JPH01303415A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
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- JPH01303415A JPH01303415A JP63134979A JP13497988A JPH01303415A JP H01303415 A JPH01303415 A JP H01303415A JP 63134979 A JP63134979 A JP 63134979A JP 13497988 A JP13497988 A JP 13497988A JP H01303415 A JPH01303415 A JP H01303415A
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- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 39
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136213—Storage capacitors associated with the pixel electrode
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は非線形素子を用いて液晶を駆動する、いわゆる
アクティブ・マトリクス方式の液晶表示装置、特にその
アクティブマl−IJクス基板の構造に関するものであ
る。
アクティブ・マトリクス方式の液晶表示装置、特にその
アクティブマl−IJクス基板の構造に関するものであ
る。
従来の技術
従来、液晶表示装置(LCD)は時計、電卓を中心とし
て利用されてきたが、今後の新規用途分野としては、テ
レビ、ビューファインダー、ビデオモニターといった映
像表示分野やコンピュータ用の端末等、大画面化、高密
度化といった大容量表示素子としての要求が高まってき
ている。
て利用されてきたが、今後の新規用途分野としては、テ
レビ、ビューファインダー、ビデオモニターといった映
像表示分野やコンピュータ用の端末等、大画面化、高密
度化といった大容量表示素子としての要求が高まってき
ている。
しかし、従来の単純マトリクス方式ではクロストークの
問題があり、電圧平均化法による駆動ではコントラスト
が5:1〜15:1程度で十分な画質が得られていない
。そのため、非線形素子、例えば薄膜トランジスタ(T
FT)などを液晶駆動素子として画素毎に設け、スイッ
チ素子としてクロストークの問題を改善し、更にはスイ
ッチ素子に映像信号の保持を目的として蓄積コンデンサ
を設けることにより、コントラスト40:1以上の高画
質を達成している。更に、蓄積コンデンサの一方側の電
極を共通電極で形成することにより、駆動方法の工夫に
より消費電力の低減を達成している。
問題があり、電圧平均化法による駆動ではコントラスト
が5:1〜15:1程度で十分な画質が得られていない
。そのため、非線形素子、例えば薄膜トランジスタ(T
FT)などを液晶駆動素子として画素毎に設け、スイッ
チ素子としてクロストークの問題を改善し、更にはスイ
ッチ素子に映像信号の保持を目的として蓄積コンデンサ
を設けることにより、コントラスト40:1以上の高画
質を達成している。更に、蓄積コンデンサの一方側の電
極を共通電極で形成することにより、駆動方法の工夫に
より消費電力の低減を達成している。
第3図ja)は従来のマトリクス状に配列されたTFT
と蓄積コンデンサの等価回路を示し、同図(blは液晶
表示装置の断面図を示している。
と蓄積コンデンサの等価回路を示し、同図(blは液晶
表示装置の断面図を示している。
図中1は映像信号を供給する信号配線(Vsl。
VS2.・・・ )、2は走査信号を供給するゲート配
線(VGI、VO2,VO2・ )、3はTFT、4は
蓄積コンデンサ、5は画素電極部の液晶誘電体を示し、
6は対向基板7側に設けられた対抗電極8に印加される
信号VCOMの供給端である。更に同図(b)において
9は液晶、10はアクティブ素子11の形成されたTF
Tアレー基板、12は信号配線あるいはゲート配線の取
り出し電極、13は/−ルを示す。
線(VGI、VO2,VO2・ )、3はTFT、4は
蓄積コンデンサ、5は画素電極部の液晶誘電体を示し、
6は対向基板7側に設けられた対抗電極8に印加される
信号VCOMの供給端である。更に同図(b)において
9は液晶、10はアクティブ素子11の形成されたTF
Tアレー基板、12は信号配線あるいはゲート配線の取
り出し電極、13は/−ルを示す。
更に第4図(a)に従来の1画素部の平面図、同図1′
a)のA−8線によるTFT部の断面図を同図fblに
、同図(ajのC−O線による蓄積コンデンサ部の断面
図を同図ic)に示している。
a)のA−8線によるTFT部の断面図を同図fblに
、同図(ajのC−O線による蓄積コンデンサ部の断面
図を同図ic)に示している。
第4図においてアレー基板10上に蓄積コンデンサの共
通電極となる透明性導電膜(例えばi To)24をバ
タン化し、その上に蓄積コンデンサの誘電体となる絶縁
膜23を全面形成する。その上にゲート電極16、画素
電極となる透明性導電膜15をそれぞれ形成バタン化す
る。その後TFTのゲート絶縁膜22、チャネル18、
チャネル保護膜として絶縁性膜17を形成し、画素電極
