JPH024766Y2 - - Google Patents
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- JPH024766Y2 JPH024766Y2 JP8696085U JP8696085U JPH024766Y2 JP H024766 Y2 JPH024766 Y2 JP H024766Y2 JP 8696085 U JP8696085 U JP 8696085U JP 8696085 U JP8696085 U JP 8696085U JP H024766 Y2 JPH024766 Y2 JP H024766Y2
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- plunger
- vacuum
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- gas
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Landscapes
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は金型のキヤビテイ内を吸引により減圧
して鋳込を行うダイカストマシンの鋳込方法に関
するものである。
して鋳込を行うダイカストマシンの鋳込方法に関
するものである。
従来よりダイカストマシンによる鋳造は、精密
な製品を多量に製造する方法として広く普及して
いるが、この種の鋳造は溶融金属を高速・高圧で
金型のキヤビテイ内へ充填するめにキヤビテイ内
のガスが充分に抜け切らず、溶融金属と混合して
製品中に巣として残存することがあるので、巣の
ない健全性を重視される製品には適さない場合が
あつた。
な製品を多量に製造する方法として広く普及して
いるが、この種の鋳造は溶融金属を高速・高圧で
金型のキヤビテイ内へ充填するめにキヤビテイ内
のガスが充分に抜け切らず、溶融金属と混合して
製品中に巣として残存することがあるので、巣の
ない健全性を重視される製品には適さない場合が
あつた。
このような不都合を解消するものとして本出願
人は実願昭56−107265号等により鋳込中の金型キ
ヤビテイ内のガスを抜き、ガスの巻き込みをなく
して健全なダイカスト製品が得られる金型用ガス
抜き装置を開発提案した。
人は実願昭56−107265号等により鋳込中の金型キ
ヤビテイ内のガスを抜き、ガスの巻き込みをなく
して健全なダイカスト製品が得られる金型用ガス
抜き装置を開発提案した。
この装置は、金型のキヤビテイから金型外へ通
じるガス排出路内にガス抜き弁を設けてこの弁を
開いた状態で溶湯をキヤビテイ内へ射出し、キヤ
ビテイ内の質量の小さいガスがガス排出路を通つ
て排出し終つたときにキヤビテイ内からガス排出
路へ進入してきた質量の大きい溶湯の慣性力を前
記弁に作用させてこれを閉じさせることにより溶
湯の流出を遮断するようにしたものであつて、金
型内のガス抜きを確実かつ容易に行なうことがで
きる。
じるガス排出路内にガス抜き弁を設けてこの弁を
開いた状態で溶湯をキヤビテイ内へ射出し、キヤ
ビテイ内の質量の小さいガスがガス排出路を通つ
て排出し終つたときにキヤビテイ内からガス排出
路へ進入してきた質量の大きい溶湯の慣性力を前
記弁に作用させてこれを閉じさせることにより溶
湯の流出を遮断するようにしたものであつて、金
型内のガス抜きを確実かつ容易に行なうことがで
きる。
また、本出願人は前記ガス排出路を真空発生装
置と連結することによつて金型キヤビテイ内のガ
スを積極的に排出する減圧または真空式のダイカ
スト法およびその装置も開発している。この減圧
ダイカスト法は、金型外からキヤビテイ内へすき
間を通つて流入するガス量以上の量のガスを外部
から吸引することによつて減圧するものであつて
これにより金型内のガス抜きをより確実にするこ
とができる。
置と連結することによつて金型キヤビテイ内のガ
スを積極的に排出する減圧または真空式のダイカ
スト法およびその装置も開発している。この減圧
ダイカスト法は、金型外からキヤビテイ内へすき
間を通つて流入するガス量以上の量のガスを外部
から吸引することによつて減圧するものであつて
これにより金型内のガス抜きをより確実にするこ
とができる。
しかしながら、このような従来の鋳込方法にお
いては、キヤビテイからの排出ガス量とキヤビテ
イへの流入ガス量との差によつて射出スリーブと
プランジヤチツプとのすき間等には外から内への
ガスの流れが発生していて、これが原因で真空引
きとともに、射出前に射出スリーブ内の溶湯の一
部がキヤビテイ内に発泡状態に近い状態で乱雑に
吸上げられキヤビテイの内面に沿つて薄い凝固層
