JPS5898157A - 流体供給装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は印刷機のインキ供給装置、インキ掻取り装置、
インキ練り装置、紙工機の糊塗布装置、抄紙機のコータ
等に応用できる流体供給装置に関するものである。

インキポンプ・インキレール方式による従来のインキ供
給装置部を第１図に示す。また第２図は第１図のＡ−Ａ
断面図である。インキ供給装置はインキをインキ供給ロ
ーラ（インキ元ローラ、インキ受渡しローラ）（１）に
供給するもので６９、インキ全圧送するポンプも配管系
（共に図示せず）とインキレール（２）とからなってい
る。インキレール（２）の作用は、回転しているインキ
供給ローラ（１）の表面に印刷に必要とする量だけ圧送
されたインキ（３）全均一になすりつけることである。

インキ供給ローラ（１）に塗布されたインキは、練りロ
ーラ（４）側に転移してゆき、印刷に供される。

従来のインキレールでは、圧送されたインキ（３）がロ
ーラ（１）に塗布さｎ１０−ラ（１）が矢印方向に回転
していくと、レール先端部Ｙにおいて、インキの表面に
規則的な凸凹（６）が生じてくる０第１図及び第４図は
、この様な現象の初期状態を模型的に示したものである
。

この表面の凸凹は時間の経過と共に助長され、特に画部
分が成長してインキ塊となシ、これがある時はインキレ
ール外面に流出してインキレール及びその周辺を汚し、
ある時は変速で回転するインキ供給ローラに呼びもどさ
れ、インキが塊状となって供給されて印刷障害となる。

この様々インキ表面の凸凹とその成長流出の現象をここ
ではオ−バフ０−と称しておく。このオーバ７０−の原
因は、インキの物性及びインキ供給ローラとインキレー
ル間の細隙の流動状態にあるものと考えられている。

本発明は前記従来の欠点を解消するために提案されたも
ので、相接する一対の四−ラ、同ローラに接する固定ブ
レード、前記ローラ表面に近接して設けられた固定ガイ
ド等を用いて、粘性流体を一様に薄膜化して供給する゛
装置において、流体が通過した細隙の出口部に、流体の
自由表面に機械的に外乱を与える機構金膜けることによ
り、従来のオーバフローによる不具合を解消すること、
即ちインキレールとその周辺の汚染防止、流出インキを
減らすことによるインキの無駄の除去、インキが塊状で
供給されることによる印刷障害の排除等を目的とする流
体供給装置全提供せんとするものである。

以下本発明の実施例を図面について説明すると、第８図
及び第４図に本発明の実施例であるインキ供給装置を示
す。なお、インキ供給装置の基本的Ａ構造は従来のもの
と同じであるが、第８図は第２図Ａｐ分に相当する部分
の本発明の実施例管示すものである。即ち、回転するイ
ンキ供給ローラ（１）に近接してインキレール（２）が
設けられ、インキ（３）はインキの配管系から圧送され
て、インキレール（２）とインキ供給ローラ（１）との
すきｔ（力に吐出される。インキレール（２）の出口側
先端部Ｙのインキ表面近傍にピアノ線（５）が設けられ
、これが長手方向に振動（揺動）している。なお、イン
キの自由表面に機緘的振動を与える方法としては、前記
ピアノ線に代え、振動する板、音波等でもよく、また振
動の方向は、インキの厚み方向、中方向、流れ方向の何
れでもよい。

次に作用を説明すると、インキレールの出口側先端部Ｙ
でインキの薄膜表面が凸凹（６）になり、それが成長す
ると振動するピアノＭ　（５）に接触し、インキとピア
ノ線（５）との付着力によってインキ表面の凸凹（６）
がならされ、凸凹の成長が止る。

次にインキの掻１！５取り装置の例を、他の実施例の第
５図及び第６図により説明すると、この実施例はローラ
（８）に伺着しているインキ（３）をドクタ（９）にて
掻き取り、一様な薄膜にする例であり、矢印方向にロー
ラ（８）を回転させた時、インキ（３）はほば均一にド
クタ（９）にて掻き取ら扛るが、第６図の如くドクタ（
９）の先端出口側のインキ表面に凸凹（６）が生じ、そ
れが成長して塊状となり、一部はローラ（８）側に呼び
もどされ、インキ（３）の一様薄膜化を阻害する。この
はみ出てくるインキ（３）のところ、即ちインキ（３）
が通過した細隙の出口部に、振動するピアノ！　（５）
があると、はみ出したインキ（３）の成長がなくなり、
ドクタ効果を安定させることができる０ 次にインキ練り装置の例を第７図について説明すると、
供給されたインキ管口−２１’ＰＱＩにてインキを練る
装置に於いて、ローラの回転につれてインキがローラ間
を転移してくると、μｍう上のインキ表面に微細な凹凸
ができる。

このインキ膜の凹凸を解消するため、従来は四−ラを軸
方向に揺動させていたが、第７図の実施例Ｔハ、ｏ−’
）（：ｉυ（１３のローラニップ出口側に振動或いは揺
動するピアノ線＊　（ｆ））を設け、インキ膜の凹凸の
解消會計るものである。これにより従来必要とされたロ
ーラの揺動装置及び揺動の動力も不要となり、初期コス
ト及びシンニングコストの低減効果がある。

以上詳細に説明した如く本発明は構成されているので、
インキ表面凸凹の成長によるインキのオーバフローの防
止、即ち、インキレールその周辺のインキ汚染防止、及
びインキの流出損失の予防を計ることができる。

まえ前記凸凹の成長塊がインキ供給ロール側に呼びもど
され、インキが塊状になって供給される事による印刷障
害の防止を計ることができる。なお、実験によればピア
ノ線は長手方向の振動（縦振動）でも、また横振動でも
同様の効果がある。

更に本発明はインキのみでなく、他の粘性流体を対象と
した塗布装置、掻き取り装置、練シ装置等にも応用でき
る。またオーバフロ一部に設ける場合は、ピアノ線以外
でも線状のもの又線板状のもので振動又は揺動し得るも
のであれば、同様の効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のインキ供給装置の１例を示す胴視図、第
２図は第１図のＡ−Ａ断面図、第８図は本発明の実施例
を示すインキ供給装置のインキレール部の側断面図、第
４図は第８図におけるＣ矢視図で、ピアノ線によって凸
凹がならさせる状態を示す説明図、第５図は第８図と異
なる実施例のインキの掻き取り装置で実施した場合のｆ
４１面図、第６図は同斜視図、第７図は本発明の他の実
施例を示すインキ練シ装置で実施した場合の側面図であ
る。 図の主要部分の説明 ■・・・インキ供給ロー２ ２・・・インキレール　　　８・・・インキ５・・ピア
ノ線（機械的に外ｌｉＬを与える機構）７・・・すきま
（細隙） 特許用　願人　三菱重工業株式会社 復代理人　弁理士　唐　木　貴　男外１名７− −２８７〜

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 相接する一対のローラ、同ローラに接する固定ブレード
   、前記ローラ表面に近接して設けられた固定ガイド等を
   用いて、粘性流体を一様に薄膜化して供給する装置にお
   いて、流体が通過した細隙の出口部に、流体の自由表面
   に機械的に外乱を与える機構を設けたことを特徴とする
   流体供給装置。