JPS59119379A - 薄型表示装置 - Google Patents

薄型表示装置

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JPS59119379A
JPS59119379A JP57226716A JP22671682A JPS59119379A JP S59119379 A JPS59119379 A JP S59119379A JP 57226716 A JP57226716 A JP 57226716A JP 22671682 A JP22671682 A JP 22671682A JP S59119379 A JPS59119379 A JP S59119379A
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JP
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film
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transistor
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display device
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幸治 鈴木
光志 池田
寿男 青木
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Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、トランジスタをマトリクスアレイに構成して
駆動回路として井いた薄型表示装置の改良に関する。
〔発明の技術的背景〕
近年スイッチングトランジスタをマトリクスアレイに構
成して駆動回路とした薄型表示装置はが注目されている
。この方法は、基板上に設けられたスイッチングトラン
ジスタマトリクスの各ドツトに画像情報を蓄積しておき
、これら画像情報をマトリクスアレイ上に設けられた液
晶層、EL層又はEC層の各ドツトに対応した位置に表
示を行ない、所望の画ft’を得ようとするものであシ
、従来の表示装置の主流であったCRT ’i用いた方
法に比べ、原理的にはるかに薄壓の表示装置が実現でき
る。又、CRTの表示原理がけい光物質に高エネルギー
の電子ビームを衝突させ発光させるため、全画面が常に
表示されているわけでなく、人間の目の残像現象を利用
したものとなっておシ、フリッカ−雑音等があり見易さ
に問題があった。これに対し、トランジスタマ) IJ
クスを用いた表示装置はほぼ全時間表示となシCRTよ
りも自然な画面を得ることができる。更に、CRTに比
べ、平坦な画面が得られること、高圧電源を必要としな
いこと、真空領域が必要でなく、全固体装置であるため
小型軽量で十分な強度が得られること、などの特徴を有
する。
第1図はトランジスタマトリクスアレイの基、本構成を
示す概略図である。表示画面はたてm本・+Rn本のマ
) IJクス状に分割され全部でm・n個の単位画素に
分′割されている。各マl−IJクスの父点C11,C
12・・・C1j・・・Cmnはスイッチングトランジ
スタによるメモリ機能を持つ画素回路が構成されており
、ここに各画素の画像情報が蓄えられ、この情報に従っ
てマトリクスアレイ上に設けられた液晶、F、L又はE
b層の各画素に対応した領域で表示が実現されるように
なっている。
具体的な画素回路は第2又又は第3(ス1に示されるよ
うな単純な構成のものが使用されている。
これは高精細な表示画面を得るためには、マトリクスの
大きさm’nが非常に大きくなり、高歩留りでマトリz
スアレイを作成するために&jユニーシ単純な回路が望
まれるためである。第2図は、液晶駆動に用いられる画
素回路で実質的に直流、駆動で表示を行なう場合、第3
図はEL辰示のときで、又流駆動表示を行なう場合によ
く用いられる回路である。第2図において21はスイッ
チングトランジスタ、22は液晶層、23は画像信号を
蓄積する容量である。トランジスタ21のダートは第1
番目のアドレスラインX。
に接続され、ソース電極は第j釜目のデータラインYj
に接続されている。アドレスラインXi及びデータライ
ンYjはそれぞれv(x、) 、 v(yj)の電源が
