の間隔をもって、所
望の幅と深さをもった溝16を、キャビティ2のほぼ全
周″!または一部必要と思われる個所に設けておく。溝
16の一方または他方の端は、配管17を介して電磁切
替弁18へ連結され。
から例えば数10mmのように所望の間隔をもって、所
望の幅と深さをもった溝16を、キャビティ2のほぼ全
周″!または一部必要と思われる個所に設けておく。溝
16の一方または他方の端は、配管17を介して電磁切
替弁18へ連結され。
この電磁切替弁18は配管17aを介して前記真空発生
装!#15へ連結されている。
装!#15へ連結されている。
19は中子装置であり、金型1に中子20が用いられる
場合は、中子の摺動面20五にも、中子入れの状態で前
記溝16に通じる溝21を設けた。
場合は、中子の摺動面20五にも、中子入れの状態で前
記溝16に通じる溝21を設けた。
このような装置において、溶湯をスリーブ内へ/−1゛
湯し、プランジャチップが射出スリーブの注湯1」を塞
ぐ任意の位置まで前進してきた時、電磁切替弁14.1
8を開き、キャビティ2内およびその夕1周部に設けて
いる溝16部と真空発生装置15を連結し、真空に吸引
すると1キヤビテイ2とその外周部に設けられている溝
16部は同程度の真空値となり、この溝16部とキャビ
ティ2のあいだにはガスの流れはなくなる。又、かりに
若干の汗力差が牛しても、溝16部を設けていない場合
の圧力差に比較して、その差は格段に小さく、ガスの流
れを極端に少なくすることができる。
湯し、プランジャチップが射出スリーブの注湯1」を塞
ぐ任意の位置まで前進してきた時、電磁切替弁14.1
8を開き、キャビティ2内およびその夕1周部に設けて
いる溝16部と真空発生装置15を連結し、真空に吸引
すると1キヤビテイ2とその外周部に設けられている溝
16部は同程度の真空値となり、この溝16部とキャビ
ティ2のあいだにはガスの流れはなくなる。又、かりに
若干の汗力差が牛しても、溝16部を設けていない場合
の圧力差に比較して、その差は格段に小さく、ガスの流
れを極端に少なくすることができる。
したがって、前記記載のように金型合わせ111i 。
中子摺動面等に残っている水分などはキャビティ2内へ
吸引されることがなくなる。なお、前記溝16部は型締
完了時点から真空に吸引しておいてもよい。
吸引されることがなくなる。なお、前記溝16部は型締
完了時点から真空に吸引しておいてもよい。
第2図は真空吸引時に発生するプランジャチップと射出
スリーブm]のカスの流れを防ぐ場合で。
スリーブm]のカスの流れを防ぐ場合で。
射出スリーブ内の溶湯のない部分を真空発生装置に連結
した場合の1実施例である。
した場合の1実施例である。
第2図において、1は可動側金型、1aは固定側金型、
ろは前記したような金型ガス抜き装置で。
ろは前記したような金型ガス抜き装置で。
この装置ろは、配管1ろを介して電磁切替弁14に連結
され、この電磁切替弁14は配管134を介して真空発
生装置15へ連結されている。
され、この電磁切替弁14は配管134を介して真空発
生装置15へ連結されている。
一方、22は射出スリーブ、22aは注湯口。
2ろはプランジャチップ、2乙aは溶湯で、プランジャ
チップ230部分は2例えば、第ろ図に示す構造をして
いる。プランジャチップ23はプランジャー24を介し
て射出シリンダ25に連結されている。26は射出シリ
ンダ25と連動して動くストライカである。27は真空
吸引動作スクート用のりミツトスイッチ、28は高速ス
クート用のりミツトスイッチで、これらt:[ストライ
カ26の動きによって働くように任意の位置にセットさ
れtいる。29は真空吸引動作停市川のりミツトスイッ
チであり、リミットスイッチ27.29の作動により電
磁切替弁14等を作動させるようになっている。
チップ230部分は2例えば、第ろ図に示す構造をして
いる。プランジャチップ23はプランジャー24を介し
て射出シリンダ25に連結されている。26は射出シリ
ンダ25と連動して動くストライカである。27は真空
吸引動作スクート用のりミツトスイッチ、28は高速ス
クート用のりミツトスイッチで、これらt:[ストライ
