JPS5912662B2 - N↓2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸付加塩の製造法 - Google Patents
N↓2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸付加塩の製造法Info
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- JPS5912662B2 JPS5912662B2 JP50023268A JP2326875A JPS5912662B2 JP S5912662 B2 JPS5912662 B2 JP S5912662B2 JP 50023268 A JP50023268 A JP 50023268A JP 2326875 A JP2326875 A JP 2326875A JP S5912662 B2 JPS5912662 B2 JP S5912662B2
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
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- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は血液凝固系に関与する重要なたんぱく質分解酵
素の一つであるトロンビンに対し強い阻害作用を有する
N2−ナフタレンスルホニルアル 2ギニンアミド類ま
たはその酸付加塩の製造方法に関する。
素の一つであるトロンビンに対し強い阻害作用を有する
N2−ナフタレンスルホニルアル 2ギニンアミド類ま
たはその酸付加塩の製造方法に関する。
N2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類または
その酸付加塩はトロンビンの阻害剤として強い抗トロン
ビン作用を示し、医薬上血液凝固 3・を抑制する特異
な生理活性物質であり、抗トロンビン作用が持続的であ
るという特徴を有する。
その酸付加塩はトロンビンの阻害剤として強い抗トロン
ビン作用を示し、医薬上血液凝固 3・を抑制する特異
な生理活性物質であり、抗トロンビン作用が持続的であ
るという特徴を有する。
本発明はこのように有用なN2−ナフタレンスルホニル
アルギニンアミド類またはその酸付加塩の製法を提供す
ることを目的とするものであり、 3この目的は下記〒
般式(I)\ /C−N−(CH2)3−CHCOR NH11(1)4 lYHN−SO2−R’ (上記一般式(1)中でXおよびYは水素原子またはグ
アニジノ基の保護基を表わし(ただしXおよびYのうち
少なくとも一つはグアニジノ基の保護基を表わす。
アルギニンアミド類またはその酸付加塩の製法を提供す
ることを目的とするものであり、 3この目的は下記〒
般式(I)\ /C−N−(CH2)3−CHCOR NH11(1)4 lYHN−SO2−R’ (上記一般式(1)中でXおよびYは水素原子またはグ
アニジノ基の保護基を表わし(ただしXおよびYのうち
少なくとも一つはグアニジノ基の保護基を表わす。
)、Rは一般式(1)−N/ (式中\R1およびR2
は水素原子、アルキル基、シクロアルキルアルキル基ま
たはアルコキシ基もしくはアルコキシカルボニル基で置
換されたアルキル基/一゛、を表わす。
は水素原子、アルキル基、シクロアルキルアルキル基ま
たはアルコキシ基もしくはアルコキシカルボニル基で置
換されたアルキル基/一゛、を表わす。
)または一般式(2)−NZ(式中Zはo メチレン基
−CH2−およびモノ置換メチレン基一 C−(R3は
アルキル基、アシル基、アルコキシ基またはアルコキシ
カルボニル基を表わす。)から選択される2以上の基な
らびにオキシ基一0−、チオ基−s−、シクロアルキレ
ン基、アつ 1ルキル置換イミノ基−N−(R6はアル
キル基を表わす。
−CH2−およびモノ置換メチレン基一 C−(R3は
アルキル基、アシル基、アルコキシ基またはアルコキシ
カルボニル基を表わす。)から選択される2以上の基な
らびにオキシ基一0−、チオ基−s−、シクロアルキレ
ン基、アつ 1ルキル置換イミノ基−N−(R6はアル
キル基を表わす。
)、アシル置換イミノ基0=C−R7′3(R7はアル
キル基を表わす。)およびフェニレン基Oから選択され
る0または1以上の基が任意の順序に結合した2価基を
表わし、wは゛ ノ 1−ナフチル基;2−ナフチル基
;ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、ジアルキルアミノ基、シアノ基もしくはアルキル
基で置換された1−ナフチル基または2−ナフチル基を
表わす。
キル基を表わす。)およびフェニレン基Oから選択され
る0または1以上の基が任意の順序に結合した2価基を
表わし、wは゛ ノ 1−ナフチル基;2−ナフチル基
;ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、ジアルキルアミノ基、シアノ基もしくはアルキル
基で置換された1−ナフチル基または2−ナフチル基を
表わす。
ただし、wは5−(ジメチルアミノ)、 ・ −1−ナ
フチル基を除く。)で表わされるNG−置換−N2−ナ
フタレンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸付
加塩のグアニジノ基の保護基であるΦ一置換基を分解除
去して下記一般式(蜀ι 、 H /C−N−(CH2)3−CHCOR(1)HN−SO
2−R’グアニジノ基の保護基を表わし(ただしXおよ
びYのうち少なくとも一つはグアニジノ基の保護基を表
わす。
フチル基を除く。)で表わされるNG−置換−N2−ナ
フタレンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸付
加塩のグアニジノ基の保護基であるΦ一置換基を分解除
去して下記一般式(蜀ι 、 H /C−N−(CH2)3−CHCOR(1)HN−SO
