JPS59117117A - ペリクル保護膜用フレ−ム - Google Patents
ペリクル保護膜用フレ−ムInfo
- Publication number
- JPS59117117A JPS59117117A JP57226009A JP22600982A JPS59117117A JP S59117117 A JPS59117117 A JP S59117117A JP 57226009 A JP57226009 A JP 57226009A JP 22600982 A JP22600982 A JP 22600982A JP S59117117 A JPS59117117 A JP S59117117A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frame
- substrate
- pellicle
- protecting film
- inspection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/94—Investigating contamination, e.g. dust
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、フォトマスクやレチクル表面に異物が付着す
るのを防止する目的で用いるペリクル保護膜の、装着後
の異物検査が容易なフレームの構造に関する。
るのを防止する目的で用いるペリクル保護膜の、装着後
の異物検査が容易なフレームの構造に関する。
ガラスや石英などの透明薄板にクロムなどの層を形成し
、これをエツチングすることにより微細な透明、不透明
のパターンを形成する基板の表面に異物が存在すると、
露光の際に異物の影も転写され不良が発生する。そこで
通常、異物検査装置により基板面の検査を行なう。第１
図は検査装置の概略を示したものである。基板１の上に
Ｓ偏光レーザ光４を照射すると、異物がない時にはＳ偏
光６だけが散乱される。異物５があると、その不規則な
形状によりＰ偏光７も散乱される。これをレンズ８で集
光し、偏光板９を透過させるとＰ偏光成分７のみが受光
器１０に入り、これにより異物の検化が行われる。
、これをエツチングすることにより微細な透明、不透明
のパターンを形成する基板の表面に異物が存在すると、
露光の際に異物の影も転写され不良が発生する。そこで
通常、異物検査装置により基板面の検査を行なう。第１
図は検査装置の概略を示したものである。基板１の上に
Ｓ偏光レーザ光４を照射すると、異物がない時にはＳ偏
光６だけが散乱される。異物５があると、その不規則な
形状によりＰ偏光７も散乱される。これをレンズ８で集
光し、偏光板９を透過させるとＰ偏光成分７のみが受光
器１０に入り、これにより異物の検化が行われる。
レーザ光４と基板１とのなす角は、できるだけ小さい方
がよい。ところでこの装置を使って検査した後も、異物
が付着することがある。そこで、最近ペリクル保護膜を
基板に装着する動きがでてきた。ペリクル保護膜は、第
２図に示すようにアルミ製のフレーム２にニトロセルロ
ースの薄膜６を形成したもので、基板１と空気との直接
々触を避け、たとえ異物が薄膜６に付着１−ても、露光
々学系の焦点深度が浅いために、結党により異物の形が
転写されにくいという特徴を持っている。ところで基板
洗浄後、異物検査してからペリクル保護膜装着までにも
基板に異物が付着することが考えられるため、ペリクル
保護膜装着後の基板面の異物検査が必要である。しかし
、第１図の方法を使おうとすると、従来は第６図に示す
ように不透明なフレーム２により、レーザ光４が反射さ
れ検査できず、かといってフレームにあたらないように
レーザ光の入射角度を小さくしていくと、パターンから
の散乱光のレベルが大きくなり異物の検出が不可能にな
るという欠点があった。
がよい。ところでこの装置を使って検査した後も、異物
が付着することがある。そこで、最近ペリクル保護膜を
基板に装着する動きがでてきた。ペリクル保護膜は、第
２図に示すようにアルミ製のフレーム２にニトロセルロ
ースの薄膜６を形成したもので、基板１と空気との直接
々触を避け、たとえ異物が薄膜６に付着１−ても、露光
々学系の焦点深度が浅いために、結党により異物の形が
転写されにくいという特徴を持っている。ところで基板
洗浄後、異物検査してからペリクル保護膜装着までにも
基板に異物が付着することが考えられるため、ペリクル
保護膜装着後の基板面の異物検査が必要である。しかし
、第１図の方法を使おうとすると、従来は第６図に示す
ように不透明なフレーム２により、レーザ光４が反射さ
れ検査できず、かといってフレームにあたらないように
レーザ光の入射角度を小さくしていくと、パターンから
の散乱光のレベルが大きくなり異物の検出が不可能にな
るという欠点があった。
本発明の目的は、ペリクル保護膜装着後も容易に基板面
の異物検査が行えるような、ペリクル保護膜用フレーム
を提供することにある。
の異物検査が行えるような、ペリクル保護膜用フレーム
を提供することにある。
ペリクル保護膜装着後にも異物検査を可能たらしめるに
は、検査用のレーザ光が基板面に到達できるよう、ペリ
クル保護膜用フレームの一部又は全部を透明の物質で構
成すればよい。ただし、この場合、レーザ光の偏光を乱
すものであってはならない。
は、検査用のレーザ光が基板面に到達できるよう、ペリ
クル保護膜用フレームの一部又は全部を透明の物質で構
成すればよい。ただし、この場合、レーザ光の偏光を乱
すものであってはならない。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第４図（ａ）は、不透明の物質、例えばアルミニウムか