が生じる。したがつて、この状態になつた後で
は、射出を行なつてもまともな射出製品が得られ
ない。
いては、キヤビテイからの排出ガス量とキヤビテ
イへの流入ガス量との差によつて射出スリーブと
プランジヤチツプとのすき間等には外から内への
ガスの流れが発生していて、これが原因で真空引
きとともに、射出前に射出スリーブ内の溶湯の一
部がキヤビテイ内に発泡状態に近い状態で乱雑に
吸上げられキヤビテイの内面に沿つて薄い凝固層
が生じる。したがつて、この状態になつた後で
は、射出を行なつてもまともな射出製品が得られ
ない。
また射出を行なおうとしても、キヤビテイ外の
水分や離型剤とどをキヤビテイ内へ吸込んだり、
あるいは真空度が上がらないうちに射出スリーブ
内の溶湯をキヤビテイ内へ吸込んだりするので、
潤滑剤などの不純物が製品に混入して製品の品質
を低下させたり、あるいは水分が射出溶湯と接触
してガス化することにより巣が発生して充分な真
空効果が発揮できないことがあるばかりでなく、
所定の真空度に達しないうちに溶湯が吸込まれる
ことによりこれがガスを巻込んだり、あるいはこ
の後の高速射出領域で射出されてくる溶湯と充分
融和しなかつたりし製品の外観を損なうという不
具合があつた。また、プランジヤチツプ端面に密
着して形成される溶湯の凝固層によつてエアの侵
入を遮断しようとしても、減圧のためにキヤビテ
イを吸引すると、キヤビテイの真空度に比較して
プランジヤチツプと鋳込スリーブのすき間の真空
度が低いために、溶湯を持上げる力が作用して、
溶湯はプランジヤチツプの端面から浮上つてしま
い、溶湯底面とプランジヤチツプ端面に流込んだ
空気が断熱して、溶湯底面に生成されていた凝固
層は溶湯の熱によつ柔らかくなり、キヤビテイと
プランジヤチツプ端面の空気の圧力差によつて中
央部が破れるので、外部のエアがプランジヤチツ
プと射出スリーブとのすき間および破れた凝固層
の孔から自由に金型キヤビテイ内へ侵入し、遮断
が困難であつた。
水分や離型剤とどをキヤビテイ内へ吸込んだり、
あるいは真空度が上がらないうちに射出スリーブ
内の溶湯をキヤビテイ内へ吸込んだりするので、
潤滑剤などの不純物が製品に混入して製品の品質
を低下させたり、あるいは水分が射出溶湯と接触
してガス化することにより巣が発生して充分な真
空効果が発揮できないことがあるばかりでなく、
所定の真空度に達しないうちに溶湯が吸込まれる
ことによりこれがガスを巻込んだり、あるいはこ
の後の高速射出領域で射出されてくる溶湯と充分
融和しなかつたりし製品の外観を損なうという不
具合があつた。また、プランジヤチツプ端面に密
着して形成される溶湯の凝固層によつてエアの侵
入を遮断しようとしても、減圧のためにキヤビテ
イを吸引すると、キヤビテイの真空度に比較して
プランジヤチツプと鋳込スリーブのすき間の真空
度が低いために、溶湯を持上げる力が作用して、
溶湯はプランジヤチツプの端面から浮上つてしま
い、溶湯底面とプランジヤチツプ端面に流込んだ
空気が断熱して、溶湯底面に生成されていた凝固
層は溶湯の熱によつ柔らかくなり、キヤビテイと
プランジヤチツプ端面の空気の圧力差によつて中
央部が破れるので、外部のエアがプランジヤチツ
プと射出スリーブとのすき間および破れた凝固層
の孔から自由に金型キヤビテイ内へ侵入し、遮断
が困難であつた。
このような問題点を解決するために本考案で
は、金型キヤビテイにガス払き装置を介して真空
発生装置を連結し、プランジヤチツプ部に設けた
真空吸引口にプランジヤ部の真空吸引穴を介して
前記真空発生装置に連結し、プランジヤ部の真空
吸引穴の出口付近の管路に補助真空タンクを設け
た。
は、金型キヤビテイにガス払き装置を介して真空
発生装置を連結し、プランジヤチツプ部に設けた
真空吸引口にプランジヤ部の真空吸引穴を介して
前記真空発生装置に連結し、プランジヤ部の真空
吸引穴の出口付近の管路に補助真空タンクを設け
た。
プランジヤチツプの前進途中にその外周面の真
空吸引口から空気を外部へ吸引し、凝固層をプラ
ンジヤチツプの端面に密着させ、このあと少し遅
れて金型キヤビテイ内の空気をガス抜き装置側か
ら吸引し、外部の空気を凝固層で遮断させ、金型
キヤビテイ内の溶湯に混入させない。この際、プ
ランジヤ部の真空吸引穴の出口付近の管路に設け
た補助真空タンクの作用で、プランジヤチツプ部
からの真空引きが、より有効に行われる。
空吸引口から空気を外部へ吸引し、凝固層をプラ
ンジヤチツプの端面に密着させ、このあと少し遅
れて金型キヤビテイ内の空気をガス抜き装置側か
ら吸引し、外部の空気を凝固層で遮断させ、金型
キヤビテイ内の溶湯に混入させない。この際、プ
ランジヤ部の真空吸引穴の出口付近の管路に設け
た補助真空タンクの作用で、プランジヤチツプ部
