JPS5890594A - 不飽和ジカルボン酸錫化合物およびその製法 - Google Patents
不飽和ジカルボン酸錫化合物およびその製法Info
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- -1 Unsaturated dicarboxylic acid tin compound Chemical class 0.000 title claims description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- BMQHCCUIUKBSNF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-5-methylidenehexanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(C)CCC(=C)C(O)=O BMQHCCUIUKBSNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical group [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 2
- BFWMWWXRWVJXSE-UHFFFAOYSA-M fentin hydroxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Sn](C=1C=CC=CC=1)(O)C1=CC=CC=C1 BFWMWWXRWVJXSE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 19
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 8
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 5
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 5
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 5
- SBXWFLISHPUINY-UHFFFAOYSA-N triphenyltin Chemical class C1=CC=CC=C1[Sn](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 SBXWFLISHPUINY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 4
- PIILXFBHQILWPS-UHFFFAOYSA-N tributyltin Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)CCCC PIILXFBHQILWPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JZUMVFMLJGSMRF-UHFFFAOYSA-N 2-Methyladipic acid Chemical compound OC(=O)C(C)CCCC(O)=O JZUMVFMLJGSMRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDBZEBXYXWWDPJ-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylphenoxy)propanoic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1OCCC(O)=O WDBZEBXYXWWDPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GCTFWCDSFPMHHS-UHFFFAOYSA-M Tributyltin chloride Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(CCCC)CCCC GCTFWCDSFPMHHS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002519 antifouling agent Substances 0.000 description 1