15へのコンタクトホール19を形成しドレイン電極2
1と結合する。またリース電極2oは信号配線として取
り出し電極へ接続される。以上の様にしてTFTがマト
リクス状に形成されたTFTアレー基板が構成される。
通電極となる透明性導電膜(例えばi To)24をバ
タン化し、その上に蓄積コンデンサの誘電体となる絶縁
膜23を全面形成する。その上にゲート電極16、画素
電極となる透明性導電膜15をそれぞれ形成バタン化す
る。その後TFTのゲート絶縁膜22、チャネル18、
チャネル保護膜として絶縁性膜17を形成し、画素電極
15へのコンタクトホール19を形成しドレイン電極2
1と結合する。またリース電極2oは信号配線として取
り出し電極へ接続される。以上の様にしてTFTがマト
リクス状に形成されたTFTアレー基板が構成される。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記の構造においては、TPTアレー基板
の構造が複雑であり、各部での絶縁j莫のピンホール、
異物によるショート不良、例えばゲートとリースのクロ
スショート、蓄積コンデンサ部のショート不良が発生す
る。このため画像品質において最も重要な課題である点
欠陥不良率が高<TFTによるLCDパネルの歩留りは
低く、製造コストが高くなるという問題点を有していた
。
の構造が複雑であり、各部での絶縁j莫のピンホール、
異物によるショート不良、例えばゲートとリースのクロ
スショート、蓄積コンデンサ部のショート不良が発生す
る。このため画像品質において最も重要な課題である点
欠陥不良率が高<TFTによるLCDパネルの歩留りは
低く、製造コストが高くなるという問題点を有していた
。
本発明はかかる点に鑑み、蓄積コンデンサ部のショート
不良を、表示品質に影響しない程度に修復し、TFTア
レー基板の歩留りを向上させる液晶表示装置の構造を提
供することを目的とする。
不良を、表示品質に影響しない程度に修復し、TFTア
レー基板の歩留りを向上させる液晶表示装置の構造を提
供することを目的とする。
課題を解決するための手段
本発明は、画素毎のTFTに接続された蓄積コンデンサ
の一方の電極をマスクパタンでリソグラフィー技術を用
いて複数分割した構造に形成するものである。
の一方の電極をマスクパタンでリソグラフィー技術を用
いて複数分割した構造に形成するものである。
作 用
本発明は前記した手段によって得られた構造をもつ液晶
表示装置を提供することにより、蓄積コンデンサ部のシ
ョート不良を複数分割のコンデンサのうちショート不良
を発生させているコンデンサのみを顕微鏡下で選別しく
実際の不良箇所は2〜10μm程度のものがほとんどで
判断可能である。)、そのコンデンサをレーザー等で破
壊し切り離す。蓄積容量は分割数の逆数程度低下するが
、実際の画ゆでは画素密度により異なり、2分割〜4分
割で実用可能な輝度低下の範囲にあり、蓄積コンデンサ
部のショート不良か低減できる。
表示装置を提供することにより、蓄積コンデンサ部のシ
ョート不良を複数分割のコンデンサのうちショート不良
を発生させているコンデンサのみを顕微鏡下で選別しく
実際の不良箇所は2〜10μm程度のものがほとんどで
判断可能である。)、そのコンデンサをレーザー等で破
壊し切り離す。蓄積容量は分割数の逆数程度低下するが
、実際の画ゆでは画素密度により異なり、2分割〜4分
割で実用可能な輝度低下の範囲にあり、蓄積コンデンサ
部のショート不良か低減できる。
実施例
第1図は本発明の第1の実施例における液晶表示装置の
TFTアレー基板上に形成される1画素の平面図aと、
同図1:a)のE−F線にょる蓄積コンデンサ部の断面
図すを示すものである。従来の第4図j=)、 (e)
と異なるのは、蓄積コンデンサの共通電極14と画素電
極15の形状だけであり、第1図(aL (b)に示す
様に、画素電極15と共通電極14の重なり合う部分の
共通電極14側が2分割されており、蓄積コンデンサが
1画素で2個の並列接続の形でドレイン電極21に結合
される。しかるに、この2つに分割された共通電極14
をもつ蓄積コンデンサの誘電体となる絶縁膜23がどち
らかでショート不良を発生した場合、第1図!a)のa
−bとd−eあるいはb −cとe −fの共通電極
14を2箇所レーザー等で破壊分離させることによりシ
ョート不良が修復できる。
TFTアレー基板上に形成される1画素の平面図aと、
同図1:a)のE−F線にょる蓄積コンデンサ部の断面
図すを示すものである。従来の第4図j=)、 (e)
と異なるのは、蓄積コンデンサの共通電極14と画素電
極15の形状だけであり、第1図(aL (b)に示す
様に、画素電極15と共通電極14の重なり合う部分の
共通電極14側が2分割されており、蓄積コンデンサが
1画素で2個の並列接続の形でドレイン電極21に結合
される。しかるに、この2つに分割された共通電極14
をもつ蓄積コンデンサの誘電体となる絶縁膜23がどち
らかでショート不良を発生した場合、第1図!a)のa
−bとd−eあるいはb −cとe −fの共通電極
14を2箇所レーザー等で破壊分離させることによりシ
ョート不良が修復できる。
以上の様に本実施例によれば、蓄積コンテンサの共通電
極14を2分割することにより、蓄積コンデンサ部のシ
ョート不良を低減することができる。
極14を2分割することにより、蓄積コンデンサ部のシ
ョート不良を低減することができる。
第2図は本発明の第2の実施例における液晶表示装置の
