JPS59111992A - 人工ベリル単結晶の合成方法 - Google Patents

人工ベリル単結晶の合成方法

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JPS59111992A
JPS59111992A JP57220821A JP22082182A JPS59111992A JP S59111992 A JPS59111992 A JP S59111992A JP 57220821 A JP57220821 A JP 57220821A JP 22082182 A JP22082182 A JP 22082182A JP S59111992 A JPS59111992 A JP S59111992A
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JP
Japan
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molten salt
raw material
beryl
single crystal
zone
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JP57220821A
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Inventor
Koji Kasuga
春日 好治
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Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
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Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B9/00Single-crystal growth from melt solutions using molten solvents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/34Silicates

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は溶剤(フラックス)を用いた人工ベリル単結晶
(六方晶系)の合成方法に関し、詳しくは溶融塩より良
質なベリル単結晶を効率よく且つ経済的に合成する方法
に関するものである。
゛エメラルドに代表される宝石部材或はマイクロウェー
ブ部材その他工業部材への応用としての人工ベリルは近
時その需要も増大の傾向にあるところで、これまでの人
工ベリルの合成方法としては水熱法、溶剤を用いた溶融
塩法が知られているが、本発明の指向される所は、この
溶゛融塩法の改良に属する。
溶融塩法は水熱法に較べ使用エネルギー(熱。
圧カン及び育成時間が短かく、装置、使用部材が大巾に
簡略化でき経済的であるという利便をもたらせた。すな
わち、溶融塩法は、はぼベリルの組成比を示す、酸化ベ
リリウム、酸化アルミニウム及び二酸化ケイ素、必要に
応じて酸化クロム、(これはエメラルドを得る場合のエ
メラルドグリーンの基調色となる不可欠の着色剤もしく
はドープ剤)及び酸化ニッケル、酸化鉄、酸化コバルト
酸化マンガンその他の補助着色剤もしくはドープ剤から
なる原料物質に、溶剤としての五酸化バナジウム、三酸
化モリブデン、モリブデン酸リチウム、水酸化リチウム
等の溶剤から選ばれた1種もしくは2種以上を加え、こ
れを上記溶剤の溶融温度以上に加熱して溶融塩を形成し
て、この溶融塩に温度差をつけて長時間保持するか或は
一定時間保持後、ゆるやかな温度勾配をもって徐冷する
かいづれかの操作で溶融塩中にベリル種子結晶を配置す
ることによりこの種子結晶の囲りに人工ベリルを生成又
は育成する方法である。
この様に溶融塩法は融点以上、通常700℃〜1100
℃の温度範囲において生成又は育成することができるが
、結晶中にインクルージヨンを含まない良質のベリル単
結晶育成となると、ルツボ炉の温度プロファイル、成長
速度、溶剤の種類等いくつもの管理すべきポイントがあ
る。またインだものすなわちフェザ−インクルージヨン
と、ツェナカイト等、同一ルツボ内でベリルと同様に生
成する結晶性物質等をとり込んだものと力fあり、宝石
として最も重要なポイントである透明度低下の主原因に
なっている。これらのインクルージヨンは溶融塩法によ
る人工ベリル単結晶合成においては現段階まではさけら
れないことであり、これらが人工ベリル単結晶の品質上
最大の問題となっている。
なぜ溶融塩やツェナカイト等を結晶中に取り込むかその
原因の第1は、結晶成長スピードをコントロールできな
い為に生ずる結晶中の内部応力によって割れが発生し、
その割れに侵入した溶融塩がとじこめられて、フェザ−
インクルージヨンが発生するものである。又、第2は、
結晶成長スピードをコントロールできない為に生ずる種
子結晶表面のパンチングである。いずれの原因について
も結晶成長スピードを長期間一定にしかも低成長に管理
すれば発生を防止することが可能である。
以上のごとく良質な人工ベリル単結晶を合成するには、
温度コントロールと結晶成長スピードの管理が主なポイ
ントになる。本発明は、特に結晶成長スピードをコント
ロールする為に、ガラス化又は焼結化させた原料物質(
酸化ベリリウム、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素1着
色剤としての酸化クロム等)と、石英を用いるとともに
、さらにルツボ内をバッフルで3つに分け、それぞれ、
原料物質溶解ゾーン、種子結晶育成ゾーン、石英溶解ゾ
ーンとし、そのいずれのゾーンも温度管理を行うことに
よって溶解量をコントロールするとともに、種子結晶ゾ
ーンへの原料物質の輸送量もコントロールすることを特
徴としたものであり、本発明の効果をより一層明確にす
る為に実施例をまじえて詳細に説明する。
実施例1 (1)原料 酸化ベリリウム   4.11 酸化アルミニウム  5,52 酸化クロム     0,3f 上記原料物質を混合焼結した。
二酸化ケイ素は、当初5vを切断して用い、以後2t/
Wで追加した。
溶剤はモリブデン酸リチウムと三酸化モリブデンを1=
1の割合で4001用いた。
(2)装置及び方法 一上記の物質を投入する容器には白金ルツボを使用した
。加熱は図1の装置を用いた。
αゾーンに焼結体(酸化ベリリ、ウム、酸化アルミニウ
ム、酸化クロム)を投入した、bゾーンには、種子結晶
を投入した、Cゾーンには、石英を投入した。
加熱温度は、αゾーン980 ”Cs b7”−ン85
0°C1Cゾ一ン870℃に設定した。
(3)結果 種子結晶成長スピードを長時間一定に保持でき育成した
ベリル単結晶においてインクルージヨンの発生はみとめ
られない。
実施例2 (1)原料 原料物質は実施例1と同じ 溶剤は、モリブデン酸リチウム、三酸化モリブデン9五
酸化バナジウムを1 : 1. : 1の割合で400
1用いた。
(2)装置及び方法 装置及び容器内のレイアウトは実施例1と同じ加熱温度
は、αゾーン925°C,bジ−2900°C,αゾー
ン920°Cに設定した。
(3)結果 種子結晶成長スピードを長時間一定に保持でき育成した
ベリル単結晶においてインクルージヨンの発生はみとめ
られない。
実施例3 (1)原料 原料物質は実施例1と同じ 溶剤は、五酸化バナジウム、水酸化リチウムを10:1
の割合で4001用いた。
(2)装置及び方法 装置及び容器内のレイアウトは実施例1と同じ加熱温度
は、αゾーン1070℃、bジ−21040℃、Cゾー
ン1060℃に設定した。
(8)結果 種子結晶成長スピードを長時間一定に保持でき育成した
ベリル単結晶においてインクルージヨンの発生はみとめ
られない、。
以上実施例にて説明した如くに、本願発咀ハ、従来の溶
融塩法の有する本質的利益を確保した上で、品質向上な
らびに歩留向上が可能となり、大巾なコストダウンを図
れるので本発明は人工ベリル単結晶の合成方法として極
めて有用である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に係る加熱装置の概要を示す図であり
、第1図(α)は本装置の上面図、第1図Cb)は本装
置の正面図を示す。 1・・・・・・加熱装置 2・・・・・・加熱装置のフタ 3・・・・・・ヒーター 4・・・・・・熱電対温度計の測定端子5・・・・・・
原料物質 6・・・・・・種子結晶 7・・・・・・石 英 8・・・・・・原料物質溶解ゾーン 9・・・・・・種子結晶育成ゾーン 10・°゛石英溶解ゾーン 11・・・白金ルツボ 以  1