2−R’グアニジノ基の保護基を表わし(ただしXおよ
びYのうち少なくとも一つはグアニジノ基の保護基を表
わす。
)、Rは一般式(1)−N( (式中R1およびR2
は水素原子、アルキル基、シクロアルキルアルキル基ま
たはアルコキシ基もしくはアルコキシカルボニル基で置
換されたアルキル基′−\を表わす。
は水素原子、アルキル基、シクロアルキルアルキル基ま
たはアルコキシ基もしくはアルコキシカルボニル基で置
換されたアルキル基′−\を表わす。
)または一般式(2)−\−ア(式中Zはメチレン基−
CH2− およびモノ置換メチレン基一C−(R3はア
ルキル基、アシル基、アルコキシ基またはアルコキシカ
ルボニル基を表わす。)から選択される2以上の基なら
びにオキシ基0−、チオ基−S−、シクロアルキレン基
、アルキル置換イミノ基−N−(R6はアルキル基を表
わす。)、アシル置換イミノ基0−C−R7(R7はア
ルキル基を表わす。)およびフエニレン基Hし〉よから
選択されるOまたは1以上の基が任意の順序に結合した
2価基を表わし、kは1−ナフチル基:2−ナフチル基
;ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、ジアルキルアミノ基、シアノ基もしくはアルキル
基で置換された1−ナフチル基または2−ナフチル基を
表わす。ただし、kは5−(ジメチルアミノ)−1−ナ
フチル基を除く。)で表わされるNG一置換−N2−ナ
フタレンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸付
加塩のグアニジノ基の保護基であるy一置換基を分解除
去して下記一般式(1)(上記一般式(1)中でRおよ
びR′は上記=般式(1)におけると同じ意義を有する
。
CH2− およびモノ置換メチレン基一C−(R3はア
ルキル基、アシル基、アルコキシ基またはアルコキシカ
ルボニル基を表わす。)から選択される2以上の基なら
びにオキシ基0−、チオ基−S−、シクロアルキレン基
、アルキル置換イミノ基−N−(R6はアルキル基を表
わす。)、アシル置換イミノ基0−C−R7(R7はア
ルキル基を表わす。)およびフエニレン基Hし〉よから
選択されるOまたは1以上の基が任意の順序に結合した
2価基を表わし、kは1−ナフチル基:2−ナフチル基
;ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、ジアルキルアミノ基、シアノ基もしくはアルキル
基で置換された1−ナフチル基または2−ナフチル基を
表わす。ただし、kは5−(ジメチルアミノ)−1−ナ
フチル基を除く。)で表わされるNG一置換−N2−ナ
フタレンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸付
加塩のグアニジノ基の保護基であるy一置換基を分解除
去して下記一般式(1)(上記一般式(1)中でRおよ
びR′は上記=般式(1)におけると同じ意義を有する
。
)で表わされるN2−ナフタレンスルホニルアルギニン
アミド類またはその酸付加塩を得ることによつて達成さ
れる。本発明詳細に説明すると、本発明で原料として用
いられるNG一置換−N2−ナフタレンスルホニルアル
ギニンアミド類は上記一般式()で表わされるが、上記
一般式中のRを例示すれば次の通りである。R1および
R2は水素原子、通常炭素数10以下のアルキル基、通
常炭素数15以下のシクロアルキルアルキル基または通
常炭素数10以下のアルコキシ基もしくは通常炭素数1
0以下のアルコキシカルボニル基で置換された通常炭素
数10以下のアルキル基を表わす。
アミド類またはその酸付加塩を得ることによつて達成さ
れる。本発明詳細に説明すると、本発明で原料として用
いられるNG一置換−N2−ナフタレンスルホニルアル
ギニンアミド類は上記一般式()で表わされるが、上記
一般式中のRを例示すれば次の通りである。R1および
R2は水素原子、通常炭素数10以下のアルキル基、通
常炭素数15以下のシクロアルキルアルキル基または通
常炭素数10以下のアルコキシ基もしくは通常炭素数1
0以下のアルコキシカルボニル基で置換された通常炭素
数10以下のアルキル基を表わす。
さらに具体的にはメチル基、エチル基、n−プロピル基
、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−
ペンチル、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基などのアル
キル基、シクロヘキシルメチル基、3−シクロヘキシル
プロピル基などのシクロアルキルアルキル基、またはメ
トキシエチル基、メトキシプロピと基、エトキシエチル
基、エトキシカルボニルメチル基、2−エトキシカルボ
ニルエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、3−
エトキシルカルボニルプロピル基などのアルコキシ基も
しくはアルコキシカルボニル基で置換されたアルキル基
を挙げることができる。/2−\ 〜二l ↓VlU−眉門 \−ノ zはメチレン基−CH2− およびモノ置換メチレン基
−C−(R3は通常炭素数10以下のアルキル基、アシ
ル基、アルコキシ基またはアルコキシカルボニル基を表
わす。
、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−
ペンチル、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基などのアル
キル基、シクロヘキシルメチル基、3−シクロヘキシル
プロピル基などのシクロアルキルアルキル基、またはメ
トキシエチル基、メトキシプロピと基、エトキシエチル
基、エトキシカルボニルメチル基、2−エトキシカルボ
ニルエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、3−
エトキシルカルボニルプロピル基などのアルコキシ基も