TF丁アレー基板上に形成される1画素の平面図1と、
同図(atのE−F線による蓄積コンデンサ部の断面図
すを示すものである。従来の第4図faL (c)と異
なるのは蓄積コンデンサの共通電極14と画素電極15
の形状だけであり、第2図(a)。
TF丁アレー基板上に形成される1画素の平面図1と、
同図(atのE−F線による蓄積コンデンサ部の断面図
すを示すものである。従来の第4図faL (c)と異
なるのは蓄積コンデンサの共通電極14と画素電極15
の形状だけであり、第2図(a)。
(b)に示す様に、画素電極15と共通電極14の重な
りあう部分の共通電極14側が2分割されており、蓄積
コンデンサが1画素で2個の並列接続の形でドレイン電
極21に結合される。しかるに、この2つに分割された
共通電極14をもつコンデンサの誘電体となる絶縁膜2
3がどちらか一方でショート不良を発生した場合、第2
図(a)のg−h部の共通電極14を1箇所レーザー等
で破壊分離させることによりショート不良が修復できる
。
りあう部分の共通電極14側が2分割されており、蓄積
コンデンサが1画素で2個の並列接続の形でドレイン電
極21に結合される。しかるに、この2つに分割された
共通電極14をもつコンデンサの誘電体となる絶縁膜2
3がどちらか一方でショート不良を発生した場合、第2
図(a)のg−h部の共通電極14を1箇所レーザー等
で破壊分離させることによりショート不良が修復できる
。
以上の様に本実施例によれば、蓄積コンデンサの共通電
極を2分割することにより、一箇所の破壊分離のみで蓄
積コンデンサ部のショート不良を低減することができる
。
極を2分割することにより、一箇所の破壊分離のみで蓄
積コンデンサ部のショート不良を低減することができる
。
尚、第1の実施例、第2の実施例において共通電極14
の分割数は、ショート不良、修復後の画像品質への影響
度に関係しており、画素密度、画素配列、画素サイズ、
画素形状等により3以上としても良い。
の分割数は、ショート不良、修復後の画像品質への影響
度に関係しており、画素密度、画素配列、画素サイズ、
画素形状等により3以上としても良い。
発明の詳細
な説明した様に、本発明によれば、アクティブ方式の液
晶表示装置において、蓄積コンデンサ部のショート不良
が修復可能であり、その実用的効果は大きいものである
。
晶表示装置において、蓄積コンデンサ部のショート不良
が修復可能であり、その実用的効果は大きいものである
。
第1図(aL (b)は本発明による第1の実施例の液
晶表示装置のTFTアレー基板側の1画素の平面図と蓄
積コンデンサ部の断面図、第2図(a)、 (b)は本
発明による第2の実施例の液晶表示装置のTFTアレー
基板側の1画素の平面図と蓄積コンデンサ部の断面図、
第3図tり、 fb)は従来のアクティブ方式液晶表示
装置のTFTアレー基板側のマlクス等価回路図とパネ
ル断面図、第4図(aL (b)、 FC)は従来のア
クティブ方式液晶表示装置のTFTアレー基板側の1画
素の平面図とTFT部の断面図および蓄積コンデンサ部
の断面図である。 10・・・・TFTアレー基板、14・・・・・共通電
極、15 ・・・・画素電極、23・・・・・・蓄積コ
ンデンサ用絶縁膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 はか1名第3
図 (Dノ オ (b) 第4図 (αう □ /7 /8 c 第4図 (b) (C) 22 イ5 / /
晶表示装置のTFTアレー基板側の1画素の平面図と蓄
積コンデンサ部の断面図、第2図(a)、 (b)は本
発明による第2の実施例の液晶表示装置のTFTアレー
基板側の1画素の平面図と蓄積コンデンサ部の断面図、
第3図tり、 fb)は従来のアクティブ方式液晶表示
装置のTFTアレー基板側のマlクス等価回路図とパネ
ル断面図、第4図(aL (b)、 FC)は従来のア
クティブ方式液晶表示装置のTFTアレー基板側の1画
素の平面図とTFT部の断面図および蓄積コンデンサ部
の断面図である。 10・・・・TFTアレー基板、14・・・・・共通電
極、15 ・・・・画素電極、23・・・・・・蓄積コ
ンデンサ用絶縁膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 はか1名第3
図 (Dノ オ (b) 第4図 (αう □ /7 /8 c 第4図 (b) (C) 22 イ5 / /
Claims (1)
- 一対の基板間に封入された液晶と、前記基板の一方の
基板上にマトリクス状に配列された薄膜トランジスタと
、前記薄膜トランジスタのソース電極に接続されてなる
信号配線と、前記薄膜トランジスタのゲート電極に接続
されてなるゲート配線と、前記薄膜トランジスタのドレ
イン電極に接続されてなる画素電極と、前記画素電極に
対して形成される蓄積コンデンサのもう一方の電極を有
した液晶表示装置において、前記蓄積コンデンサを形成
する前記画素電極に対するもう一方の電極が前記画素電
極パタンの占める領域において複数に分割されているこ
とを特徴とする液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13497988A JPH0750278B2 (ja) | 1988-06-01 | 1988-06-01 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13497988A JPH0750278B2 (ja) | 1988-06-01 | 1988-06-01 | 液晶表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01303415A true JPH01303415A (ja) | 1989-12-07 |