からの真空引きが、より有効に行われる。
第1図〜第4図は本考案に係るダイカストマシ
ンの射出装置の実施例を示し、第1図はその概略
構成図と空気圧配管図、第2図は射出スリーブと
プランジヤの1実施例を示す拡大断面図、第3図
は金型ガス抜き装置の縦断面図、第4図は第3図
の−線断面図である。
ンの射出装置の実施例を示し、第1図はその概略
構成図と空気圧配管図、第2図は射出スリーブと
プランジヤの1実施例を示す拡大断面図、第3図
は金型ガス抜き装置の縦断面図、第4図は第3図
の−線断面図である。
第1図に示すように、固定金型11と可動金型
12とは、分割面13で接合されて型締されてお
り、その内部にはキヤビテイ14とくびれ部15
および垂直孔部16とが分割面13の両側に形成
されていて、垂直孔部16には半円状の固定スリ
ーブ17が1組嵌着されている。本実施例のダイ
カストマシンは横型締、竪鋳込型のものであつて
可動金型12を水平方向へ移動させることにより
型締、型開が行なわれ、また射出シリンダ18は
金型11,12の真下に配設されている。射出シ
リンダ18は油圧で進退するピストンロツド19
を備えており、その作用端には、第2図に詳細を
示すプランジヤ20がカツプリング21で同心状
に連結されている。22は固定スリーブ17と同
径に形成されて図示しないシリンダで昇降し固定
スリーブ17に対して接離される射出スリーブで
あつて、その内孔22aには、プランジヤ20の
頭部のプランジヤチツプ23が摺動自在に嵌入さ
れており、鋳込スリーブ22を固定スリーブ17
から抜きプランジヤチツプ23を嵌入したまま、
射出シリンダ18とともに図示しない傾転シリン
ダで傾転させて鋳込スリーブ22内へ溶湯を注入
するように構成されている。そしと、注湯後、射
出シリンダ18を起立させて鋳込スリーブ22を
固定スリーブ17に当接させ、油圧でピストンロ
ツド19を前進させることにより、プランジヤチ
ツプ23が溶湯をキヤビテイ14内へ射出する。
12とは、分割面13で接合されて型締されてお
り、その内部にはキヤビテイ14とくびれ部15
および垂直孔部16とが分割面13の両側に形成
されていて、垂直孔部16には半円状の固定スリ
ーブ17が1組嵌着されている。本実施例のダイ
カストマシンは横型締、竪鋳込型のものであつて
可動金型12を水平方向へ移動させることにより
型締、型開が行なわれ、また射出シリンダ18は
金型11,12の真下に配設されている。射出シ
リンダ18は油圧で進退するピストンロツド19
を備えており、その作用端には、第2図に詳細を
示すプランジヤ20がカツプリング21で同心状
に連結されている。22は固定スリーブ17と同
径に形成されて図示しないシリンダで昇降し固定
スリーブ17に対して接離される射出スリーブで
あつて、その内孔22aには、プランジヤ20の
頭部のプランジヤチツプ23が摺動自在に嵌入さ
れており、鋳込スリーブ22を固定スリーブ17
から抜きプランジヤチツプ23を嵌入したまま、
射出シリンダ18とともに図示しない傾転シリン
ダで傾転させて鋳込スリーブ22内へ溶湯を注入
するように構成されている。そしと、注湯後、射
出シリンダ18を起立させて鋳込スリーブ22を
固定スリーブ17に当接させ、油圧でピストンロ
ツド19を前進させることにより、プランジヤチ
ツプ23が溶湯をキヤビテイ14内へ射出する。
プランジヤチツプ23の外周部には真空吸引口
の1種である環状溝23aが設けられており、環
状溝23aは、プランジヤチツプ23およびプラ
ンジヤ20の内部に設けた通路24すなち真空吸
引穴を介して、プランジヤ20の下部から後述す
るように真空ポンプ25などの真空発生装置に連
結されている。26はプランジヤチツプ23とプ
ランジヤ20中に設けた冷却水用通路である。
の1種である環状溝23aが設けられており、環
状溝23aは、プランジヤチツプ23およびプラ
ンジヤ20の内部に設けた通路24すなち真空吸
引穴を介して、プランジヤ20の下部から後述す
るように真空ポンプ25などの真空発生装置に連
結されている。26はプランジヤチツプ23とプ
ランジヤ20中に設けた冷却水用通路である。
そして、プランジヤチツプ23の溶湯4と接す
る先端外周面部には、リング状のくぼみ27が設
けられ、プランジヤチツプ23の先端面部には、
くぼみ27の内径よりも小さい直径を有する円柱
状のくぼみ28が設けられている。
る先端外周面部には、リング状のくぼみ27が設
けられ、プランジヤチツプ23の先端面部には、
くぼみ27の内径よりも小さい直径を有する円柱
状のくぼみ28が設けられている。
ここで、プランジヤチツプ23の先端外周面部
にくぼみ27を設けたのは、凝固層1をここに形