接続されている。アドレスラインX、にトランジスタ2
1fON状態にする信号が入ったとき、トランジスタ2
ノのチャンネルが導通し、このときデータラインYjに
用意された画像信号が容量23に蓄積され、ダート電圧
V(Xi)が零の間その信号はC8に記憶される。この
蓄積された画像信号に対応して、液晶22が駆動される
なお、アドレスラインX、上の他のトランジスタも全て
同時にON状態となシ、それぞれ、そのときの各データ
ライン上に用意された画像信号V(Yl) −V(Y2
) −V(Y )が各画素回路c、  、c、  ・・
・n                 11   1
2C1nに蓄積される。同様にしてXi+1.X、+2
・・・というふうに各アドレスラインの順次駆動にょ9
画像信号が次々に蓄積されていき、全画面の信号が書き
込まれることになる。
第3図は2個のスイッチングトランジスタ31a、31
bを用いるもので、画像信号は第2図と同様な原理によ
り、トランジスタ31aのスイッチングにより容量33
に蓄積される。
画素C,の動作タイミングは第2図の場合と同bJ T
ic 7 F’ v スラインX、及びデータラインY
jの電源V(X、) 、 V(Y、)にょシ制御される
。第3図の場合、画像信号は2つ目のトランジスタ31
bのスイッチングを制御1例えはE L層などの表示層
32の駆動を行なう。第3図では第2図と異なシ、表示
層32の一端に与える電圧Vcとして交流電圧を用いる
ことができるため、EL層駆動が可能となる。
以上が第1図に示すトランジスタマトリクスアレイを用
いた薄型表示装置の動作原理であるー第4図は従来のト
ランジスタマトリクスアレイを用いた液晶表示装置の断
面構造を示す図である。絶縁性基板41上に、接地導体
膜42を全面に設け、更に絶縁膜43を形成してこの上
にトランジスタのダート電極螢兼ねるアドレスライン4
4 (441y 442  r・・・)が設けられる。
更にこの上にダート絶縁膜となる絶縁膜45を介して各
画素領域に半導体薄膜46C461゜462 、・・・
)を形成し、それぞれにYアドレスライン(図示せず)
に接続はれるソース電極47(4711472m・・・
)、ドレイン電極と蓄積容量電極を兼ねた表示電極4g
(4sl  。
482、・・・)が設けられる。またこの基板表面は表
示画素領域に孔があけられた絶縁膜49でおおわれてい
る。蓄積容量は、前述のように表示電極38を一方の端
子電極とし、接地導体膜42を他方の端子電極として、
この間に挾まれた絶縁膜43.45を用いて構成されて
いる。
このように構成されたトランジスタマトリクス表示装置
が構成されている。
このようなトランジスタマトリクスアレイにおいては、
接地導体膜42が基板上に一様に設けられるため工程は
比較的単純である。しかし、図示のように絶縁層のピン
ホール53 a 、 5.3b等を通じて、アドレスラ
イン441あるいは表示電極481が接地導体膜42と
短絡することがしはしば生ずる。ピンホール53bによ
る影響は・一つの画素欠陥を生ずるだけであるため、絶
縁層のピンホール密度に比例して、欠陥全改善できる。
ところがピンホール53hによる欠陥は、そのアドレス
ライン441 によって駆動されるすべての画素回路が
動作しなくなるため、線欠陥となってあられれる。ピン
ホール密度を改善してもこのような致命的な線欠陥金全
くなくすむとは大規模なマトリクスアレイでは極めて困
難である。
第5図は、このようなピンホールによる欠陥を除くこと
ができるトランジスタマトリクスアレイを用いた例であ
る。第4図と異なる点は、接地導体膜47?(421,
422、・・・)をアドレスライン44と平行な線状パ
ターンとしてアドレスライン44と同一平面上に配設し
たことである。接地導体膜42は勿論、基板端部で全て
接地電位にバイアスされて使用される。
ところが、この構造では、アドレスライン44により形
成することから、パターン形式のマスクの汚れ、露光エ
ツチング時のゴミの影響等で、これらが十分に所望の・
ぐターンに形成されず、電極材料が一部のこることが生
ずる。
このことは、マトリクスのセルサイズの高精細化により
、アドレスライン44と接地導体膜42の分離領域が狭
くなった場合に、確実な分離が難しくなること全意味す
る。
そして、アドレスライン44と接地導体膜42の短絡箇
所が1つでもあると、これは先のピンホール53aによ