- RCTOVWPTGOZSPJ-UHFFFAOYSA-N benzyl(ethyl)azanium;chloride Chemical compound Cl.CCNCC1=CC=CC=C1 RCTOVWPTGOZSPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LUZSPGQEISANPO-UHFFFAOYSA-N butyltin Chemical compound CCCC[Sn] LUZSPGQEISANPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- UZUODNWWWUQRIR-UHFFFAOYSA-L disodium;3-aminonaphthalene-1,5-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C2=CC(N)=CC(S([O-])(=O)=O)=C21 UZUODNWWWUQRIR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- JVPLOXQKFGYFMN-UHFFFAOYSA-N gold tin Chemical class [Sn].[Au] JVPLOXQKFGYFMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LVLWGUYOLWOCNN-UHFFFAOYSA-N oxo(phenyl)tin Chemical compound O=[Sn]C1=CC=CC=C1 LVLWGUYOLWOCNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- CVNKFOIOZXAFBO-UHFFFAOYSA-J tin(4+);tetrahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Sn+4] CVNKFOIOZXAFBO-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- NRHFWOJROOQKBK-UHFFFAOYSA-N triphenyltin;hydrate Chemical compound O.C1=CC=CC=C1[Sn](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NRHFWOJROOQKBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な不飽和ジカルボン酸錫化合物およびその
製法に関する。更に詳しくはα−メチレンーーーメチル
アジビ/酸の錫エステルおよびその製法に関する。
製法に関する。更に詳しくはα−メチレンーーーメチル
アジビ/酸の錫エステルおよびその製法に関する。
α−メチレン−δ−メチルアジピン酸の特性に着目し、
本出願人は該不飽和酸のグリシジル−導体およびその製
法について出願した(%願昭53−40913号)。
本出願人は該不飽和酸のグリシジル−導体およびその製
法について出願した(%願昭53−40913号)。
今回は更に該不飽和酸の金属誘導体につ(−・て鋭意検
討した結果、新規な錫化合物並びに該化合物の新規な製
造法を見い出して本発明に到達した。
討した結果、新規な錫化合物並びに該化合物の新規な製
造法を見い出して本発明に到達した。
すなわち本発明の目的は有用なα−メチレン−6−メチ
ルアジピン酸のトリアルキル錫エステルまたはトリフェ
ニル錫エステルならびKそれらの製法を提供することで
ある。
ルアジピン酸のトリアルキル錫エステルまたはトリフェ
ニル錫エステルならびKそれらの製法を提供することで
ある。
本発明は一般式
%式%
(1)
(式中、Xは5nR1なる構造を有し、anは錫。
Rはアルキル基またはフェニル基を示す)で表わされる
α−メチレン−δ−メチルアジピン酸のトリアルキル錫
エステルまたはトリフェニル錫エステル化合物に関する
。
α−メチレン−δ−メチルアジピン酸のトリアルキル錫
エステルまたはトリフェニル錫エステル化合物に関する
。
また本発明は一般式
%式%
(式中、2はナトリウム又はカリウムを示す)で示され
るα−メチレン−δ−メチルアジピン酸のアルカリ金属
塩とトリアルキル錫ハロゲン化物またはトリフェニル錫
ハロゲン化物とを反応させることを特徴とする一般式(