しくはアルコキシカルボニル基で置換されたアルキル基
を挙げることができる。/2−\ 〜二l ↓VlU−眉門 \−ノ zはメチレン基−CH2− およびモノ置換メチレン基
−C−(R3は通常炭素数10以下のアルキル基、アシ
ル基、アルコキシ基またはアルコキシカルボニル基を表
わす。
)から選択される2以上の基ならびにオキシ基−0−、
チオ基−S−、通常炭素数10以下のシクロアルキレン
基、アルキル置換イミノ基一N−(R6は通常炭素数1
0以下のアルキル基を表わす。
チオ基−S−、通常炭素数10以下のシクロアルキレン
基、アルキル置換イミノ基一N−(R6は通常炭素数1
0以下のアルキル基を表わす。
)、アシル置換イミノ基N−(R7は通常炭素数10以
下のアルキル基を表わす。
下のアルキル基を表わす。
)およびフエニレン基廿 }から選択されるOまたは1
以上の基が任意の順序に結合した2価基を表わし、上記
の結合する基の数は通常20以下である。さらに具体的
には上記Rは1−アジリジニル基、1−アゼチジニル基
、3−メトキシ−1ーアゼチジニル基、3−エトキシ−
1−アゼチジエル基、1−ピロリジニル基、1−ピペリ
ジノ基、4−メチル−1−ピペリジノ基、4−エチル−
1−ピペリジノ基、4−(n−プロピル)−1−ピペリ
ジノ基、4−イソプロピル−1一ピペリジノ基、2−メ
チル−1−ピペリジノ基、3−メチル−1−ピペリジノ
基、2−エトキシカルボニル−1−ピロリジニル基、4
−メトキシ−1−ピペリジノ基、4−アセチル−1−ピ
ペリジノ基、4−メトキシカルボニル−1−ピペリジノ
基、1−ヘキサメチレンイミニル基、1−オクタメチレ
ンイミニル基などの1−ポリメチレンイミニル基または
そのオキソもしくはアルキル置換体、3−オキサゾリジ
ニル基、3ーチアゾリジニル基などのオキサゾール、チ
アゾール系の基、2−イソオキサゾリジニル基、2イソ
チアゾリジニル基などのイソオキサゾール、イソチアゾ
ール系の基、4−モルフオリノ基、2・6−ジメチル−
4−モルフオリノ基、3−(テトラヒトロー1・3−オ
キサジニル)基などのオキサジン系の基、4−(テトラ
ヒトロー1 ・4−チアジニル)基などのチアジン系の
基、4−メチル−1−ピペラジニル基、4−アセチル−
1−ピペラジニル基、2−イソインドリニル基、1−イ
ンドリニル基、1・2・3・4−テトラヒトロー2−イ
ソキノリル基、3−アザピングロー〔3・2・2〕ノン
−3−イル基、1・2・3・4−テトラヒトロー1−キ
ノリル基等である。
以上の基が任意の順序に結合した2価基を表わし、上記
の結合する基の数は通常20以下である。さらに具体的
には上記Rは1−アジリジニル基、1−アゼチジニル基
、3−メトキシ−1ーアゼチジニル基、3−エトキシ−
1−アゼチジエル基、1−ピロリジニル基、1−ピペリ
ジノ基、4−メチル−1−ピペリジノ基、4−エチル−
1−ピペリジノ基、4−(n−プロピル)−1−ピペリ
ジノ基、4−イソプロピル−1一ピペリジノ基、2−メ
チル−1−ピペリジノ基、3−メチル−1−ピペリジノ
基、2−エトキシカルボニル−1−ピロリジニル基、4
−メトキシ−1−ピペリジノ基、4−アセチル−1−ピ
ペリジノ基、4−メトキシカルボニル−1−ピペリジノ
基、1−ヘキサメチレンイミニル基、1−オクタメチレ
ンイミニル基などの1−ポリメチレンイミニル基または
そのオキソもしくはアルキル置換体、3−オキサゾリジ
ニル基、3ーチアゾリジニル基などのオキサゾール、チ
アゾール系の基、2−イソオキサゾリジニル基、2イソ
チアゾリジニル基などのイソオキサゾール、イソチアゾ
ール系の基、4−モルフオリノ基、2・6−ジメチル−
4−モルフオリノ基、3−(テトラヒトロー1・3−オ
キサジニル)基などのオキサジン系の基、4−(テトラ
ヒトロー1 ・4−チアジニル)基などのチアジン系の
基、4−メチル−1−ピペラジニル基、4−アセチル−
1−ピペラジニル基、2−イソインドリニル基、1−イ
ンドリニル基、1・2・3・4−テトラヒトロー2−イ
ソキノリル基、3−アザピングロー〔3・2・2〕ノン
−3−イル基、1・2・3・4−テトラヒトロー1−キ
ノリル基等である。
kは1−ナフチル基;2−ナフチル基;ハロゲン原子、
ニトロ基、アルコキシカルボニルオキシ基、ジアルキル
アミノ基、シアノ基もしくはアルキル基で置換された1
−ナフチル基または2−ナフチル基を表わす。
ニトロ基、アルコキシカルボニルオキシ基、ジアルキル
アミノ基、シアノ基もしくはアルキル基で置換された1
−ナフチル基または2−ナフチル基を表わす。
具体的にはナフタレン環の置換基はCl.Br等のハロ
ゲン原子;ニトロ基;メトキシカルボニルオキシ基、エ
トキシカルボニルオキシ基等の通常炭素数5以下の低級
アルコキシカルボニルオキシ基;ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基等の通常炭素数10以下のジアルキルア
ミノ基:シアノ基;メチル基、エチル基、n−プロピル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t
−ブチル基等の通常炭素数10以下、好ましくは炭素数
5以下のアルキル基等である。なお、5一(ジメチルア
ミノ)−1−ナフチル基は除く。上記一般式(1)中で
XおよびYは水素原子またはグアニジノ基の保護基を表
わすが、xおよびYのうち少なくとも一つはグアニジノ
基の保護基を表わす。グアニジノ基の保護基としてはニ
トロ基、トシル基、トリチル基またはベンジルオキシカ
ルボニル基、P−ニトロベンジルオキシカルボニル基、
P−メトキシベンジルオキシカルボニル基もしくはt−
ブチルオキシカルボニル基などのオキシカルボニル基が
挙げられる。NG一置換−N2−ナフタレンスルホニル
アルギニンアミド酸の酸付加塩としては゛、HBrlH
Cl等の鉱酸の塩、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、P
−トルエンスルホン酸等の有機酸の塩を挙げることがで
きる。
ゲン原子;ニトロ基;メトキシカルボニルオキシ基、エ