る欠陥の場合と同様に線欠陥となって現われる。
以上のようなアドレスラインの接地電極との短絡は、大
画面の表示装置、大規模なマトリクスアレイ、高精細な
マトリクスアレイでは極めて宣い確率で生じうる。一方
、表示装置としては、このような致命的な線欠陥は一本
でも生ずることが許されないため、従来のトランジスタ
マ) +1クスアレイ構造では、大画面の高精細な表示
装置を実現することが困難であった。
〔発明の目的〕
本発明は上記の点にかんがみ、表示画面の線欠陥を生じ
ることのないトランジスタマトリクスアレイ構造を用い
た薄型表示装置を提供することを目的とする。
〔発明の概要〕
本発明の概要を第6図を参照して説明する。
同図(alは本発明によるトランジスタマトリクスアレ
イのアドレスライン及び接地導体膜部分の構造を示す平
面図、同図(b)はそのA−A’断面図である。即ち本
発明においては、杷縁性基板61上にまず接地導体膜6
2(621,622+・・・)を帯状パターンに複数本
配設し、この上に絶縁膜63を介して接地導体膜62と
平行してこれと重ならないようにアドレスライン64C
641゜642 、・・・)を配設する。
なお、パターニング位置の多少のズレ等は現実に起こ9
うるので接地導体膜62とアドレスライン64とがマス
ク合せずれがあってもMならないように、予め間隙67
を設けておくことが望ましい。間隙67の大きさは、露
光装置によるパターン合わせの許容量程度を考えておけ
ばよい。例えば、第1図でアドレスラインx1からxm
までの長さが10crn程度以下の大きさであれば、前
記間隙67は2μm程度、10cm以上ではその長さの
約2×10 倍(例えば20anでは4μm程度)位が
適当である。しかし、この値はもちろんその露光装置に
依存する。要は前記間隙67が少しでも存在することが
本発明の効果を著しく増大させる。又、絶縁膜63の接
地導体膜62の74ターニング端での完全な絶縁性を保
つためには、絶縁膜63の厚みは接地導体膜62の厚み
以上にすることが望ましい。
〔発明の効果〕
本発明においては、アドレスラインと接地導体膜の接触
はほぼ完全になくなシ、線欠陥のない薄型表示パネルを
高歩留シで実現することができる。本発明の構造でアド
レスラインと接地導体間の接触が生ずるのは、第6図に
示したように、絶縁膜63のピンホール65が、接地導
体膜62の不完全パターニング領域66に重なる場合で
ありて、このように両者の欠陥が同一箇所に生ずること
は最近のIC製造工程においては極めて確率が低く、殆
んど問題にならない。
〔発明の実施例〕
第7図(a) 、 (b)は本発明による一実施例の液
晶表示装置の投影平面図とそのB −B’断面図である
。トランジスタマトリクスアレイの大きさはアドレスラ
イン数220、データライン数240、アドレスライン
のピッチは200μm1データラインのピッチは250
μm1全体の表示部は44X60wnで全部で5640
0個の画素回路からなる。第7図(a) 、 (b)は
その一部を示すものである。
製造工程に従って説明すると、ガラス基板71上に、ま
ず透明導電膜で複数本の接地導体jl’、472(72
1+ y z2  e・・・)を・ぐターニングする。
次に、常圧CVD法によシ約1500Xの厚みのslo
2my s を堆積させ、その上にアドレスライン74
(741r 742  +・・・)を厚さ900XのM
o膜で形成する。接地導体膜72とアドレスライン74
は平行でその間隙75は5μmとしである。しかる後、
CVD法によF)’t”−)酸化膜となるS r 02
膜76を約25001堆積し、次に厚さ2000Xの透
明導電膜で表示電極77 (771゜772 、・・・
)全形成し、アモルファスシリコン膜78 (781m
 782 #・・・)を厚さ1500X堆積してそれぞ
れ露光エツチング技術により所望の大きさにパターニン
グする。そして、厚さ5000XのAt膜によりソース
電極兼データライン79(791,79□ 、・・・)
およびドレイン電極80 (8(71r 802  +
・・・)1!!:形成する。そして厚さ6000Xのス
パッタS iO2膜81を堆積させ表示電極77上の5
iO7膜をエツチング除去してマトリクスアレイを完成
させる。表示ノやネル竹 液晶84を封入保護することにより全工程が終了する。
本実施例の効果を調べるために、第4図および第5図を
示す従来構造のトランジスタマトリクスアレイも試作し