成させるためであり、先端中央面に円柱状のくぼ
み28を設けたのは、ここに形成される凝固層を
強いものにするためである。このくぼみ28は、
円柱状にするだけでなく、例えば、球面状のくぼ
みにすることもできるし、あるいは、円錐状や角
錐状のくぼみにすることもできる。
にくぼみ27を設けたのは、凝固層1をここに形
成させるためであり、先端中央面に円柱状のくぼ
み28を設けたのは、ここに形成される凝固層を
強いものにするためである。このくぼみ28は、
円柱状にするだけでなく、例えば、球面状のくぼ
みにすることもできるし、あるいは、円錐状や角
錐状のくぼみにすることもできる。
次に、金型ガス抜き装置について説明する。前
記両金型11,12の分割面13部には、キヤビ
テイ14と連通するガス抜き溝30が形成されて
おり、全体を符号31で示す金型ガス抜き装置
は、このガス抜き溝30の真上に位置して、例え
ば可動金型12側に固定されている。すなわち、
可動金型12に固定されたブラケツト32の上端
部にはシリンダ33が装着されており、その流体
圧で進退するピストンロツド34の作用端である
下端フランジ部には、円筒状のスプール35が下
端部を両金型11,12の上端面円孔へ挿抜自在
に係入させて固定されている。そして、型締、型
開に際しては、シリンダ33の作動によりスプー
ル35が金型11,12に対して抜き挿しされる
ように構成されている。金型11,12に挿入さ
れたスプール35の下方には、弁室36と、横へ
迂回して弁室36、ガス抜き溝30間を連通させ
るバイパス37とが設けられており、また、スプ
ール35の下端面には弁室36へ臨む弁座38が
形成されている。スプール35の外周壁に設けた
一対の長孔39には、復帰杆40の両杆部40a
が摺動自在に係合されており、復帰杆40とピス
トンロツド34のフランジ部との間には、復帰杆
40を上方へ付勢する引張りばね41やシリン
ダ、ソレノイド装置、重力装置などの部材が張架
されている。ここに引張ばね41を設けたのは、
溶湯圧力でいつたん閉じた弁体43aが外力を加
えなければ再び開かないようにしたためである。
復帰杆40の下方では、円筒部42aと一対のね
じ孔部42bとで一体形成された弁ガイド42
が、スプール35に取付けられている。円筒部4
2aには、上端ねじ部を復帰杆40のねじ孔に螺
入された弁棒43が摺動自在に軸支されている。
弁棒43の下端にはその上昇によつて前記弁座3
8に着座する弁体43aが設けられており、開い
ていた弁体43aは、射出時におけるキヤビテイ
14内の溶湯の慣性力の作用により着座してスプ
ール35の内室と、ガス抜き溝30、バイパス3
7との間を遮断するように構成されている。44
は圧縮コイルばね45の付勢によつて弁棒43の
溝43bと係合するボールであり、ボール44の
弁棒43への押付力はボルト46とナツト47の
作用で生じるものであり、ボール44、圧縮コイ
ルばね45、ボルト46などによつて係止機構が
形成されており、この係止機構の作用によつて弁
体43aを開き状態に保つておくようにした。勿
論、溶湯の慣性力が、開いている弁体43aに作
用すれば、弁棒43の後退にともなつてボール4
4が後退し、弁体43aはただちに締る。なお、
弁体43aは、復帰杆40の杆部40aを押し下
げることによつて開く。48はシリンダ33の作
動で上昇するスプール35の上昇限を規制するス
トツパであつて、ブラケツト32に固定されてい
る。そして、スプール35の下端部には、排気孔
49が開口されており、この排気孔49は第1図
に示す空気圧回路(後述)の配管50に接続され
ている。
記両金型11,12の分割面13部には、キヤビ
テイ14と連通するガス抜き溝30が形成されて
おり、全体を符号31で示す金型ガス抜き装置
は、このガス抜き溝30の真上に位置して、例え
ば可動金型12側に固定されている。すなわち、
可動金型12に固定されたブラケツト32の上端
部にはシリンダ33が装着されており、その流体
圧で進退するピストンロツド34の作用端である
下端フランジ部には、円筒状のスプール35が下
端部を両金型11,12の上端面円孔へ挿抜自在
に係入させて固定されている。そして、型締、型
開に際しては、シリンダ33の作動によりスプー
ル35が金型11,12に対して抜き挿しされる
ように構成されている。金型11,12に挿入さ
れたスプール35の下方には、弁室36と、横へ
迂回して弁室36、ガス抜き溝30間を連通させ
るバイパス37とが設けられており、また、スプ
ール35の下端面には弁室36へ臨む弁座38が
形成されている。スプール35の外周壁に設けた
一対の長孔39には、復帰杆40の両杆部40a
が摺動自在に係合されており、復帰杆40とピス
トンロツド34のフランジ部との間には、復帰杆