トキシカルボニルオキシ基等の通常炭素数5以下の低級
アルコキシカルボニルオキシ基;ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基等の通常炭素数10以下のジアルキルア
ミノ基:シアノ基;メチル基、エチル基、n−プロピル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t
−ブチル基等の通常炭素数10以下、好ましくは炭素数
5以下のアルキル基等である。なお、5一(ジメチルア
ミノ)−1−ナフチル基は除く。上記一般式(1)中で
XおよびYは水素原子またはグアニジノ基の保護基を表
わすが、xおよびYのうち少なくとも一つはグアニジノ
基の保護基を表わす。グアニジノ基の保護基としてはニ
トロ基、トシル基、トリチル基またはベンジルオキシカ
ルボニル基、P−ニトロベンジルオキシカルボニル基、
P−メトキシベンジルオキシカルボニル基もしくはt−
ブチルオキシカルボニル基などのオキシカルボニル基が
挙げられる。NG一置換−N2−ナフタレンスルホニル
アルギニンアミド酸の酸付加塩としては゛、HBrlH
Cl等の鉱酸の塩、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、P
−トルエンスルホン酸等の有機酸の塩を挙げることがで
きる。
上記一般式(1)で表わされる繕一置換−N2−ナフタ
レンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸付加塩
は通常、NG一置換−N2一置換アルギニン(N2一置
換基は通常ベンジルオキシカルボニル基、t−ブチルオ
キシカルボニル基等のアミノ保護基である。
レンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸付加塩
は通常、NG一置換−N2一置換アルギニン(N2一置
換基は通常ベンジルオキシカルボニル基、t−ブチルオ
キシカルボニル基等のアミノ保護基である。
)とアミンを酸アジド法、混合酸無水物法、活性化エス
テル法、カルボジイミド法等によつて縮合させて後、N
2一置換基のみを接触水素化分解または酸加水分解によ
つて選択的に分解除去させて得られるNG一置換アルギ
ニンアミドまたはその酸付加塩とナフタレンスルホニル
ハロゲニドまたは置換ナフタレンスルホニルハロゲニド
たとえば1−ナフタレンスルホニルクロリドを溶媒中で
塩基の存在下反応させること′によつて得られる。
テル法、カルボジイミド法等によつて縮合させて後、N
2一置換基のみを接触水素化分解または酸加水分解によ
つて選択的に分解除去させて得られるNG一置換アルギ
ニンアミドまたはその酸付加塩とナフタレンスルホニル
ハロゲニドまたは置換ナフタレンスルホニルハロゲニド
たとえば1−ナフタレンスルホニルクロリドを溶媒中で
塩基の存在下反応させること′によつて得られる。
塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウム等の一般的な無機塩基を挙げること
ができる。無機塩基は通常水溶液として用いられる。塩
基は繕一置換アルギニンアミドに対し通常当量以下使用
される。
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウム等の一般的な無機塩基を挙げること
ができる。無機塩基は通常水溶液として用いられる。塩
基は繕一置換アルギニンアミドに対し通常当量以下使用
される。
原料としてNG一置換アルギニンアミドの酸付加塩を使
用する場合は酸付加塩を中和するに十分な量の塩基を用
いることが好ましい。
用する場合は酸付加塩を中和するに十分な量の塩基を用
いることが好ましい。
ナフタレンスルホニルハロゲニドまたは置換ナフタレン
スルホニルハロゲニドはNG一置換アルギニンアミドま
たはその酸付加塩に対し通常等モル使用される。
スルホニルハロゲニドはNG一置換アルギニンアミドま
たはその酸付加塩に対し通常等モル使用される。
溶媒としては水または塩化メチレン、クロロホルム、四
塩化炭素などの塩素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシ
レンなどの芳香族炭化水素、工ーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセトン、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶
媒、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、テ
トラメチル尿素、N−メチルピロリドン、ピリジン、キ
ノリンなどの塩基性溶媒またはこれら溶媒を2以上混合
したものが用いられる。
塩化炭素などの塩素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシ
レンなどの芳香族炭化水素、工ーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセトン、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶
媒、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、テ
トラメチル尿素、N−メチルピロリドン、ピリジン、キ
ノリンなどの塩基性溶媒またはこれら溶媒を2以上混合
したものが用いられる。
塩基性溶媒を用いると、これら溶媒は酸受容剤として作
用するので塩基を添加する必要はない。
用するので塩基を添加する必要はない。
反応温度は使用するNG一置換アルギニンアミドおよび
塩基によつて異なるが一般には−10℃から溶媒の沸点
までの温度から選ばれる。反応時間は使用するNG一置
換アルギニンアミド、塩基および反応温度によつて異な
るが通常5分から24時間の範囲から選ばれる。
塩基によつて異なるが一般には−10℃から溶媒の沸点
