JPS63313792A - シリル化ケテンアセタールの製造方法 - Google Patents
シリル化ケテンアセタールの製造方法Info
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- JPS63313792A JPS63313792A JP63056527A JP5652788A JPS63313792A JP S63313792 A JPS63313792 A JP S63313792A JP 63056527 A JP63056527 A JP 63056527A JP 5652788 A JP5652788 A JP 5652788A JP S63313792 A JPS63313792 A JP S63313792A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/188—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-O linkages
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、シリル化ケテンアセクールの製造方法、さら
に特定すれば、アルキルハロゲノシラン又はアリールハ
ロゲノシランをα−ハロゲノエステルに縮合させて、上
記化合物を製造する方法に関する。
に特定すれば、アルキルハロゲノシラン又はアリールハ
ロゲノシランをα−ハロゲノエステルに縮合させて、上
記化合物を製造する方法に関する。
シリル化ケテンアセタールは、例えば米国特許第441
7034号に記載するとおり、重合用触媒として用いら
れる。又これはラクタム合成の原料としても用いられる
(西ドイツ特許第3007298号)。
7034号に記載するとおり、重合用触媒として用いら
れる。又これはラクタム合成の原料としても用いられる
(西ドイツ特許第3007298号)。
シリル化ケテンアセタールは、次の一般式(■):(式
中、R+ 、Rz 、R3、Raはアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、アリール基、アルアルキル基、ア
ルキルアリール基のなかから選ばれる同一の又は異なる
基を表わし、R4はトリアルキルシリルオキシアルキル
基をも表わすことができる、アルキル基は1〜6個の炭
素原子を有することが望ましい。)で表わされる全ての
化合物のことである。
中、R+ 、Rz 、R3、Raはアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、アリール基、アルアルキル基、ア
ルキルアリール基のなかから選ばれる同一の又は異なる
基を表わし、R4はトリアルキルシリルオキシアルキル
基をも表わすことができる、アルキル基は1〜6個の炭
素原子を有することが望ましい。)で表わされる全ての
化合物のことである。
これらの化合物は、従来技術によれば2つの主要な方法
に従って得られている。例えば、ChemicalPh
armaceutical Bulletin 31.
4576−4588(I983)に吉井及び式日が発表
した論文により、次の反応に従い、ロジウム又は白金を
触媒としてメタクリル酸メチルをヒドロシリル化して、
シリル化ケテンアセタールを調製することが知られてい
る。
に従って得られている。例えば、ChemicalPh
armaceutical Bulletin 31.
4576−4588(I983)に吉井及び式日が発表
した論文により、次の反応に従い、ロジウム又は白金を
触媒としてメタクリル酸メチルをヒドロシリル化して、
シリル化ケテンアセタールを調製することが知られてい
る。
Rb Rs 0
R7HOR。
この方法には、過剰の水素化リチウムを加えることによ
りトリアルキルクロシランから得られたトリアルキルハ
イドロゲノシラン(R3) 3SiHが原料として必要
となるが、水素化リチウムが揮発性できわめて可燃性が
高いためにこの反応は実施かむすかしい。基R8がメチ
ル基を表わす場合、原料として用いるトリメチルシラン
は9℃の沸点を有し、これは保存上、取扱い上の大きな
問題をひき起こす。
りトリアルキルクロシランから得られたトリアルキルハ
イドロゲノシラン(R3) 3SiHが原料として必要
となるが、水素化リチウムが揮発性できわめて可燃性が
高いためにこの反応は実施かむすかしい。基R8がメチ
ル基を表わす場合、原料として用いるトリメチルシラン
は9℃の沸点を有し、これは保存上、取扱い上の大きな
問題をひき起こす。
さらにJournal of Chemical 5o
ciety、 Chem。
ciety、 Chem。
Communication、 136−137(I9
71)にNENG KUO,F、C。
71)にNENG KUO,F、C。
HEN、 C,AlN5IRTH,J、BLOOMFI
ELDが発表した論文により、次の反応に基づきクロロ