た。それぞれの従来構造のプレイでは、各電極及び絶縁
膜の材料、厚み、Aターンの大きさ及び形成条件は第7
図の実施例と同一としている。その結果、第4図に示す
構造では220本のアドレスラインのうち接地電極と短
絡して線欠陥となったのは約5%であった。又、第5図
のものでは約20係あった。
これに対し本実施例の場合、このような短絡は全くなく
その効果が実証された。
なお本発明は上記実施例に限定されるものではない。例
えば、接地導体膜は透明導′亀膜に限らf、AA1Mo
等パター゛ニング可能ないかなる金属材料であってもよ
いし、アドレスラインもMOに限られない。又、絶縁膜
はS r 02膜に限らず、その製造もCVDの他、ス
パッタ、塗布法、陽極酸化法などを用い得、ム。又、薄
膜トランジスタはアモルファスSl上用いたものに限ら
ず、多結晶Si 、 CdSe 、 CdS 、Te等
十分なスイ、ツチング特性が得られるものならばなんで
もよい。表示材料も液晶に限らず、EL 、EC等でも
可能で、単位画素回路構成も例えば第3図に示すもので
あってもよい。
【図面の簡単な説明】 第1図はトランジスタマトリクスアレイの構成を示す図
、第2図および第3図は画素回路の構成例を示す図、第
4図および第5図は従来のトランジスタマトリクスアレ
イを用いた液晶表示装置の断面図、第6図(a) 、 
(b)は本発明におけるトランジスタマトリクスアレイ
の要部構成を示す平面図とそのA −A’断面図、第7
図(a) 、(b)は本発明による一実施例の液晶表示
装置を示す投影平面図とそのB −B’断面図でおる。 6ノ・・・絶縁性基板、62(621r 622  +
・・・)・・・接地導体膜、63・・・絶縁膜、64(
641゜642 、・・・)・・・アドレスライン、7
1・・・ガラス基板、72(711# 722  h・
・・)・・・接地導体膜、73・・・S iO2膜、7
4 (741* 742  +・・・)・・・アドレス
ライン、76・・・S iO2膜、77 (771゜7
72 、・・・)・・・表示電極、7B (7B、、7
82゜・・・)・・・アモルファスSt膜、79(79
,,792゜・・・)・・・ソース電極兼データライン
、80(801#8θ2 、・・・)・・・ドレイン電
極、81・−・5IO2膜、82・・・透明電極、83
・・・ガラス基板、84・・・液晶O 出願人代理人  弁理士 鈴 江 武 彦第1図 V+  Y2−−− Yj  Yj++ −−Yn第2
図 第 4 図 50 第6図 (a) b’/ (b)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  絶縁性基板上に接地導体膜を介して絶縁膜を
    形成し、この絶縁膜上に、互いに平行に配列された複数
    本のアドレスラインと、これらのアドレスラインと直交
    して互いに平行に配列された複数本のデータラインと、
    これらデータラインとアドレスラインの各交点位置に配
    置されソース、ダートがそれぞれデータライン、アドレ
    スラインに接続された複数のスイッチングトランジスタ
    と、これら各スイッチングトランジスタのドレインに一
    端が接続され他端が前記接地導体膜に接続された蓄積容
    量とを集積形成してなるトランジスタマトリクスアレイ
    を用いて表示素子を駆動する薄型表示装置において、前
    記接地導体膜を、前記アドレスラインと平行してかつア
    ドレスラインと重ならないように複数本の帯状パターン
    に配設したことを特徴とする薄型表示装置。
  2. (2)  前記表示素子が液晶であり、bjJ記スイス
    イツチングトランジスタ膜トランジスタである特許請求
    の範囲第1項記載の薄型表示装置。
JP57226716A 1982-12-27 1982-12-27 薄型表示装置 Granted JPS59119379A (ja)

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JPH0155460B2 JPH0155460B2 (ja) 1989-11-24

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Cited By (3)

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