までの温度から選ばれる。反応時間は使用するNG一置
換アルギニンアミド、塩基および反応温度によつて異な
るが通常5分から24時間の範囲から選ばれる。
反応終了後溶媒および塩基類を留去し生成した塩類を水
洗して除去した後NG一置換−N2−ナフタレンスルホ
ニルアルギニンアミド類を適当な溶媒で再結晶あるいは
再沈澱させることにより精製する。
洗して除去した後NG一置換−N2−ナフタレンスルホ
ニルアルギニンアミド類を適当な溶媒で再結晶あるいは
再沈澱させることにより精製する。
なお反応終了後溶媒を留去した反応混合物をクロマトグ
ラフイ一によつて精製分離することも可能である。クロ
マトグラフイ一展開溶媒は一般にクロロホルムもしくは
塩化メチレン等の塩素系溶媒またはアルコールを含有し
たこれら塩素系溶媒が用いられる。本発明は、既述のと
おり上記一般式([)で表わされるNG一置換−N2−
ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸
付加塩のグアニジノ基の保護基であるNG一置換基を分
解除去して、上記一般式(1)で表わされるN2−ナフ
タレンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸付加
塩を製造するのであるが、その分解除去方法としては、
一般に、酸分解あるいは水素化分解が適用される。
ラフイ一によつて精製分離することも可能である。クロ
マトグラフイ一展開溶媒は一般にクロロホルムもしくは
塩化メチレン等の塩素系溶媒またはアルコールを含有し
たこれら塩素系溶媒が用いられる。本発明は、既述のと
おり上記一般式([)で表わされるNG一置換−N2−
ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸
付加塩のグアニジノ基の保護基であるNG一置換基を分
解除去して、上記一般式(1)で表わされるN2−ナフ
タレンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸付加
塩を製造するのであるが、その分解除去方法としては、
一般に、酸分解あるいは水素化分解が適用される。
酸分解に使用される酸としては塩化水素、臭化水素、フ
ツ化水素などの・・ロゲン化水素、トリフルオロ酢酸、
トリフルオロメタンスルホン酸、ギ酸、酢酸などの有機
酸を挙げることができる。酸分解は上述した酸の存在下
無溶媒あるいはメタノール、エタノールなどのアルコー
ル、THFlジオキサン、アニソールなどのエーテル、
酢酸などの有機酸、酢酸エチルなどのエステル等の有機
溶媒中−10℃〜100℃、通常は室温でNG一置換−
N2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類または
その酸付加塩を処理することによつて行われる。酸分解
に要する時間は使用する酸および溶媒、保護基であるN
G一置換基の種類ならびに処理温度によつて異なるが、
10分ないし24時間である。分解終了後、溶媒および
過剰の酸を除去するかあるいはエーテル、石油エーテル
、炭化水素などの不活性溶媒を反応混合物中に加えて生
成する沈澱を沢過することによりN2−ナフタレンスル
ホニルアルギニンアミド類またはその酸付加塩が得られ
る。通常、酸を過剰に用いるので保護基を除去して得ら
れるN2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類は
使用した酸と酸付加塩を形成するが、これを中和するこ
とによりN2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド
類が容易に得られる。水素化分解は一般的な還元水素化
によつて行われるが接触的水素化分解が有利である。
ツ化水素などの・・ロゲン化水素、トリフルオロ酢酸、
トリフルオロメタンスルホン酸、ギ酸、酢酸などの有機
酸を挙げることができる。酸分解は上述した酸の存在下
無溶媒あるいはメタノール、エタノールなどのアルコー
ル、THFlジオキサン、アニソールなどのエーテル、
酢酸などの有機酸、酢酸エチルなどのエステル等の有機
溶媒中−10℃〜100℃、通常は室温でNG一置換−
N2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類または
その酸付加塩を処理することによつて行われる。酸分解
に要する時間は使用する酸および溶媒、保護基であるN
G一置換基の種類ならびに処理温度によつて異なるが、
10分ないし24時間である。分解終了後、溶媒および
過剰の酸を除去するかあるいはエーテル、石油エーテル
、炭化水素などの不活性溶媒を反応混合物中に加えて生
成する沈澱を沢過することによりN2−ナフタレンスル
ホニルアルギニンアミド類またはその酸付加塩が得られ
る。通常、酸を過剰に用いるので保護基を除去して得ら
れるN2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類は
使用した酸と酸付加塩を形成するが、これを中和するこ
とによりN2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド
類が容易に得られる。水素化分解は一般的な還元水素化
によつて行われるが接触的水素化分解が有利である。
接触的水素化分解は水素活性化触媒の存在下水素雰囲気
中で行われる。水素活性化触媒としては通常、ラネーニ
ツケル、パラジウム、白金等が用いられる。反応溶媒と
してはメタノール、エタノールなどのアルコール、ジオ
キサン、THFなどのエーテル、酢酸、プロピオン酸な
どの有機酸およびこれら2以上の混合溶媒などの不活性
溶媒を用いることができる。反応温度はグアニジノ基の
保護基および触媒の活性に応じて適宜選ばれるが、通常
0℃ないし溶媒の沸点である。水素圧は反応温度および
触媒の活性によつて異なるが1気圧以上であれば十分で
ある。反応時間は触媒の活性、反応温度、水素圧等によ
つて大きく異なるが、2時間から120時間程度である