ら成るフレーム１２の一部をくり抜いて、ここに透明の
薄膜１１、例えばニトロセルロース膜を形成したもので
ある。これによりレーザ光は薄膜１１を透過して基板上
に到達し、異物検査が可能となる。第５図は、その実施
形態の一例を示している。フレーム１２には検査用レー
ザ光の走査方向にあわせ、長いくり抜きを行ない、ここ
に薄膜１１が形成されている。
ら成るフレーム１２の一部をくり抜いて、ここに透明の
薄膜１１、例えばニトロセルロース膜を形成したもので
ある。これによりレーザ光は薄膜１１を透過して基板上
に到達し、異物検査が可能となる。第５図は、その実施
形態の一例を示している。フレーム１２には検査用レー
ザ光の走査方向にあわせ、長いくり抜きを行ない、ここ
に薄膜１１が形成されている。
一方第４図（ｂ）は、フレームの一部あるいは全てを透
明のプラスチックないしガラスで形成するものであり、
透明フレーム１６により直接薄膜が保持されている。
明のプラスチックないしガラスで形成するものであり、
透明フレーム１６により直接薄膜が保持されている。
このようにして、第１図に示す装置により、ペリクル保
護膜装着後にも基板の異物検査が可能となる。
護膜装着後にも基板の異物検査が可能となる。
本発明によれば、ペリクル保護膜装着後も、随時、基板
の異物検査が可能なため、異物による不良発生率を小さ
く押えることができ、スループットの向上に大きく寄与
できるという効果がある。
の異物検査が可能なため、異物による不良発生率を小さ
く押えることができ、スループットの向上に大きく寄与
できるという効果がある。
第１図は、異物検査装置の原理図、
第２図は、従来のペリクル保護膜の構造を示す斜視図、
第３図は、従来のペリクル保護膜を装着した時に異物検
査できない理由を示す断面図、第４図は、本発明の一実
施例の断面図、第５図は同じ〈実施形態を示す斜視図で
ある。 符号の説明 １・・・・・基板、２・・・・・フレーム、３・・・・
・ペリクル保護膜代理人弁理士 薄 １）利、申；Ｊ 箒 １ 図 第 ２ 図 羊 ３ 図
査できない理由を示す断面図、第４図は、本発明の一実
施例の断面図、第５図は同じ〈実施形態を示す斜視図で
ある。 符号の説明 １・・・・・基板、２・・・・・フレーム、３・・・・
・ペリクル保護膜代理人弁理士 薄 １）利、申；Ｊ 箒 １ 図 第 ２ 図 羊 ３ 図
Claims (1)
- １ 半導体製造に用いられるフォトマスクやレチクル等
の基板表面への異物付着防止のために基板面から一定の
距離を離して、薄い透明膜のカバーを装着するペリクル
保護膜において、装着後にも基板面の異物検査が容易に
できるように、その一部又は全部を検査用の光を透過す
る物質で構成することを特徴とするペリクル８ ｍ ’
ｄ％ 用フレーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57226009A JPS59117117A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | ペリクル保護膜用フレ−ム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57226009A JPS59117117A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | ペリクル保護膜用フレ−ム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59117117A true JPS59117117A (ja) | 1984-07-06 |
Family
ID=16838355
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57226009A Pending JPS59117117A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | ペリクル保護膜用フレ−ム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59117117A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5008156A (en) * | 1986-11-07 | 1991-04-16 | Exion Technology, Inc. | Photochemically stable mid and deep ultraviolet pellicles |
| JP2011007935A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル |
-
1982
- 1982-12-24 JP JP57226009A patent/JPS59117117A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5008156A (en) * | 1986-11-07 | 1991-04-16 | Exion Technology, Inc. | Photochemically stable mid and deep ultraviolet pellicles |
| JP2011007935A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル |
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