40を上方へ付勢する引張りばね41やシリン
ダ、ソレノイド装置、重力装置などの部材が張架
されている。ここに引張ばね41を設けたのは、
溶湯圧力でいつたん閉じた弁体43aが外力を加
えなければ再び開かないようにしたためである。
復帰杆40の下方では、円筒部42aと一対のね
じ孔部42bとで一体形成された弁ガイド42
が、スプール35に取付けられている。円筒部4
2aには、上端ねじ部を復帰杆40のねじ孔に螺
入された弁棒43が摺動自在に軸支されている。
弁棒43の下端にはその上昇によつて前記弁座3
8に着座する弁体43aが設けられており、開い
ていた弁体43aは、射出時におけるキヤビテイ
14内の溶湯の慣性力の作用により着座してスプ
ール35の内室と、ガス抜き溝30、バイパス3
7との間を遮断するように構成されている。44
は圧縮コイルばね45の付勢によつて弁棒43の
溝43bと係合するボールであり、ボール44の
弁棒43への押付力はボルト46とナツト47の
作用で生じるものであり、ボール44、圧縮コイ
ルばね45、ボルト46などによつて係止機構が
形成されており、この係止機構の作用によつて弁
体43aを開き状態に保つておくようにした。勿
論、溶湯の慣性力が、開いている弁体43aに作
用すれば、弁棒43の後退にともなつてボール4
4が後退し、弁体43aはただちに締る。なお、
弁体43aは、復帰杆40の杆部40aを押し下
げることによつて開く。48はシリンダ33の作
動で上昇するスプール35の上昇限を規制するス
トツパであつて、ブラケツト32に固定されてい
る。そして、スプール35の下端部には、排気孔
49が開口されており、この排気孔49は第1図
に示す空気圧回路(後述)の配管50に接続され
ている。
次に、前記プランジヤ20とガス抜き装置31
との空気圧回路を第1図に基いて説明する。真空
ポンプ25に接続された配管51は、途中で配管
52と配管53とに分岐されており、配管51、
52上には、真空タンク54と補助真空タンク5
5とがそれぞれ設けられているとともに、配管5
1,52は、フイルタ56,57を介し配管5
0,58にそれぞれ接続されている。そして、配
管52,53上には、電磁切替弁59,60がそ
れぞれ配設されており、図示の状態から電磁弁5
9のソレノイドを励磁するとプランジヤ20内の
エアが吸引され、また電磁弁60のソレノイドを
励磁すると、ガス抜き装置31を介してキヤビテ
イ14内のエアが吸引される。このときの真空度
は例えばプランジヤ20側が200〜300Torr、ガ
ス抜き装置31側が150〜250Torr程度に設定さ
れ、これは補助真空タンク55を設けたことによ
つて達成される。補助真空タンク55は、真空吸
引時に比較的に細い配管部や通路などで発生する
抵抗を考慮して、できるだけプランジヤ20の近
くに設けておく。また、フレキシブルホース58
aを有する配管58は、できるだけ短かくて管径
が例えば1インチのように比較的大きいものにし
ておく。
との空気圧回路を第1図に基いて説明する。真空
ポンプ25に接続された配管51は、途中で配管
52と配管53とに分岐されており、配管51、
52上には、真空タンク54と補助真空タンク5
5とがそれぞれ設けられているとともに、配管5
1,52は、フイルタ56,57を介し配管5
0,58にそれぞれ接続されている。そして、配
管52,53上には、電磁切替弁59,60がそ
れぞれ配設されており、図示の状態から電磁弁5
9のソレノイドを励磁するとプランジヤ20内の
エアが吸引され、また電磁弁60のソレノイドを
励磁すると、ガス抜き装置31を介してキヤビテ
イ14内のエアが吸引される。このときの真空度
は例えばプランジヤ20側が200〜300Torr、ガ
ス抜き装置31側が150〜250Torr程度に設定さ
れ、これは補助真空タンク55を設けたことによ
つて達成される。補助真空タンク55は、真空吸
引時に比較的に細い配管部や通路などで発生する
抵抗を考慮して、できるだけプランジヤ20の近
くに設けておく。また、フレキシブルホース58
aを有する配管58は、できるだけ短かくて管径
が例えば1インチのように比較的大きいものにし
ておく。
さらに、電磁切替弁59,60の他方のポート
には電磁切替弁61,62を備えた配管63,6
4がそれぞれ接続されており、これらの配管6
3,64は、何変絞り弁65を備えた配管66に
合流されて例えば工場の空気圧縮機67に接続さ
れている。そして、電磁切替弁59,60のソレ
ノイドを消磁させた状態で、電磁切替弁61,6
2のソレノイドを励磁させることにより高圧エア
がプランジヤ20およびガス抜き装置31に送ら
れて内部清掃用のスプレーに供せられる。