カ26の動きによって働くように任意の位置にセットさ
れtいる。29は真空吸引動作停市川のりミツトスイッ
チであり、リミットスイッチ27.29の作動により電
磁切替弁14等を作動させるようになっている。
プランジャチップ2ろの冷却は、プランジャ24の中心
部に設けたパイプ乙Oより水を流入し。
部に設けたパイプ乙Oより水を流入し。
パイプ30の外側の空間30aより流出して行われる。
水はプランジャ24の内部を通っており。
その流出口は記載してい身い配管へとつながれている。
31はパイプ、ろ1aは冷却水の漏水を防ぐためのOリ
ングである。
ングである。
プランジャチップ2ろは、補助チップろ2とねじ等によ
り連結されている。プランジャチップ2ろと補助チップ
ろ2の最外周部、すなわち、射出スリーブ22内壁を摺
動する部分の外径は同程度にし、プランジャチップ23
と補助チップ32の間には、所望の幅をもった溝部ろろ
を設け、この溝部ろろには2円1司方向に数個設けた孔
ろ4が中部に向けてあけてあり、この孔ろ4はプランジ
ャチップ冷却水の流出側の空間7)Oaを形成するパイ
プろ1の外側に設けられた空間部ろ5につながり、真空
ラインとなるこの空間部ろ5はプランジャ24内部を通
り7プランジヤ24の後端部よりフレキシブルな配管ろ
6を介して、電磁切替弁ろ7に連結されている。電磁切
替弁37は配管36aを介して真空発生装置に連結する
とともに。
り連結されている。プランジャチップ2ろと補助チップ
ろ2の最外周部、すなわち、射出スリーブ22内壁を摺
動する部分の外径は同程度にし、プランジャチップ23
と補助チップ32の間には、所望の幅をもった溝部ろろ
を設け、この溝部ろろには2円1司方向に数個設けた孔
ろ4が中部に向けてあけてあり、この孔ろ4はプランジ
ャチップ冷却水の流出側の空間7)Oaを形成するパイ
プろ1の外側に設けられた空間部ろ5につながり、真空
ラインとなるこの空間部ろ5はプランジャ24内部を通
り7プランジヤ24の後端部よりフレキシブルな配管ろ
6を介して、電磁切替弁ろ7に連結されている。電磁切
替弁37は配管36aを介して真空発生装置に連結する
とともに。
配管36b、電磁切替弁38を介して工場エアである圧
縮空気源39[連結した。この場合の圧縮空気はスプレ
ーによる掃除、用として用いる。
縮空気源39[連結した。この場合の圧縮空気はスプレ
ーによる掃除、用として用いる。
このような装置において゛、溶湯2ろaを射出スリーブ
22内へ注湯し、プランジャチップ2′5が射出シリン
ダ25の前進により注湯1コ22aを通過後、所望の位
置にセントされた真空用のリミットスイッチ27が働い
て、電磁切替弁14.37が開き、真空発生装置15に
より、金型ガス抜装置ろを通ってキャビティ2内、およ
び、プランジャチップ23に設けられている溝部ろろを
各々真空に吸引すると、射出スリーブ22の内空間部4
0と射出スリーブ22とプランジャチップ23のあいだ
のすきま41は同程度の真空値となり。
22内へ注湯し、プランジャチップ2′5が射出シリン
ダ25の前進により注湯1コ22aを通過後、所望の位
置にセントされた真空用のリミットスイッチ27が働い
て、電磁切替弁14.37が開き、真空発生装置15に
より、金型ガス抜装置ろを通ってキャビティ2内、およ
び、プランジャチップ23に設けられている溝部ろろを
各々真空に吸引すると、射出スリーブ22の内空間部4
0と射出スリーブ22とプランジャチップ23のあいだ
のすきま41は同程度の真空値となり。
すきま41にはガスの流れはなくなる。したがって、前
記に述べたように、射出スリーブ22内に残っている余
分な潤滑剤、あるいは、水分などは。
記に述べたように、射出スリーブ22内に残っている余
分な潤滑剤、あるいは、水分などは。
キャビティ2内へ吸引されることなく、射出スリーブ2
2内の溶湯も、当然、キャビティ2内へ吸込寸れること
はなくなる。勿論、この場合、金型ガス抜き装置ろとプ
ランジャチップ23部から真空吸引するときに、キャビ
ティ2の回りに溝16を設けておき、この溝16からも
同時に真空吸引することができる。
2内の溶湯も、当然、キャビティ2内へ吸込寸れること