1)で示されるα−メチレン−δ−メチルアジピン酸の
トリアルキル錫エステルまたはトリフェニル錫エステル
の製法に関する。
るα−メチレン−δ−メチルアジピン酸のアルカリ金属
塩とトリアルキル錫ハロゲン化物またはトリフェニル錫
ハロゲン化物とを反応させることを特徴とする一般式(
1)で示されるα−メチレン−δ−メチルアジピン酸の
トリアルキル錫エステルまたはトリフェニル錫エステル
の製法に関する。
またさらに本発明は一般式
(式中、R′は水素または炭素数1〜4のアルキル基を
示す)で示されるα−メチレン−δ−メチルアジピン酸
(アルキルエステル)とビストリアルキル錫オキサイド
またはビストリフェニル錫オキサイドあるいはトリアル
キル錫ノ\イドロオキサイドまたはトリフェニル錫ノ1
イドロオキサイドとを反応させることを特徴とする一般
式(1)で示されるα−メチレン−δ−メチルアジピン
酸のトリアルキル錫エステルまたはトリフェニル錫エス
テルの製法に関する。
示す)で示されるα−メチレン−δ−メチルアジピン酸
(アルキルエステル)とビストリアルキル錫オキサイド
またはビストリフェニル錫オキサイドあるいはトリアル
キル錫ノ\イドロオキサイドまたはトリフェニル錫ノ1
イドロオキサイドとを反応させることを特徴とする一般
式(1)で示されるα−メチレン−δ−メチルアジピン
酸のトリアルキル錫エステルまたはトリフェニル錫エス
テルの製法に関する。
α−メチレン−δ−メチルアジピン酸のアルカリ金属塩
とトリアルキルまたはトリフェニル−錫ハロゲン化物と
の反応モル比は通常0.5〜50間で行なう。
とトリアルキルまたはトリフェニル−錫ハロゲン化物と
の反応モル比は通常0.5〜50間で行なう。
トリアルキル錫ハロゲン化物のアルキル基としては、例
えばメチル、プロピル、ブチル、アミル、ヘキシルまた
はオクチル等が挙げられ、ハロゲン化物としては、例え
ばクロライド、フロライド等があげられる。
えばメチル、プロピル、ブチル、アミル、ヘキシルまた
はオクチル等が挙げられ、ハロゲン化物としては、例え
ばクロライド、フロライド等があげられる。
反応は無触媒下でも進行するが、通常は第4級アンモニ
ウム塩、第3級アミン等の存在下に行なうのが好・まし
い。第4級アンモニウム塩はブトラメチルアンモニウム
クロリド、トリメチルベンジルアンモニウムクロIJ
)”、 ) IJ x チルベンジルアンモニウムク
ロリドなどがあり、第3級アミンとしてはトリメチルア
ミン、トリエチルアミンなどがある。
ウム塩、第3級アミン等の存在下に行なうのが好・まし
い。第4級アンモニウム塩はブトラメチルアンモニウム
クロリド、トリメチルベンジルアンモニウムクロIJ
)”、 ) IJ x チルベンジルアンモニウムク
ロリドなどがあり、第3級アミンとしてはトリメチルア
ミン、トリエチルアミンなどがある。
また反応は不活性溶媒、例えばベンゼン、−トルエン等
の使用も可能であり、反応温度は通常30℃〜100℃
で行ない、例えばハイドロキノン、ハイドロキノンモノ
メチルエーテルまたはフェノチアジン等の重合抑制剤を
少量添加して行なうのか好ましい。
の使用も可能であり、反応温度は通常30℃〜100℃
で行ない、例えばハイドロキノン、ハイドロキノンモノ
メチルエーテルまたはフェノチアジン等の重合抑制剤を
少量添加して行なうのか好ましい。
反応終了後、不溶解分をf別後、溶媒乞留去して目的物
を得る。
を得る。
また CH,= C−C0OR’
−
CH,−OH,−CH−C0OR’
CH。
(式中、R′は水素または炭素数1〜4のアルキル基を
示す)とピストリアルギル−またはトリフェニル−錫オ
キサイドあるいはトリアルキル−またはトリフェニル−
錫ハイドロオキサイドとの反応モル比は通常0.25〜
50間で変動可能であり、反応には不活性溶媒、例えば
ペンゼ/、トルエン等の使用も可能である。
示す)とピストリアルギル−またはトリフェニル−錫オ
キサイドあるいはトリアルキル−またはトリフェニル−
錫ハイドロオキサイドとの反応モル比は通常0.25〜
50間で変動可能であり、反応には不活性溶媒、例えば
ペンゼ/、トルエン等の使用も可能である。
反応温度は通常100℃以下で生成する水または低級ア
ルコール等を常圧または減圧下、系外へ留出しながら反
応を進める。
ルコール等を常圧または減圧下、系外へ留出しながら反
応を進める。
また反応系にはハイドロキノン、ハイドロキノンモノメ
チルエーテルまたはフェノチアジン等の重合抑制剤の添