には電磁切替弁61,62を備えた配管63,6
4がそれぞれ接続されており、これらの配管6
3,64は、何変絞り弁65を備えた配管66に
合流されて例えば工場の空気圧縮機67に接続さ
れている。そして、電磁切替弁59,60のソレ
ノイドを消磁させた状態で、電磁切替弁61,6
2のソレノイドを励磁させることにより高圧エア
がプランジヤ20およびガス抜き装置31に送ら
れて内部清掃用のスプレーに供せられる。
以上のように構成されたダイカストマシンによ
る鋳込方法を説明する。可動金型12を図示の位
置まで移動させて型締を行ない、ガス抜き装置3
1のシリンダ33を作動させて、第3図に図示し
たようにスプール35を金型11,12のスプー
ル孔に係入させる。このとき射出シリンダ18の
ピストンロツド19ならびに射出スリーブ22が
下降しているので、射出シリンダ18を傾転させ
てプランジヤ20が下降している射出スリーブ2
2内へ溶湯を注入し、再び起立させたのち、射出
スリーブ22を上昇させて第1図に図示しように
固定スリーブ17と係合させる。そして、真空引
きをしたのち、射出シリンダ18に送油してピス
トンロツデ19を上昇させると、プランジヤ20
が上昇して第2図に符号4で示し溶湯の射出が開
始される。このとき、プランジヤ20には冷却水
用通路26から冷水が供給されており、この冷水
により、プランジヤチツプ23が内部から冷却さ
れている。また、射出スリーブ22も図示しない
冷却装置によつて外側から冷却されている。そし
て、プランジヤチツプ23の上端面とこれに続く
射出スリーブ22の内壁面とには、第2図に符号
1で示す溶湯固化による凝固層が生成される。そ
して、真空タンク54内と補助真空タンク55内
とはあらかじめ真空ポンプ25で吸引することに
より減圧されておるので、射出開始前において先
ず電磁切替弁59を開くとプランジヤロツド20
の通路24に負圧が作用し、プランジヤチツプ2
3の環状溝23a内のエアは吸引される。
る鋳込方法を説明する。可動金型12を図示の位
置まで移動させて型締を行ない、ガス抜き装置3
1のシリンダ33を作動させて、第3図に図示し
たようにスプール35を金型11,12のスプー
ル孔に係入させる。このとき射出シリンダ18の
ピストンロツド19ならびに射出スリーブ22が
下降しているので、射出シリンダ18を傾転させ
てプランジヤ20が下降している射出スリーブ2
2内へ溶湯を注入し、再び起立させたのち、射出
スリーブ22を上昇させて第1図に図示しように
固定スリーブ17と係合させる。そして、真空引
きをしたのち、射出シリンダ18に送油してピス
トンロツデ19を上昇させると、プランジヤ20
が上昇して第2図に符号4で示し溶湯の射出が開
始される。このとき、プランジヤ20には冷却水
用通路26から冷水が供給されており、この冷水
により、プランジヤチツプ23が内部から冷却さ
れている。また、射出スリーブ22も図示しない
冷却装置によつて外側から冷却されている。そし
て、プランジヤチツプ23の上端面とこれに続く
射出スリーブ22の内壁面とには、第2図に符号
1で示す溶湯固化による凝固層が生成される。そ
して、真空タンク54内と補助真空タンク55内
とはあらかじめ真空ポンプ25で吸引することに
より減圧されておるので、射出開始前において先
ず電磁切替弁59を開くとプランジヤロツド20
の通路24に負圧が作用し、プランジヤチツプ2
3の環状溝23a内のエアは吸引される。
また、これと同時に、あるいは、例えば0.2〜
1秒遅れて、電磁切替弁60が開かれると、この
ときガス抜き装置31の弁体43aが開いている
ので、キヤビテイ14内のガスはガス抜き溝3
0、バイパス37を経て排気孔49から吸引さ
れ、キヤビテイ14内のガスが排出される。この
ようにしプランジヤ20側とガス抜き装置31側
との両方から吸引することにより、結果的にはキ
ヤビテイ14内と、射出スリーブ22、プランジ
ヤチツプ23間のすき間等が同じ真空度になる
が、プランジヤ20側の真空度をガス抜き装置3
1側の真空度よりも大きくしたことにより、第2
図に示すように凝固層1がプランジヤチツプ23
の球面状などのくぼみ28面と周囲の環状のくぼ
み27とに密着して強化されるとともに、プラン
ジヤチツプ23の冷却に伴なつて300〜400℃に冷
却されることにより凝固層1が厚くなる。これに
より射出スリーブ22とプランジヤチツプ23と
のすき間からの外気の侵入が遮断される。また溶
湯の射出前にキヤビテイ14内へ溶湯が差し込む
ことがない。本装置ではプランジヤチツプ23の
溶湯接触側の端面に球面状または錐状のくぼみ2
8,29を設けたことにより、この部分に形成さ
れる凝固層1は単なる平面状の凝固層1に比べて
かなり強くなり、凝固層1の中央部がエア圧で破