JPH0750278B2 JPH0750278B2 (ja) | 1995-05-31 |
Family
ID=15141081
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13497988A Expired - Fee Related JPH0750278B2 (ja) | 1988-06-01 | 1988-06-01 | 液晶表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0750278B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0329929U (ja) * | 1989-07-31 | 1991-03-25 | ||
EP0514029A2 (en) * | 1991-05-15 | 1992-11-19 | International Business Machines Corporation | Liquid crystal display apparatus |
JPH08893U (ja) * | 1994-10-28 | 1996-05-31 | 三洋電機株式会社 | 液晶表示装置 |
WO2006064832A1 (ja) | 2004-12-16 | 2006-06-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | アクティブマトリクス基板、アクティブマトリクス基板の製造方法、表示装置、液晶表示装置およびテレビジョン装置 |
US7430024B2 (en) | 2004-01-28 | 2008-09-30 | Sharp Kabushiki Kaisha | Active matrix substrate and display device |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01267520A (ja) * | 1988-04-19 | 1989-10-25 | Seiko Epson Corp | 表示装置 |
-
1988
- 1988-06-01 JP JP13497988A patent/JPH0750278B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH01267520A (ja) * | 1988-04-19 | 1989-10-25 | Seiko Epson Corp | 表示装置 |
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EP0514029A3 (en) * | 1991-05-15 | 1993-02-24 | International Business Machines Corporation | Liquid crystal display apparatus |
JPH08893U (ja) * | 1994-10-28 | 1996-05-31 | 三洋電機株式会社 | 液晶表示装置 |
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US7830467B2 (en) | 2004-01-28 | 2010-11-09 | Sharp Kabushiki Kaisha | Electrodes located at storage capacitor wiring in active matrix substrate |
WO2006064832A1 (ja) | 2004-12-16 | 2006-06-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | アクティブマトリクス基板、アクティブマトリクス基板の製造方法、表示装置、液晶表示装置およびテレビジョン装置 |
US7714948B2 (en) | 2004-12-16 | 2010-05-11 | Sharp Kabushiki Kaisha | Active matrix substrate, method for fabricating active matrix substrate, display device, liquid crystal display device, and television device |
US7768584B2 (en) | 2004-12-16 | 2010-08-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Active matrix substrate, method for fabricating active matrix substrate, display device, liquid crystal display device, and television device |
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