JPH0250079B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0250079B2
JPH0250079B2 JP56210471A JP21047181A JPH0250079B2 JP H0250079 B2 JPH0250079 B2 JP H0250079B2 JP 56210471 A JP56210471 A JP 56210471A JP 21047181 A JP21047181 A JP 21047181A JP H0250079 B2 JPH0250079 B2 JP H0250079B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
molten salt
beryl
artificial
oxide
synthesizing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP56210471A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS58115093A (ja
Inventor
Toshuki Hirose
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Matsushima Kogyo KK
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Matsushima Kogyo KK
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushima Kogyo KK, Seiko Epson Corp filed Critical Matsushima Kogyo KK
Priority to JP21047181A priority Critical patent/JPS58115093A/ja
Publication of JPS58115093A publication Critical patent/JPS58115093A/ja
Publication of JPH0250079B2 publication Critical patent/JPH0250079B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/16Oxides
    • C30B29/22Complex oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B9/00Single-crystal growth from melt solutions using molten solvents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Adornments (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は溶剤(フラツクス)を用いた人工ベリ
ル単結晶(六方晶系)の合成方法に関し、詳しく
は溶融塩より良質なベリル単結晶を効率よく且つ
経済的に合成する方法に関するものである。
〔従来の技術〕
エメラルドに代表される宝石部材域は、マイク
ロウエーブ部材その他工業材への応用としての人
工ベリルは近時その需要も増大の傾向にあるとこ
ろで、これまでの人工ベリルの合成方法としては
水熱法、溶剤を用いた溶融塩法が知られている
が、本発明の指向される所は、この溶融塩法の改
良に属する。
溶融温度は水熱法に較べ使用エネルギー(熱、
圧力)及び育成時間が短かく、装置、使用部材が
大巾に簡略化でき経済的であると云う利便をもた
らせた。すなわち、溶融塩法は、ほぼベリルの組
成比を示す、酸化ベリリウム、酸化アルミニウム
及び二酸化硅素、必要に応じて酸化クロム、(こ
れはエメラルドを得る場合のエメラルドグリーン
の基調色となる不可欠の着色剤もしくはドープ
剤)及び酸化ニツケル、酸化鉄、酸化コバルト、
酸化マンガンその他の補助着色剤もしくはドープ
剤からなる原料物質に、溶剤としての五酸化パナ
ジウム、モリブデン酸リチウム、三酸化モリブデ
カ等の溶剤から選ばれた1種もしくは、2種以上
を加え、これを上記溶剤の溶融温度以上に加熱し
て溶融塩を形成して、この溶融塩を一定温度で長
時間保持するか或は一定時間保持後、ゆるやかな
温度勾配をもつて除令するかいずれかの操作で、
溶融塩中にベリル種子結晶を配置することにより
この種子結晶の囲りに人工ベリルを生成又は育成
する方法である。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、溶融塩法は融点以上、通常700
℃〜1050℃の温度範囲において生成又は育成する
ことができるが、結晶中にインクルージヨンを含
まない良質のベリル単結晶育成となると、ルツボ
炉の温度プロフアイル、成長スピード、溶剤の種
類等いくつもの管理すべきポイントがある。また
インクルージヨンには、大きく分けて溶融塩をと
り込んだもの、すなわちフエザーインクルージヨ
ンと、フエナサイト等、同一ルツボ内でベリルと
同様に生成する結晶物等をとり込んだものとがあ
り、宝石として最も重要なポイントである透明度
低下の主原因になつている。これらのインクルー
ジヨンは溶融塩法による人工ベリル単結晶合成に
おいては現段階まではさけられないことであり、
これらが人工ベリル単結晶の品質上最大の問題と
なつている。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の人工ベリル単結晶の合成方法は、 原料物質として酸化ベリリウム、酸化アルミニ
ウム、二酸化硅素及び必要に応じて酸化クロムそ
の他の着色剤とからなり、これに溶剤としての、
モリブデン酸リチウム、三酸化モリブデン、五酸
化パナジウム等の中から選ばれた、1種又は2種
以上を加えて、これを上記溶剤の溶融温度以上に
加熱して溶融塩を形成して人工ベリル単結晶を合
成又は育成する方法に於いて、 前記原料物質を焼結して前記溶融塩中に投入す
るとともに、別に前記溶融塩中に石英塊を投入し
てベリル単結晶を合成又は育成することを特徴と
する。
なぜ溶融塩やフエナサイト等を結晶中に取り込
むか、その原因は結晶表面でバンチングを起して
いる為である。バンチングをおさえる方法として
は、ルツボ炉の温度コントロールを充分に行い、
長期に渡つて一定温度に保つことはもちろんであ
るが、最良の方法は結晶成長スピードを1日当り
0.03mmにおさえて種子結晶表面でバンチングが生
じにくくすることが重要である。結晶成長スピー
ドが1日当り0.03mmで合成又は育成を行うと、多
少のバンチングを起しても、インクルージヨンの
発生を防止することができる。特に結晶成長スピ
ードをコントロールする為に、焼結化させた原料
物質(酸化ベリリウム、酸化アルミニウム、二酸
化硅素、着色剤としての酸化クロム等)の焼結体
と、透明石英塊とを溶融塩中に別々に投入して、
溶解量をコントロールできる様にしたことを特徴
としたものであり、本発明の効果をより一層明確
にする為に下記に実施例を示して詳細に説明す
る。
〔実施例〕
(1) 原料 酸化ベリリウム41.2g、酸化アルミニウム
55.9g、酸化クロム2.9g、二酸化硅素を200g
を秤量混合する。その中より30gを取出し圧粉
成形し1400℃で焼結する。
焼結はケラマツクス炉を用い、1000℃〜1750
℃の範囲で行つた。
溶剤はモリブデン酸リチウムと三酸化モリブ
デンを1:1の割合で400g使用した。
(2) 装置及び方法 以上の物質を投入する容器には白金ルツボを
使用した。加熱は第1図の装置を用い、800℃
〜1000℃までの間で実施した。
(3) 結果 加熱装置の温度と成長スピードの関係は第2
図のとおりであり、成長速度0.03mm/Dを確保
できる範囲は、加熱装置の温度範囲で850℃〜
950℃の範囲であつた。この範囲内において合
成又は育成したベリル単結晶において、インク
ルージヨンの発生はみとめられない。
加熱装置の温度800℃の条件においては、成
長速度が少し低下するが、インクルージヨンの
発生はみとめられない。
〔発明の効果〕
以上の通り、本発明によれば、酸化ベリリウ
ム、酸化アルミニウム、二酸化硅素、必要に応じ
て着色剤を焼結したものと、別に石英塊を投入す
ることにより成長スピードを長期間にわたつてコ
ントロールでき、インクルージヨンのない極めて
すぐれた人工ベリル単結晶を得ることができる効
果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に用いた加熱装置及び、ルツボ
内のレイアウトを示した図。第2図は実施例にも
とづき得られた結果であり、加熱装置温度と成長
スピードの関係を示す図。 1……加熱装置、2……ヒーター、3……白金
ルツボ、4……石英、5……種子結晶、6……溶
融塩、7……焼結原料物質、8……バツフル。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 原料物質として酸化ベリリウムと、酸化アル
    ミニウムと、二酸化珪素及び必要に応じて酸化ク
    ロムその他の着色剤とからなり、これに、少なく
    ともモリブデン酸リチウム、三酸化モリブデンを
    含む溶剤を加えて、これを上記溶剤の溶融温度以
    上に加熱して溶融塩を形成して人工ベリル単結晶
    を合成又は育成する方法に於いて、前記原料物質
    を焼結して前記溶融塩中に投入するとともに、別
    に前記溶融塩中に石英塊を投入してベリル単結晶
    を合成又は育成することを特徴とする人工ベリル
    単結晶の合成方法。
JP21047181A 1981-12-25 1981-12-25 人工ベリル単結晶の合成方法 Granted JPS58115093A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21047181A JPS58115093A (ja) 1981-12-25 1981-12-25 人工ベリル単結晶の合成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21047181A JPS58115093A (ja) 1981-12-25 1981-12-25 人工ベリル単結晶の合成方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58115093A JPS58115093A (ja) 1983-07-08
JPH0250079B2 true JPH0250079B2 (ja) 1990-11-01