れたりすることがなく、外気の侵入や溶湯の差し
込みがなくなるとともに、膜が破れないことによ
り、不良品発生の原因となるような潤滑油の侵入
も受断される。また、プランジヤチツプ23の端
面部に環状のくぼま27が形成され、凝固層1が
このくぼみ27に入り込むように形成されている
ので、このくぼみ27がないときのように凝固層
1がこの箇所から折れ溶湯側へ入り込んだりする
おそれがない。
1秒遅れて、電磁切替弁60が開かれると、この
ときガス抜き装置31の弁体43aが開いている
ので、キヤビテイ14内のガスはガス抜き溝3
0、バイパス37を経て排気孔49から吸引さ
れ、キヤビテイ14内のガスが排出される。この
ようにしプランジヤ20側とガス抜き装置31側
との両方から吸引することにより、結果的にはキ
ヤビテイ14内と、射出スリーブ22、プランジ
ヤチツプ23間のすき間等が同じ真空度になる
が、プランジヤ20側の真空度をガス抜き装置3
1側の真空度よりも大きくしたことにより、第2
図に示すように凝固層1がプランジヤチツプ23
の球面状などのくぼみ28面と周囲の環状のくぼ
み27とに密着して強化されるとともに、プラン
ジヤチツプ23の冷却に伴なつて300〜400℃に冷
却されることにより凝固層1が厚くなる。これに
より射出スリーブ22とプランジヤチツプ23と
のすき間からの外気の侵入が遮断される。また溶
湯の射出前にキヤビテイ14内へ溶湯が差し込む
ことがない。本装置ではプランジヤチツプ23の
溶湯接触側の端面に球面状または錐状のくぼみ2
8,29を設けたことにより、この部分に形成さ
れる凝固層1は単なる平面状の凝固層1に比べて
かなり強くなり、凝固層1の中央部がエア圧で破
れたりすることがなく、外気の侵入や溶湯の差し
込みがなくなるとともに、膜が破れないことによ
り、不良品発生の原因となるような潤滑油の侵入
も受断される。また、プランジヤチツプ23の端
面部に環状のくぼま27が形成され、凝固層1が
このくぼみ27に入り込むように形成されている
ので、このくぼみ27がないときのように凝固層
1がこの箇所から折れ溶湯側へ入り込んだりする
おそれがない。
このようにしてキヤビテイ14内等を真空状態
にしたのち、射出動作に移り、ガス抜きを行ない
ながらプランジヤチツプ23を前進させると、射
出スリーブ22内の溶湯4が固定スリーブ17と
くびれ部15とを経てキヤビテイ14内へ射出さ
れ、キヤビテイ14内に溶湯4が充満するとこの
溶湯4がガス抜き溝30内を上昇して弁体43a
の下面に当接する。このとき、弁体43aに加わ
る衝撃は、溶湯4の質量がガスの質量と比べてき
わめて大きく慣生が大であるため、ガスが弁体4
3aに与える衝撃よりも大きく、弁体43aはボ
ール44で圧縮コイルばね45を圧縮させながら
上昇して、弁体43aが弁座38を閉塞する。し
たがつて、溶湯4が弁座38からの流出を遮断さ
れて、ガス抜き溝30内でガスと混り、飛沫状と
なつて不連続に弁体43aに当る場合でも、いつ
たん溶湯4で押上げられた弁体43aは引きばね
41で上方へ引張られるので、上方位置が維持さ
れ弁体43aによる排気通路の閉鎖が確実に行な
われる。
にしたのち、射出動作に移り、ガス抜きを行ない
ながらプランジヤチツプ23を前進させると、射
出スリーブ22内の溶湯4が固定スリーブ17と
くびれ部15とを経てキヤビテイ14内へ射出さ
れ、キヤビテイ14内に溶湯4が充満するとこの
溶湯4がガス抜き溝30内を上昇して弁体43a
の下面に当接する。このとき、弁体43aに加わ
る衝撃は、溶湯4の質量がガスの質量と比べてき
わめて大きく慣生が大であるため、ガスが弁体4
3aに与える衝撃よりも大きく、弁体43aはボ
ール44で圧縮コイルばね45を圧縮させながら
上昇して、弁体43aが弁座38を閉塞する。し
たがつて、溶湯4が弁座38からの流出を遮断さ
れて、ガス抜き溝30内でガスと混り、飛沫状と
なつて不連続に弁体43aに当る場合でも、いつ
たん溶湯4で押上げられた弁体43aは引きばね
41で上方へ引張られるので、上方位置が維持さ
れ弁体43aによる排気通路の閉鎖が確実に行な
われる。
なお、溶湯4の射出に際し、前記凝固層1はプ
ランジヤチツプ23の上昇によりその端面とくび
れ部15手前の端面との間で押しつぶされるが、
細いくびれ部15を設けことにより、このつぶれ
た凝固層1がキヤツテイ14内へ侵入することが
ない。
ランジヤチツプ23の上昇によりその端面とくび
れ部15手前の端面との間で押しつぶされるが、
細いくびれ部15を設けことにより、このつぶれ
た凝固層1がキヤツテイ14内へ侵入することが
ない。
弁体43aが閉じた状態で所定時間加圧冷却し
たのち可動金型12を開き、ガス抜き装置31の