はなくなる。勿論、この場合、金型ガス抜き装置ろとプ
ランジャチップ23部から真空吸引するときに、キャビ
ティ2の回りに溝16を設けておき、この溝16からも
同時に真空吸引することができる。
第4図(a)、 (b)は本発明の他の実施例を示す。
第4図(a)、 (b)において、第1,2図に示すも
のと同じ部分は同じ符号で示し、その説明は省略する。
のと同じ部分は同じ符号で示し、その説明は省略する。
ここでは、射出スリーブ22内の溶湯23aのない部分
を真空発生装置15に連結する場合に。
を真空発生装置15に連結する場合に。
プランジャチップ2ろが射出スリーブ22のlコE湯l
]22 aを塞いだ後の前進中に、射出スリーブ22の
注湯口22a部と射出スリーブ22の後端開口部22b
を外部と遮断しうる遮断部月42を設け、この遮断部材
42内を真空発生装置15に連結した。
]22 aを塞いだ後の前進中に、射出スリーブ22の
注湯口22a部と射出スリーブ22の後端開口部22b
を外部と遮断しうる遮断部月42を設け、この遮断部材
42内を真空発生装置15に連結した。
射出スリーブ22の回りには、注湯口22aよりも金型
1a側に、ストッパ43とパツキン44を固定して設け
、プランジャ24の先端部には。
1a側に、ストッパ43とパツキン44を固定して設け
、プランジャ24の先端部には。
先端が開口し、射出スリーブ22よりも内径が大きい円
筒状の遮断部材42を摺動自在に設けた。
筒状の遮断部材42を摺動自在に設けた。
遮断部材42の後壁部と、プランジャ24の後端部に固
定して設けたフラン゛ン45との間には、圧縮ばね46
を設けた。47は調整ボルトであり。
定して設けたフラン゛ン45との間には、圧縮ばね46
を設けた。47は調整ボルトであり。
圧縮ばね46の調整により、プランジャチップ2ろが射
出前の位置にあるときは、第4図(b)に示すように、
遮断部材42が注湯[コ22a位置よりも後方にあって
注湯の邪魔にならないようにし。
出前の位置にあるときは、第4図(b)に示すように、
遮断部材42が注湯[コ22a位置よりも後方にあって
注湯の邪魔にならないようにし。
プランジャチップ2ろが前進して注湯口22a位置を通
過したときには、第4図(a、)に示すように。
過したときには、第4図(a、)に示すように。
a断部材42の先端部がストッパ43のパツキン44部
に当接されて、遮断部月42の内部が外気と遮断される
ようになっている。勿論、遮断部月42の一部は配管ろ
6.電磁切替弁37を介して真空発生装置15に連結さ
れている。なお、プランジャチップ2ろの後端限で、遮
断部材42を第4図(b)に示す位置に保つには、圧縮
はね46が伸びきった状態で遮断部月42がそれ以上前
に適寸ないように、プランジャチップ2ろの後端部にス
]・ツバ48を固定して設けておいても良いし、あるい
は、このストッパ48を設けることなく、圧縮はね46
が伸びきった状態で遮断部材42をこの位置に保つよう
にしても良い。
に当接されて、遮断部月42の内部が外気と遮断される
ようになっている。勿論、遮断部月42の一部は配管ろ
6.電磁切替弁37を介して真空発生装置15に連結さ
れている。なお、プランジャチップ2ろの後端限で、遮
断部材42を第4図(b)に示す位置に保つには、圧縮
はね46が伸びきった状態で遮断部月42がそれ以上前
に適寸ないように、プランジャチップ2ろの後端部にス
]・ツバ48を固定して設けておいても良いし、あるい
は、このストッパ48を設けることなく、圧縮はね46
が伸びきった状態で遮断部材42をこの位置に保つよう
にしても良い。
この実施例においては7 プランジャチップ2乙が第4
図(a)に示す位置寸で前進し、遮断部材42の内部と
射出スリーブ22の後端部が外気と遮断されたとき、電
磁切替弁37.14を切替えて。
図(a)に示す位置寸で前進し、遮断部材42の内部と
射出スリーブ22の後端部が外気と遮断されたとき、電
磁切替弁37.14を切替えて。
この部分とキャビティ2内を真空吸引する。そして、キ
ャビティ2内を所望な状態まで減圧するとともに、射出
スリーブ22とプランジャチップ2ろとの間のすき間か
ら射出スリーブ22内にガスが入らないようにして、射