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. はぼベリル組成比を示す酸化べIJ IJウム、酸化ア
    ルミニウム、二酸化ケイ素及び必要に応じて酸化クロム
    その他の着色剤を加えてなる原料物質に溶剤としてのモ
    リブデン酸リチウム、三酸化モリブデン、水酸化リチウ
    ム、五酸化バナジウム等の中から選ばれた、1種又は2
    種以上を加えて、これを上記溶剤の溶融温度以上に加熱
    して溶融塩を形成して人工ベリル単結晶を合成又は育成
    する方法において、上記原料物質の内1種又は2種以上
    を焼結化又はガラス化せしめて、上記溶融塩又はあらか
    じめ少量の上記原料物質の1種又は2種以上を粉末で混
    合した溶融塩にそれぞれ分離して投入しそれぞれ温度差
    をつけることにより、ベリル単結晶を合成又は育成せし
    めることを特徴とする溶融塩法による人工ベリル単結晶
    の合成方法。
JP57220821A 1982-12-16 1982-12-16 人工ベリル単結晶の合成方法 Granted JPS59111992A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6081099A (ja) * 1983-10-12 1985-05-09 Seiko Epson Corp 人工ベリル単結晶の合成方法
JPS6081084A (ja) * 1983-10-12 1985-05-09 Seiko Epson Corp 人工ベリル単結晶の合成方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6081099A (ja) * 1983-10-12 1985-05-09 Seiko Epson Corp 人工ベリル単結晶の合成方法
JPS6081084A (ja) * 1983-10-12 1985-05-09 Seiko Epson Corp 人工ベリル単結晶の合成方法

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