。水素化分解後触媒を▲去して溶媒を留去するとN2−
ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸
付加塩が得られる。
中で行われる。水素活性化触媒としては通常、ラネーニ
ツケル、パラジウム、白金等が用いられる。反応溶媒と
してはメタノール、エタノールなどのアルコール、ジオ
キサン、THFなどのエーテル、酢酸、プロピオン酸な
どの有機酸およびこれら2以上の混合溶媒などの不活性
溶媒を用いることができる。反応温度はグアニジノ基の
保護基および触媒の活性に応じて適宜選ばれるが、通常
0℃ないし溶媒の沸点である。水素圧は反応温度および
触媒の活性によつて異なるが1気圧以上であれば十分で
ある。反応時間は触媒の活性、反応温度、水素圧等によ
つて大きく異なるが、2時間から120時間程度である
。水素化分解後触媒を▲去して溶媒を留去するとN2−
ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸
付加塩が得られる。
N2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類の酸付
加塩を中和すると、容易にN2−ナフタレンスルホニル
アルギニンアミド類が得られる。N2−ナフタレンスル
ホニルアルギニンアミド類およびその酸付加塩は水、エ
ーテル、アルコール、アセトン等の溶媒を2以上混合し
た溶媒を用いて再結晶することにより、あるいはこれを
アルコール等の溶媒に溶解して後エーテルを加えて、こ
れを沈澱させることにより精製される。
加塩を中和すると、容易にN2−ナフタレンスルホニル
アルギニンアミド類が得られる。N2−ナフタレンスル
ホニルアルギニンアミド類およびその酸付加塩は水、エ
ーテル、アルコール、アセトン等の溶媒を2以上混合し
た溶媒を用いて再結晶することにより、あるいはこれを
アルコール等の溶媒に溶解して後エーテルを加えて、こ
れを沈澱させることにより精製される。
次に本発明の方法によつて得られるN2−ナフタレンス
ルホニルアルギニンアミド類およびその酸付加塩の薬理
効果を説明する。
ルホニルアルギニンアミド類およびその酸付加塩の薬理
効果を説明する。
既述のとおりN2−ナフタレンスルホニルアルギニンア
ミド類およびその酸付加塩は抗トロンビン作用を有する
ので、診断薬として使用されるほか、血栓症などの予防
または治療に使用され得る。
ミド類およびその酸付加塩は抗トロンビン作用を有する
ので、診断薬として使用されるほか、血栓症などの予防
または治療に使用され得る。
そこで既知の抗トロンビン剤であるTAME(N2−(
P−トリルスルホニル)−L−アルギニン、メチルエス
テル)とN2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド
類およびその酸付加塩の抗トロンビン作用をフイブリノ
ーゲン凝固時間を測定して比較した。フイブリノーゲン
の凝固時間の測定は次のようにして行つた。
P−トリルスルホニル)−L−アルギニン、メチルエス
テル)とN2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド
類およびその酸付加塩の抗トロンビン作用をフイブリノ
ーゲン凝固時間を測定して比較した。フイブリノーゲン
の凝固時間の測定は次のようにして行つた。
牛フイブリノーゲン(コーンフラクシヨン1(COhn
FractiOnl)アーマ一(ArmOur)社製)
150T9を40dのボレートサラインバツフア(BO
rateSalineBuffer(PH7.4))に
溶解した溶液0.8m1と0.1m1のボレートサライ
ンバツフア(対照試料)または試料溶液を氷冷下で混和
し、さらに5units/dのトロンビン(持田製薬(
株)製試薬)0.1m1を氷冷下で添加してよく混和し
直ちに25℃の恒温槽に移す。
FractiOnl)アーマ一(ArmOur)社製)
150T9を40dのボレートサラインバツフア(BO
rateSalineBuffer(PH7.4))に
溶解した溶液0.8m1と0.1m1のボレートサライ
ンバツフア(対照試料)または試料溶液を氷冷下で混和
し、さらに5units/dのトロンビン(持田製薬(
株)製試薬)0.1m1を氷冷下で添加してよく混和し
直ちに25℃の恒温槽に移す。
恒温槽に入れた瞬間にストツプウオツチを始動させ、フ
イプリン系を認めた時までの時間を測定した。試料無添
加の場合(対照実験)の凝固時間は50〜55秒であつ
た。実験結果を表−1に示す。
イプリン系を認めた時までの時間を測定した。試料無添
加の場合(対照実験)の凝固時間は50〜55秒であつ
た。実験結果を表−1に示す。
表−1で凝固時間を2倍に延長する濃度とは、対照実験
での凝固時間50〜55秒を凝固時間100〜110秒
に延長するのに必要な濃度を表わす。TAMEについて
は、その凝固時間を2倍に延長する濃度は1100μm
であつた。
での凝固時間50〜55秒を凝固時間100〜110秒
に延長するのに必要な濃度を表わす。TAMEについて
は、その凝固時間を2倍に延長する濃度は1100μm
であつた。
なお下記表−1においてN2−ナフタレン乞ルホニルア
ルギニンアミド類は表中のR,.R′および付加物を特
定することによつて表わす。
ルギニンアミド類は表中のR,.R′および付加物を特
定することによつて表わす。
次に本発明を実施例にて具体的に説明するが、その要旨
を超えない限り、本発明はこれら実施例に限定されない
。
を超えない限り、本発明はこれら実施例に限定されない
。
実施例 1
4−エチル−1−(NG−ニトロ−N2−(1−ナフタ
レンスルホニル)−L−アルギニル)ピペリジン1.0
r(0.0020モル)にアニソール0.64f(0.
0060モル)およびフツ化水素3dをドライアイス−
アセトン冷却下加え、氷冷下30分間攪拌する。
レンスルホニル)−L−アルギニル)ピペリジン1.0
r(0.0020モル)にアニソール0.64f(0.