出動作を続ける。
ャビティ2内を所望な状態まで減圧するとともに、射出
スリーブ22とプランジャチップ2ろとの間のすき間か
ら射出スリーブ22内にガスが入らないようにして、射
出動作を続ける。
なお、前記実施例においては、横型ダイカストマシンに
ついてのみ説明しだが、これは竪型ダイカストマシンや
竪型射出成形機などにも用いることができる。ただし、
竪型ダイカストマシンにおいては、注湯口22aを射出
スリーブ22の円周面部に設ける必要がなく、上部開口
部から注湯すれは良いので、遮断部材で竪型射出スリー
ブの下端開口部を塞ぐだけで良い。
ついてのみ説明しだが、これは竪型ダイカストマシンや
竪型射出成形機などにも用いることができる。ただし、
竪型ダイカストマシンにおいては、注湯口22aを射出
スリーブ22の円周面部に設ける必要がなく、上部開口
部から注湯すれは良いので、遮断部材で竪型射出スリー
ブの下端開口部を塞ぐだけで良い。
なお、前記実施例において、真空発生装置は1個用いだ
が、これは、キャビティ倶1と射出ネリーブ側と別個の
ものを用いることもできる。勿論。
が、これは、キャビティ倶1と射出ネリーブ側と別個の
ものを用いることもできる。勿論。
真空発生装置を1個用いた場合でも、減圧弁を用いたり
配管の大きさを適宜変えるなどして、キャビティ側と射
出スリーブ側とで真空吸引する状態を適宜変えるように
することもできる。
配管の大きさを適宜変えるなどして、キャビティ側と射
出スリーブ側とで真空吸引する状態を適宜変えるように
することもできる。
このように1本発明においては、特許請求の範囲に記載
したように、キャビティ内を真空吸引すると同時に、金
型合わせ面や、射出スリーブとプランジャチップの間の
すき間等から真空吸引するなどして、金型合わせ面、中
子摺動面、あるいは。
したように、キャビティ内を真空吸引すると同時に、金
型合わせ面や、射出スリーブとプランジャチップの間の
すき間等から真空吸引するなどして、金型合わせ面、中
子摺動面、あるいは。
射出スリーブとプランジャチップとの間のすき間に、金
型外から金型キャビディ内へガスが流込まない状態にし
て鋳造するようにしたので、キャビティや射出スリーブ
内等を十分に真空にして射出することができるとともに
、キャビティや射出スリーブ内、ひいては溶湯内に水分
や離型剤などが入らないようにすることができる。した
がって・射出製品に巣ができたり、外面が不良肌面にな
っだりすることはない。また、十分な真空状態で低速射
出から高速射出に移行するので、低速射出時にキャビテ
ィ内に射出された溶湯と引続いて高速射出時にキャビテ
ィ内に射出された溶湯が十分に融和されるので、良品質
の製品を確実容易に得ることができる。
型外から金型キャビディ内へガスが流込まない状態にし
て鋳造するようにしたので、キャビティや射出スリーブ
内等を十分に真空にして射出することができるとともに
、キャビティや射出スリーブ内、ひいては溶湯内に水分
や離型剤などが入らないようにすることができる。した
がって・射出製品に巣ができたり、外面が不良肌面にな
っだりすることはない。また、十分な真空状態で低速射
出から高速射出に移行するので、低速射出時にキャビテ
ィ内に射出された溶湯と引続いて高速射出時にキャビテ
ィ内に射出された溶湯が十分に融和されるので、良品質
の製品を確実容易に得ることができる。
また2作業者が、離型剤の塗布、外部などによる水残り
に対して、従来はど気を使うことはなく。
に対して、従来はど気を使うことはなく。
特に、金型合わせ面や中子摺動面などでの水残り。
離型剤残り、あるいは、プランジャチップ潤滑量などに
も、必要以上に注意をはらう必要はなく。
も、必要以上に注意をはらう必要はなく。
作業がやりやすい。
第1図は本発明の方法を実施するための装置の・1実施
例を示す縦断面図、第2図は他の実施例を示す縦断面図
、第6図は第2図の一部拡大断面図。 第4図(a)はさらに他の実施例を示す縦断面図、第4
図(b)は第4図(a5)に示す一部の作動状態を示す
縦断面図である。 1.1a・・・・金型+2・・・・キャビティ、ろ・・
・・金型ガス抜き装置、5・・・・弁、 1.4.