加が好ましい。
チルエーテルまたはフェノチアジン等の重合抑制剤の添
加が好ましい。
反応終了後、未反応原料、溶媒等を通常の精製法を用い
て除き、目的物を得る。
て除き、目的物を得る。
本発明で得られる新規錫化合物は、たとえばα−メチレ
ン−δ−メチルアジピン酸ジ(トリブチル錫)、α−メ
チレン−6−メチルアジピン識ジ(トリプロピル錫)、
α−メチレン−δ−メチルアジビン酸ジ(トリアミル錫
)、α−メチレン−δ−メチルアジピン酸ジ(トリヘキ
シル錫)、α−メチレン−δ−メチルアジピン酸ジ(ト
リオ多チル錫)、α−メチレン−δ−メチルアジピン酸
ジ(トリブチル錫)、α−メチレン−δ−メチルアジピ
ン酸ジ(トリフェニル錫)などがある。
ン−δ−メチルアジピン酸ジ(トリブチル錫)、α−メ
チレン−6−メチルアジピン識ジ(トリプロピル錫)、
α−メチレン−δ−メチルアジビン酸ジ(トリアミル錫
)、α−メチレン−δ−メチルアジピン酸ジ(トリヘキ
シル錫)、α−メチレン−δ−メチルアジピン酸ジ(ト
リオ多チル錫)、α−メチレン−δ−メチルアジピン酸
ジ(トリブチル錫)、α−メチレン−δ−メチルアジピ
ン酸ジ(トリフェニル錫)などがある。
このようにして得られた化合物は、全(新規な不飽和ジ
カルボン酸の錫エステルであり、分子中の二重結合基は
共重合性が高く、単独重合性が低いという特性をもち、
かつ金錫化合物特有の殺菌性を有するため、特に防汚、
防黴を目的とする塗料用の共重合体原料として利用でき
る非常に有用な化合物である。
カルボン酸の錫エステルであり、分子中の二重結合基は
共重合性が高く、単独重合性が低いという特性をもち、
かつ金錫化合物特有の殺菌性を有するため、特に防汚、
防黴を目的とする塗料用の共重合体原料として利用でき
る非常に有用な化合物である。
次に本発明を実施例について説明するが、本発明はこれ
によりなんら限定されるものでない。
によりなんら限定されるものでない。
実施例中、部は重量部を示す。
実施例−1
攪拌装置、温度針、還流冷却管を備えた反応器にα−メ
チレン−δ−メチルアジピン酸のシナトリ9ム塩250
部、トリブチル錫クロライ)’655i1S、lJエチ
ルベンジルアンモニウムクロライ)’6部、べ7971
200部およびノ1イドロキノンモノメチルエーデル1
部を入れ、50℃に加温し、6時間1拌を続けた。
チレン−δ−メチルアジピン酸のシナトリ9ム塩250
部、トリブチル錫クロライ)’655i1S、lJエチ
ルベンジルアンモニウムクロライ)’6部、べ7971
200部およびノ1イドロキノンモノメチルエーデル1
部を入れ、50℃に加温し、6時間1拌を続けた。
冷却後、不溶解智’kF別し、減圧下、40℃以下で加
温しながら溶媒を留去せしめた所、淡黄色の粗製品70
0部が得られた。
温しながら溶媒を留去せしめた所、淡黄色の粗製品70
0部が得られた。
石油エーテルより再結晶を繰り返して、融点83〜85
℃の白色結晶としてα−メチレン−δ−メチルアジピ/
酸ジ(トリブチル錫)を得た。
℃の白色結晶としてα−メチレン−δ−メチルアジピ/
酸ジ(トリブチル錫)を得た。
この化合物(C工H,、O,Sn、 ) の元素分析
計算値はC= 51.2. H=8.6.5n=31
.6(vtl)に対し、測定分析値はC=50.9.
H=8.7゜5n=30.5であり良(一致した。
計算値はC= 51.2. H=8.6.5n=31
.6(vtl)に対し、測定分析値はC=50.9.
H=8.7゜5n=30.5であり良(一致した。
また、二重結合値は1.30 mn/p (理論値1
.33)、赤外スペクトル、 N、M、Rスペクトル
による解析結果も、この化合物の生成を示している◎ 実施例−2 実施例−1と同様の反応器を用い、α−メチレン−δ−
メチルアジピン酸のジナトリウム塩1958、)リフェ
ニル錫クロライド600部。
.33)、赤外スペクトル、 N、M、Rスペクトル
による解析結果も、この化合物の生成を示している◎ 実施例−2 実施例−1と同様の反応器を用い、α−メチレン−δ−
メチルアジピン酸のジナトリウム塩1958、)リフェ
ニル錫クロライド600部。
トリエチルベンジルアンモニウムクロライド4部、ベン
ゼン1200部およびノ\イドロキノンモノメチルエー
テル1部を入れ、70℃で4時間反応を行なった。
ゼン1200部およびノ\イドロキノンモノメチルエー
テル1部を入れ、70℃で4時間反応を行なった。
冷却後、不溶解物をf別し、減圧下、浴温40℃以下で