0060モル)およびフツ化水素3dをドライアイス−
アセトン冷却下加え、氷冷下30分間攪拌する。
氷冷以フツ化水素を減圧留去し、残存している油状物質
に無水エーテル100dを加え、よく洗浄する。エーテ
ル層をデカンテーシヨンにより除き、得られた粉末をメ
タノールに溶解し、エーテルを加えて再沈澱すると78
%の収率で粉体状の4−エチル−1−(N2−(1−ナ
フタレンスルホニル)−L−アルギニル)ピペリジンの
フツ化水素塩が得られる。元素分析 C23H33O3
N5S−掛ゝとして実施例 24−エチル−1−(NG
−ニトロ−N2−(7ーメチル一2−ナフタレンスルホ
ニル)−L−アルギニル)ピペリジン1.0t(0.0
019モル)をエタノール30m1および酢酸10WL
Iからなる溶媒に溶解し、パラジウム一黒0.1fの存
在下、室温で水素ガスを導入する。
に無水エーテル100dを加え、よく洗浄する。エーテ
ル層をデカンテーシヨンにより除き、得られた粉末をメ
タノールに溶解し、エーテルを加えて再沈澱すると78
%の収率で粉体状の4−エチル−1−(N2−(1−ナ
フタレンスルホニル)−L−アルギニル)ピペリジンの
フツ化水素塩が得られる。元素分析 C23H33O3
N5S−掛ゝとして実施例 24−エチル−1−(NG
−ニトロ−N2−(7ーメチル一2−ナフタレンスルホ
ニル)−L−アルギニル)ピペリジン1.0t(0.0
019モル)をエタノール30m1および酢酸10WL
Iからなる溶媒に溶解し、パラジウム一黒0.1fの存
在下、室温で水素ガスを導入する。
30時間で反応を終り、触媒を沢去し、溶媒を減圧留去
すると粘稠な油状物質が得られる。
すると粘稠な油状物質が得られる。
この油状物質をメタノールに溶解後エーテルを加えて再
沈澱すると、88%の収率で粉体状の4−エチル−1−
(N2−(7ーメチル一2−ナフタレンスルホニル)−
L−アルギニル)ピペリジンの酢酸塩が得られる。元素
分析 C24H35O3N,S−CH3COOHとして
実施例 3 4−エチル−1−(NG−NG−ジベンジルオキシカル
ボニル−N2−(5−クロロ−1−ナフタレンスルホニ
ル)−L−アルギニル)ピペリジン2.0t(0.00
26モル)をエタノール50WLIおよび酢酸10dか
らなる混合溶媒に溶解し、10%パラジウム−カーボン
の存在下、室温で水素ガスを導入する。
沈澱すると、88%の収率で粉体状の4−エチル−1−
(N2−(7ーメチル一2−ナフタレンスルホニル)−
L−アルギニル)ピペリジンの酢酸塩が得られる。元素
分析 C24H35O3N,S−CH3COOHとして
実施例 3 4−エチル−1−(NG−NG−ジベンジルオキシカル
ボニル−N2−(5−クロロ−1−ナフタレンスルホニ
ル)−L−アルギニル)ピペリジン2.0t(0.00
26モル)をエタノール50WLIおよび酢酸10dか
らなる混合溶媒に溶解し、10%パラジウム−カーボン
の存在下、室温で水素ガスを導入する。
10時間で反応を終了し、触媒を▲去し、溶媒を減圧留
去すると粘稠な油状物質が得られるこの油状物質をメタ
ノール−エーテルで再沈澱すると81%の収率で粉体状
の4−エチル−1−(N2−(5−クロロ−1−ナフタ
レンスルホニル)−L−アルギニル)ピペリジン・酢酸
塩が得られる。
去すると粘稠な油状物質が得られるこの油状物質をメタ
ノール−エーテルで再沈澱すると81%の収率で粉体状
の4−エチル−1−(N2−(5−クロロ−1−ナフタ
レンスルホニル)−L−アルギニル)ピペリジン・酢酸
塩が得られる。
元素分析 C23H32O3N5SCl−CH3COO
Hとしてその他各種のN2−ナフタレンスルホニルアル
ギニンアミド類を上記実施例の方法に従つて合成した。
Hとしてその他各種のN2−ナフタレンスルホニルアル
ギニンアミド類を上記実施例の方法に従つて合成した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I )(上記一般
式( I )中でXおよびYは水素原子またはグアニジノ
基の保護基を表わし(ただしXおよびYのうち少なくと
も一つはグアニジノ基の保護基を表わす。 )、Rは一般式▲数式、化学式、表等があります▼(式
中R_1およびR_2は水素原子、アルキル基、シクロ
アルキルアルキル基またはアルコキシ基もしくはアルコ
キシカルボニル基、で置換されたアルキル基を表わす。
)または一般式(2)−N Z(式中でZはメチレン基
−CH_2−およびモノ置換メチレン基▲数式、化学式
、表等があります▼(R_3はアルキル基、アシル基、
アルコキシ基またはアルコキシカルボニル基を表わす。
)から選択される2以上の基ならびにオキシ−O−、チ
オ基−S−、シクロアルキレン基、アルキル置換イミノ
基▲数式、化学式、表等があります▼(R_6はアルキ
ル基を表わす。)、アシル置換イミノ基▲数式、化学式
、表等があります▼(R_7はアルキル基を表わす。)
およびフェニレン基▲数式、化学式、表等があります▼
から選択される0または1以上の基が任意の順序に結合
した2価基を表わす。)を表わし、R′は1−ナフチル
基;2−ナフチル基;ハロゲン原子、ニトロ基、アルコ
キシカルボニルオキシ基、ジアルキルアミノ基、シアノ
基もしくはアルキル基で置換された1−ナフチル基また
は2−ナフチル基を表わす。ただし、R′は5−(ジメ
チルアミノ)−1−ナフチル基を除く。)で表わされる
N^G−置換−N^2−ナフチルスルホニルアルギニン
アミド類またはその酸付加塩のグアニジノ基の保護基で
あるN^G−置換基を分解除去することを特徴とする下
記一般式(II)▲数式、化学式、表等があります▼(I
I)(上記一般式(II)中でRおよびR′は上記一般式
( I )におけると同じ意義を有する。 )で表わされるN^2−ナフタレンスルホニルアルギニ
ンアミド類またはその酸付加塩の製造法。
Priority Applications (50)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP50023268A JPS5912662B2 (ja) | 1975-02-25 | 1975-02-25 | N↓2−ナフタレンスルホニルアルギニンアミド類またはその酸付加塩の製造法 |
NL7512637A NL7512637A (nl) | 1974-11-08 | 1975-10-29 | Werkwijze ter bereiding van een geneesmiddel, het aldus gevormde geneesmiddel en werkwijze voor de bereiding van actieve component. |
GB45339/75A GB1516668A (en) | 1974-11-08 | 1975-10-31 | N2-naphthalenesulphonyl-l-arginine esters and amides |
CA239,255A CA1073914A (en) | 1974-11-08 | 1975-11-05 | N2-naphthalene sulfonyl-l-arginine derivatives and the pharmaceutically acceptable acid addition salts thereof and processes for preparing the same |
DK498975A DK498975A (da) | 1974-11-08 | 1975-11-06 | N2-naphthalensulfonyl-l-arginin-derivater og farmaceutisk acceptable syreadditionssalte deraf samt deres anvendelse og fremgangsmade til deres fremstilling |
NO753733A NO753733L (ja) | 1974-11-08 | 1975-11-07 | |
SE7512530A SE431204B (sv) | 1974-11-08 | 1975-11-07 | Forfarande for framstellning av n?722-naftalensulfonyl-l-argininestrar och -amider eller farmaceutiskt accepterbara syraadditionssalter derav |
DE19752550088 DE2550088A1 (de) | 1974-11-08 | 1975-11-07 | N hoch 2 -naphtalinsulfonyl-l-argininester und -amide |
FR7534105A FR2290193A1 (fr) | 1974-11-08 | 1975-11-07 | Derives de n2-naphtalenesulfonyl-l-arginine, leur preparation et compositions pharmaceutiques les contenant |
US05/638,985 US4055636A (en) | 1974-11-08 | 1975-12-09 | N2 -alkoxynaphthalenesulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
US05/653,217 US4055651A (en) | 1974-11-08 | 1976-01-28 | N2 -alkoxynaphthalenesulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