18. 37゜38・・・・電磁切替弁、15・・・・
真空発生装置116.21・・・・溝、19・・・・中
子装置、22・・・・射出スリーブ、23・・・・プラ
ンジャチップ。 24・・・・プランジャ、25・・・・射出シリンダ。 42・・・・遮断部材、4ろ・・・・ストッパ特許出願
人 宇部興産株式会社 手続補正書 昭和58年〆月、、)7日 特許庁長官 殿 1 事件の表、示 特願昭58−18218号 2 発明の名称 真空鋳造法および装置 己 補正をする者 事件との関係 特許出願人 郵便番号 755 山口県宇部市西本町1丁目12番32号4 補正命令の
口利 補正命令はない。 5 補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄。 6、補正の内容 (1)明細書の第15頁第13行の「射出動作を続ける
。」と同頁第14行の1なお、−1との間に下記のとお
り加入する。 記 [なお、この実施例においては、プランジャ24とプラ
ンジャチップ2ろ自体の前後進動作および圧縮ばね46
の作用等によって遮断部利42を開閉しうるようにした
が、これは、フランシャ45゜圧縮ばね46.調整ボル
ト47およびストッパ48を設けるととなく、遮断部材
42を図示していないシリンダの作用によって直接開閉
しつるようにしても良い。その場合、シリンダは固定盤
等に固定した状態でプランジャ24の軸線と平行に設け
、シリンダのピストンロッドの先端部をレバーを介して
遮断部材42の一部と連結しておき。 給湯中は遮断部拐42を射出シリンダ25側に後退させ
て開いておき、射出時に、プラ//ヤチソプ23が射出
スリーブ22の注湯D 22 aを塞いだ後は2図示し
ていないタイマやリミットスイッチ等からの指令により
、すみやかに前記−/リングを作用させ、遮断部月42
を前進させてストッパ43にあてて閉じ、注湯口22a
と射出スリーブの後退開口部22bを外部と遮断し、そ
こを真空状態にする。そうすると、前記したものと同様
な効果を得ることができる。 また、前記実施例においては、金型ガス抜き装置口から
真空発生装置15への配管13.13 a中に電磁切替
弁14を設け、プランツヤ24後端部や遮断部月42部
から真空発生装置15への配管36.36 a中に電磁
切替弁37を設けたが、これは、場合によっては、2個
の電磁切替弁14.37を1個の電磁切替弁に置きかえ
て使用することもできる。」 以 −上 383
例を示す縦断面図、第2図は他の実施例を示す縦断面図
、第6図は第2図の一部拡大断面図。 第4図(a)はさらに他の実施例を示す縦断面図、第4
図(b)は第4図(a5)に示す一部の作動状態を示す
縦断面図である。 1.1a・・・・金型+2・・・・キャビティ、ろ・・
・・金型ガス抜き装置、5・・・・弁、 1.4.
18. 37゜38・・・・電磁切替弁、15・・・・
真空発生装置116.21・・・・溝、19・・・・中
子装置、22・・・・射出スリーブ、23・・・・プラ
ンジャチップ。 24・・・・プランジャ、25・・・・射出シリンダ。 42・・・・遮断部材、4ろ・・・・ストッパ特許出願
人 宇部興産株式会社 手続補正書 昭和58年〆月、、)7日 特許庁長官 殿 1 事件の表、示 特願昭58−18218号 2 発明の名称 真空鋳造法および装置 己 補正をする者 事件との関係 特許出願人 郵便番号 755 山口県宇部市西本町1丁目12番32号4 補正命令の
口利 補正命令はない。 5 補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄。 6、補正の内容 (1)明細書の第15頁第13行の「射出動作を続ける
。」と同頁第14行の1なお、−1との間に下記のとお
り加入する。 記 [なお、この実施例においては、プランジャ24とプラ
ンジャチップ2ろ自体の前後進動作および圧縮ばね46
の作用等によって遮断部利42を開閉しうるようにした
が、これは、フランシャ45゜圧縮ばね46.調整ボル
ト47およびストッパ48を設けるととなく、遮断部材
42を図示していないシリンダの作用によって直接開閉
しつるようにしても良い。その場合、シリンダは固定盤
等に固定した状態でプランジャ24の軸線と平行に設け
、シリンダのピストンロッドの先端部をレバーを介して
遮断部材42の一部と連結しておき。 給湯中は遮断部拐42を射出シリンダ25側に後退させ
て開いておき、射出時に、プラ//ヤチソプ23が射出
スリーブ22の注湯D 22 aを塞いだ後は2図示し
ていないタイマやリミットスイッチ等からの指令により
、すみやかに前記−/リングを作用させ、遮断部月42
を前進させてストッパ43にあてて閉じ、注湯口22a
と射出スリーブの後退開口部22bを外部と遮断し、そ
こを真空状態にする。そうすると、前記したものと同様
な効果を得ることができる。 また、前記実施例においては、金型ガス抜き装置口から
真空発生装置15への配管13.13 a中に電磁切替
弁14を設け、プランツヤ24後端部や遮断部月42部
から真空発生装置15への配管36.36 a中に電磁
切替弁37を設けたが、これは、場合によっては、2個
の電磁切替弁14.37を1個の電磁切替弁に置きかえ
て使用することもできる。」 以 −上 383
Claims (5)
- (1)金型のキャビティ内を真空に吸引して鋳造する真
空鋳造法において、金型合わぜ面、中子摺動面、あるい
は、射出スリーブとプランジャチップとの間のすき間で
、金型外からキャビティ内へガスが流込1ない状態にし
て鋳造するようにした真空鋳造法。 - (2)金型合わせ面、中子摺動面、あるいは、射出スリ
ーブとプランジャチップとの間のすき間α、゛;金型外
からキャビティ内へガスが流込−!ない状態にするのに
、キャビティ内を真空に吸引すると同時に、前記金型合
わせ面等から真空に吸引するようにした特許請求の範囲
第1項記載の真空鋳造法。 - (3)金型のキャビティ内を真空発生装置に連結すると