加温しながら溶媒な留去せしめ、550部の結晶を得た
。
加温しながら溶媒な留去せしめ、550部の結晶を得た
。
石油エーテルより再結晶を行ない、融点103〜104
℃の白色結晶としてα−メチレン−δ−メチルアジピン
酸のジ(トリフェニル錫)ft得た。
℃の白色結晶としてα−メチレン−δ−メチルアジピン
酸のジ(トリフェニル錫)ft得た。
この化合物(c44H40o4s”! ) の元素分
析計算値はC= 60.8. H=4.6. Sn=
27−3 (vtl)に対し、測定分析値IXC=60
.6. H=4.6゜an = 25.4 (wtl
)であった。
析計算値はC= 60.8. H=4.6. Sn=
27−3 (vtl)に対し、測定分析値IXC=60
.6. H=4.6゜an = 25.4 (wtl
)であった。
また、二重結合値は1.12 mn/7 (理論値1
、 l 5 mn/7 )であった。
、 l 5 mn/7 )であった。
赤外スペクトル、 N、M、Rスペクトルによる解析
結果も、この化合物の生成を示している。
結果も、この化合物の生成を示している。
実施例−3
攪拌装置、温度計、デカンタ−何分留塔を備えた反応器
にベンゼン1000部、ビストリブチル錫オキサイド3
07部、ハイドロキノンモノメチルエーテル1部を入れ
、これにα−メチレン−δ−メチルアジピン酸86部を
少しづつ25℃を越さないように添加する。
にベンゼン1000部、ビストリブチル錫オキサイド3
07部、ハイドロキノンモノメチルエーテル1部を入れ
、これにα−メチレン−δ−メチルアジピン酸86部を
少しづつ25℃を越さないように添加する。
添加後30℃に加熱攪拌し同時に反応系を減圧し、反応
で生じる水を系外へ留去する。
で生じる水を系外へ留去する。
αへメチレン−δ−メチルアジピン酸添加後8時間経て
から浴温40℃以下の温度で溶媒を留去せしめ、350
部の結晶を得た。
から浴温40℃以下の温度で溶媒を留去せしめ、350
部の結晶を得た。
石油エーテルにより再結晶な繰り返して融点−83〜8
5℃0) 白色の結晶としてα−メチレン−δ−メチル
アジピン酸ジ(トリブチル錫)を得た。
5℃0) 白色の結晶としてα−メチレン−δ−メチル
アジピン酸ジ(トリブチル錫)を得た。
この化合物(C,、H□0,8n、) の元素分析計
算値はC= 51.2. H=8.6.8n=31.
7(wtl)に対し、測定値はC=51.8. H=
8.6. sn =30.6であり良く一致した。
算値はC= 51.2. H=8.6.8n=31.
7(wtl)に対し、測定値はC=51.8. H=
8.6. sn =30.6であり良く一致した。
また、二重結合値は1.30 mn/7 (理論値1
.33)であり、N−1,Rスペクトル、赤外スペクト
ルによる解析結果も、この化合物の生成を示している。
.33)であり、N−1,Rスペクトル、赤外スペクト
ルによる解析結果も、この化合物の生成を示している。
実施例−4
実施例−3と同様の反応器を用い、ベンゼン1000部
、ビストリフェニル錫オキサイド367部、ハイドロキ
ノンモノメチルエーテル1部を入れ、これにα−メチレ
ン−δ−メチルアジピン!86部を少しづつ25℃を越
さないように添加する。
、ビストリフェニル錫オキサイド367部、ハイドロキ
ノンモノメチルエーテル1部を入れ、これにα−メチレ
ン−δ−メチルアジピン!86部を少しづつ25℃を越
さないように添加する。
添加後30℃に加熱攪拌し同時に反応系を減圧にし、反
応で生じる水を系外へ留去する°。
応で生じる水を系外へ留去する°。
α−メチレン−a−メチルアジピン酸添加後8時間経て
から浴温40℃以下の温度で溶媒を留去せしめ、390
部の結晶′lk:%た。
から浴温40℃以下の温度で溶媒を留去せしめ、390
部の結晶′lk:%た。
石油エーテルにより再結晶を繰り返して融点103〜1
05℃の白色結晶としてα−メチレン−δ−メチルアジ
ビ/酸のジ(トリフェニル錫)を得た。
05℃の白色結晶としてα−メチレン−δ−メチルアジ
ビ/酸のジ(トリフェニル錫)を得た。
この化合物(C4,H46048th、 ) の元素
分析計算値はC= 60.8. H= 4.6.5o−
= 27.3(wtlりに対し、測定分析値はC=60
.0. H=4.4゜Sn= 28.1 (wtl)
である。
分析計算値はC= 60.8. H= 4.6.5o−
= 27.3(wtlりに対し、測定分析値はC=60