シリンダ33でスプール35を上昇させて可動金
型12との係合を解き、キヤビテイ14内から製
品を取り出す。
たのち可動金型12を開き、ガス抜き装置31の
シリンダ33でスプール35を上昇させて可動金
型12との係合を解き、キヤビテイ14内から製
品を取り出す。
なお、スプール35の上昇に際しては、スプー
ル46の上昇限付近において、復帰枴40の両杆
部40aがストツパ48に当接して弁棒43を押
し下げるので、弁体43aが確実に開き、ボール
44が溝43bに係合し、次回の鋳込準備が整え
られる。
ル46の上昇限付近において、復帰枴40の両杆
部40aがストツパ48に当接して弁棒43を押
し下げるので、弁体43aが確実に開き、ボール
44が溝43bに係合し、次回の鋳込準備が整え
られる。
以上の説明により明らかなように、本考案によ
れば、ダイカストマシンの射出装置において、射
出スリーブ内に射出用溶湯が満たされた状態で金
型キヤビテイ内のガスを吸引排出する真空吸引装
置を設けるとともに、射出スリーブ内で摺動する
プランジヤチツプ部に真空吸引口を設け、プラン
ジヤ部の真空吸引穴の出口付近の管路に補助真空
タンクを設けた構造を採用しているため、ガス抜
き時にプランジヤ側を素早く確実容易に真空状態
にし、チツプとスリーブとの間から外気を引き込
まないようにすることができ、空気が溶湯中に混
入せず、製品に巣が生じることがない。
れば、ダイカストマシンの射出装置において、射
出スリーブ内に射出用溶湯が満たされた状態で金
型キヤビテイ内のガスを吸引排出する真空吸引装
置を設けるとともに、射出スリーブ内で摺動する
プランジヤチツプ部に真空吸引口を設け、プラン
ジヤ部の真空吸引穴の出口付近の管路に補助真空
タンクを設けた構造を採用しているため、ガス抜
き時にプランジヤ側を素早く確実容易に真空状態
にし、チツプとスリーブとの間から外気を引き込
まないようにすることができ、空気が溶湯中に混
入せず、製品に巣が生じることがない。
図は本考案の1実施例を説明するもので、第1
図は空気回路図、第2図はプランジヤ部の縦断側
面図、第3図はガス抜き装置の縦断側面図、第4
図は第3図の−線断面図である。 11…固定金型、12…可動金型、14…キヤ
ビテイ、18…射出シリンダ、20…プランジ
ヤ、23…プランジヤチツプ、23a…環状溝
(真空吸引口)、24…通路(真空吸引穴)、25
…真空ポンプ、31…金型ガス抜き装置、54…
真空タンク、55…補助真空タンク。
図は空気回路図、第2図はプランジヤ部の縦断側
面図、第3図はガス抜き装置の縦断側面図、第4
図は第3図の−線断面図である。 11…固定金型、12…可動金型、14…キヤ
ビテイ、18…射出シリンダ、20…プランジ
ヤ、23…プランジヤチツプ、23a…環状溝
(真空吸引口)、24…通路(真空吸引穴)、25
…真空ポンプ、31…金型ガス抜き装置、54…
真空タンク、55…補助真空タンク。
Claims (1)
- 金型キヤビテイにガス抜き装置を介して真空発
生装置を連結し、プランジヤチツプ部に設けた真
空吸引口にプランジヤ部の真空吸引穴を介して前
記真空発生装置に連結し、プランジヤ部の真空吸
引穴の出口付近の管路に補助真空タンクを設けた
ダイカストマシンの射出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8696085U JPH024766Y2 (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8696085U JPH024766Y2 (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61205649U JPS61205649U (ja) | 1986-12-25 |
JPH024766Y2 true JPH024766Y2 (ja) | 1990-02-05 |
Family
ID=30638739
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8696085U Expired JPH024766Y2 (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH024766Y2 (ja) |
-
1985
- 1985-06-11 JP JP8696085U patent/JPH024766Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61205649U (ja) | 1986-12-25 |
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