ともに、キャビティの外周面から所望の間隔をもって金
型に設けた溝、この溝に連通した中い部分を真空発生装
置に連結した真空鋳造装置。 - (4)射出スリーブ内の溶湯のない部分を真空発生装置
に連結する場合に、射出スリーブ内を摺動するプランジ
ャチップの外周面に、プランジャチップの先端面から所
望の間隔をもって設けた溝を真空発生装置に連結した特
許請求の範囲第6項記載の真空鋳造装置。 - (5)射出スリーブ内の溶湯のない部分を真空発生装置
に連結する場合に、射出スリーブ内を摺動するプランジ
ャチップが射出スリーブの注湯口を塞いだ後の前進中に
、前記射出スリーブの′/+E湯口部と射出スリーブの
後端開口部を外部と遮断しうる遮断部材を設け、この遮
断部材内を真空発生装置に連結した特許請求の範囲第ろ
項記載の真空鋳造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1821883A JPS59144566A (ja) | 1983-02-08 | 1983-02-08 | 真空鋳造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1821883A JPS59144566A (ja) | 1983-02-08 | 1983-02-08 | 真空鋳造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59144566A true JPS59144566A (ja) | 1984-08-18 |
JPH034299B2 JPH034299B2 (ja) | 1991-01-22 |
Family
ID=11965500
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1821883A Granted JPS59144566A (ja) | 1983-02-08 | 1983-02-08 | 真空鋳造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59144566A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3605529A1 (de) * | 1985-02-20 | 1986-08-28 | Ube Industries, Ltd., Ube, Yamaguchi | Vertikale giesseinrichtung fuer eine druckgiessmaschine |
JPS6286955U (ja) * | 1985-11-19 | 1987-06-03 | ||
JPS6292058U (ja) * | 1985-11-27 | 1987-06-12 | ||
US5199480A (en) * | 1992-04-27 | 1993-04-06 | Outboard Marine Corporation | Sealed shot sleeve for vacuum die casting |
WO2006056410A1 (de) | 2004-11-27 | 2006-06-01 | Pfeiffer Vacuum Gmbh | Vakuumdruckgussverfahren |
CN102649153A (zh) * | 2011-02-25 | 2012-08-29 | 加昌国际有限公司 | 模具真空阀装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5744658U (ja) * | 1980-08-25 | 1982-03-11 | ||
JPS57152361A (en) * | 1980-11-03 | 1982-09-20 | Uaingaruten Ag Maschf | Method of manufacturing casted lump having little gas, gross porosity and oxide, pressure casting machine for executing said method and control unit for controlling said pressure |
JPS5838362U (ja) * | 1981-08-31 | 1983-03-12 | 日本軽金属株式会社 | ダイカスト金型装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3979190A (en) * | 1974-06-04 | 1976-09-07 | General Electric Company | Series feed membrane stack |
JPS52151144A (en) * | 1976-06-11 | 1977-12-15 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Preparation of 2-substituted-acrylic amide and 2-substituted-propionic acid derivatives |
-
1983
- 1983-02-08 JP JP1821883A patent/JPS59144566A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN102649153A (zh) * | 2011-02-25 | 2012-08-29 | 加昌国际有限公司 | 模具真空阀装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH034299B2 (ja) | 1991-01-22 |
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