US05/656,014 US4041156A (en) | 1974-11-08 | 1976-02-06 | N2 -alkoxynaphthalenesulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
US05/656,870 US4046876A (en) | 1974-11-08 | 1976-02-10 | N2 -alkoxynaphthalenesulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
US05/669,743 US4070457A (en) | 1974-11-08 | 1976-03-24 | N2 -naphthalenesulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
US05/671,568 US4049645A (en) | 1974-11-08 | 1976-03-29 | N2 -naphthalenesulfonyl-L-arginine derivatives, and the pharmaceutically acceptable acid addition salts thereof |
US05/671,435 US4062963A (en) | 1974-11-08 | 1976-03-29 | N2 -naphthalenesulfonyl-L-arginine derivatives, and the pharmaceutically acceptable acid addition salts thereof |
US05/671,436 US4066758A (en) | 1974-11-08 | 1976-03-29 | N2 -naphthalenesulfonyl-L-arginine derivatives, and the pharmaceutically acceptable acid addition salts thereof |
US05/703,704 US4069323A (en) | 1974-11-08 | 1976-07-08 | N2 -substituted-L-arginine derivatives and the pharmaceutically acceptable acid addition salts thereof |
US05/713,486 US4073914A (en) | 1974-11-08 | 1976-08-11 | N2 -naphthalenesulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
US05/723,474 US4096255A (en) | 1974-11-08 | 1976-09-14 | N2 -naphthalenesulfonyl-L-argininamides, and pharmaceutical salts, compositions and methods |
US05/728,051 US4104392A (en) | 1974-11-08 | 1976-09-30 | N2 -naphthalenesulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof, and antithrombotic compositions and methods employing them |
US05/760,654 US4108986A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 -Arylsulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
US05/760,727 US4069318A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 -Alkoxynaphthalenesulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
US05/760,668 US4073913A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 -arylsulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
US05/760,677 US4069317A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 -Arylsulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
US05/760,672 US4093712A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 -arylsulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
US05/760,586 US4066759A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 -naphthalenesulfonyl-L-arginine derivatives, and the pharmaceutically acceptable acid addition salts thereof |
US05/760,587 US4072757A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 alkoxynaphthylsulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
US05/760,719 US4073916A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 -naphthalenesulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
US05/760,585 US4072744A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 -naphthalenesulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
US05/760,738 US4073892A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 -alkoxynaphthylsulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
US05/760,745 US4066773A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 -arylsulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
US05/760,929 US4101653A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 -arylsulfonyl-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
US05/760,744 US4072743A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 -arylsulfonyl-L-argininamides and the pharmaceutically acceptable salts thereof |
US05/760,673 US4125619A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 -naphthalenesulfonyl-L-arginine derivatives and the pharmaceutically acceptable acid addition salts thereof |
US05/760,740 US4069329A (en) | 1974-11-08 | 1977-01-19 | N2 -Naphthalenesulfonyl-L-arginine derivatives, and the pharmaceutically acceptable acid addition salts thereof |
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Family Applications (1)
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-
1975
- 1975-02-25 JP JP50023268A patent/JPS5912662B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPS51125261A (en) | 1976-11-01 |
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