.0. H=4.4゜Sn= 28.1 (wtl)
である。
また、二重結合値は1.11 mn/7 (理論値1
.15mn/P)であった。
.15mn/P)であった。
赤外スペクトル、 N、M、Rスペクトルによる解析
結果も、この化合物の生成を示している。
結果も、この化合物の生成を示している。
実施例−5
実施例41と同様の反応器音用い、ベンゼン1000部
、ビストリブチル錫オキサイド367部、α−メチレン
−δ−メチルアジピン象・メチル100部及びハイドロ
キノンモノメチルエーテル1部を入れ、80℃に加熱し
、10時間攪拌を続け、反応で生じるメチルエーテルを
系外へ留出せしめた。
、ビストリブチル錫オキサイド367部、α−メチレン
−δ−メチルアジピン象・メチル100部及びハイドロ
キノンモノメチルエーテル1部を入れ、80℃に加熱し
、10時間攪拌を続け、反応で生じるメチルエーテルを
系外へ留出せしめた。
減圧下、浴温40℃以下の温度で溶媒な留去せしめ、粗
製品32(itsを得た。
製品32(itsを得た。
石油エーテルにより再結晶を繰り返して融点8番〜85
℃の白色結晶としてα−メチレン−6−メチルアジピン
酸ジ(斗すプチル錫)を得た。
℃の白色結晶としてα−メチレン−6−メチルアジピン
酸ジ(斗すプチル錫)を得た。
この化合物(C5zHe+O+Snt ) の元素分
析測定値はC= 52.0. H= 8.7. Sn
= 29.9であり計算値とよく一致した。
析測定値はC= 52.0. H= 8.7. Sn
= 29.9であり計算値とよく一致した。
また、二重結合値は1.28 mn/pであり、N、M
、Rスペクトル、赤外スペクトルによる解析結果も、こ
の化合物の生成を示している。
、Rスペクトル、赤外スペクトルによる解析結果も、こ
の化合物の生成を示している。
Claims (3)
- (1)一般式 (式中、Xは5nR1なる構造を有し、amは錫、Rは
アルキル基またはフェニル基を示す)で表わされるα−
メチレン−δ−メチルアジピン酸のトリアルキルまたは
トリフェニル錫エステル化合物 - (2)一般式 (式中、2はナトリウム又はカリウムを示す)で示され
るα−メチレン−δ−メチルアジピン綬のアルカリ金属
塩とトリアルキル錫ハロゲ/化物またはトリフェニル錫
ハロゲン化物とを反応させることを特徴とする特許請求
の範囲#I1項の一般式(1)で示されるα−メチレン
−δ−メチルアジピン酸のトリアルキル錫エステルまた
はトリフェニル錫エステルの製法 - (3)一般式 (式中、R′は水素または炭素数1〜4のアルキル基を
示す)とビストリプルキル錫オキサイドまたはトリフェ
ニル錫ハイドロオキサイドとを反応させることを特徴と
する特許請求の範囲第1項の一般式(1)で示されるα
−メチレン−δ−メチルアジピン酸のトリアルキル46
−r−ス?ルまたハ) +7 フェニル錫エステルの製
法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18797281A JPS5890594A (ja) | 1981-11-24 | 1981-11-24 | 不飽和ジカルボン酸錫化合物およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18797281A JPS5890594A (ja) | 1981-11-24 | 1981-11-24 | 不飽和ジカルボン酸錫化合物およびその製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5890594A true JPS5890594A (ja) | 1983-05-30 |
Family
ID=16215363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18797281A Pending JPS5890594A (ja) | 1981-11-24 | 1981-11-24 | 不飽和ジカルボン酸錫化合物およびその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5890594A (ja) |
-
1981
- 1981-11-24 JP JP18797281A patent/JPS5890594A/ja active Pending
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