Family

ID=16589882

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21047181A Granted JPS58115093A (ja) 1981-12-25 1981-12-25 人工ベリル単結晶の合成方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58115093A (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5414399A (en) * 1977-07-04 1979-02-02 Seiko Epson Corp Production of beryl single crystal

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5414399A (en) * 1977-07-04 1979-02-02 Seiko Epson Corp Production of beryl single crystal

Also Published As

Publication number Publication date
JPS58115093A (ja) 1983-07-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0152359B2 (ja)
US4093502A (en) Process for synthesizing and growing single crystalline beryl
JPH0250079B2 (ja)
JPH0250080B2 (ja)
JPS6317297A (ja) ルビ−単結晶の製造方法
EP0148946B1 (en) Method of producing a chrysoberyl single crystal
JPS59111992A (ja) 人工ベリル単結晶の合成方法
JPS59141486A (ja) 人工トルコ石単結晶の合成方法
JPH06279174A (ja) 酸化物単結晶の製造方法
JPS6081097A (ja) 人工ベリル単結晶の合成方法
JPH0224799B2 (ja)
JPS6081084A (ja) 人工ベリル単結晶の合成方法
JPS6131398A (ja) クリソベリル単結晶の合成方法
JPH0235719B2 (ja) Jinkoberirutanketsushonogoseihoho
JPS5815472B2 (ja) 結晶育成装置
JPH0353278B2 (ja)
JPS6081099A (ja) 人工ベリル単結晶の合成方法
JPS6081100A (ja) 人工ベリル単結晶の合成方法
JPS58115094A (ja) 人工ベリル単結晶の合成方法
JP3681441B2 (ja) CsLiB6O10単結晶の製造方法
JPS6086099A (ja) 人工ベリル単結晶の合成方法
JPS6081095A (ja) 人工ベリル単結晶の合成方法
JPH0222200A (ja) 3−5族化合物半導体単結晶の製造方法
JPH0723280B2 (ja) 単結晶育成方法
JPS6046078B2 (ja) 無機複合酸化物の固溶体組成物の単結晶育成法