シランを用いてエノラートエステルを縮合させてシリル
化ケテンアセタールを調製する技術が知られている:エ
ノラートは、この論文によるとテトラヒドロフラン中で
のイソブチル酸メチルに対する水素化ナトリウム、水素
化リチウム又はジイソプロピルリチウムアミドのような
強塩基の作用により調製する。その後クロロシランをO
℃〜−78℃の温度で加える。
ELDが発表した論文により、次の反応に基づきクロロ
シランを用いてエノラートエステルを縮合させてシリル
化ケテンアセタールを調製する技術が知られている:エ
ノラートは、この論文によるとテトラヒドロフラン中で
のイソブチル酸メチルに対する水素化ナトリウム、水素
化リチウム又はジイソプロピルリチウムアミドのような
強塩基の作用により調製する。その後クロロシランをO
℃〜−78℃の温度で加える。
非常に低温のテトラヒドロフランの中でリチウム化誘導
体の取り扱いは工業的の実施がきわめてむずかしい。業
界は、シリル化ケテンアセタールを費用をあまりかけず
に危険の無い形で製造する工業的方法を常に追求してい
る。
体の取り扱いは工業的の実施がきわめてむずかしい。業
界は、シリル化ケテンアセタールを費用をあまりかけず
に危険の無い形で製造する工業的方法を常に追求してい
る。
本発明はこの目的を達成することに成功した。
本発明の目的は、
一般式(I)のシリル化ケテンアセタール:(式中、R
+ 、R2、R3、R4は、アルキル基、アルコキシ
アルキル基、アリール基、アルアルキル基、アルキルア
リール基のなかから選ばれる同一の又は異なる基を表わ
し、さらにR1はトリメチルシリルオキシアルキルを表
わすこともできる)の製造方法であって、 一般式(II’)のα−ハロゲノエステル:(式中、R
+ 、R2、Raは前記定義と同しであり、Xは塩素
又は臭素を表わす)を金属ナトリウムの存在下で、アリ
ール又はアルキルハロゲノシランを加えて反応させるこ
とを特徴とする。
+ 、R2、R3、R4は、アルキル基、アルコキシ
アルキル基、アリール基、アルアルキル基、アルキルア
リール基のなかから選ばれる同一の又は異なる基を表わ
し、さらにR1はトリメチルシリルオキシアルキルを表
わすこともできる)の製造方法であって、 一般式(II’)のα−ハロゲノエステル:(式中、R
+ 、R2、Raは前記定義と同しであり、Xは塩素
又は臭素を表わす)を金属ナトリウムの存在下で、アリ
ール又はアルキルハロゲノシランを加えて反応させるこ
とを特徴とする。
なお、(Journal of Organometa
llic Chemistry9351−70 (I9
72) ニは、J、P、PILARD、 A、EKOL
YA、 J。
llic Chemistry9351−70 (I9
72) ニは、J、P、PILARD、 A、EKOL
YA、 J。
DONUGUES、 N、DUFFAUT及びR,CA
LAS ニ従ッテ、0°C〜10℃の温度のテトラヒド
ロフランの中で、リチウムの存在下でα−ハロゲノエス
テルをクロロメチルシランと接触させる方法を示す。し
かしこの方法はトリメチルシリル−2イソ酪酸メチルを
得ることを可能にしたに過ぎない。
LAS ニ従ッテ、0°C〜10℃の温度のテトラヒド
ロフランの中で、リチウムの存在下でα−ハロゲノエス
テルをクロロメチルシランと接触させる方法を示す。し
かしこの方法はトリメチルシリル−2イソ酪酸メチルを
得ることを可能にしたに過ぎない。
本発明はこの従来技術とは異って、金属ナトリウムの存
在下でα−ハロゲノエステルをアリール又はアルキルハ
ロゲノシランと接触させることにより、次式の反応に従
ってシリル化ケテンアセタールの製造を可能にした。
在下でα−ハロゲノエステルをアリール又はアルキルハ
ロゲノシランと接触させることにより、次式の反応に従
ってシリル化ケテンアセタールの製造を可能にした。
なお式(II)のハロゲノエステル:
は対応する酸のハロゲン化により得られる。このとき温
度は20℃〜150℃、望ましくは70℃〜100℃で
、硫酸を加えて数時間気体塩素を用いて、対応する酸を
塩素置換することにより得られるα−クロロエステルを
用いることが望ましい。ハロゲン化された酸は、次に当
業者に周知のあらゆる方法を用いて、式R40■のアル
コールにより、そのままエステル化する。
度は20℃〜150℃、望ましくは70℃〜100℃で
、硫酸を加えて数時間気体塩素を用いて、対応する酸を
塩素置換することにより得られるα−クロロエステルを
用いることが望ましい。ハロゲン化された酸は、次に当
業者に周知のあらゆる方法を用いて、式R40■のアル
コールにより、そのままエステル化する。
式(I)のシリル化ケテンアセタール:はハロゲノシラ
ンを反応媒質として溶媒なしで、又は芳香族もしくは脂
肪族の炭化尿素、ヘキサメチルジシロキサンのような珪
素化合物の溶媒のなかから選ばれる溶媒を加えた状態で
、アルキル又はアリールハロゲノシランを用いて式(I
I) α−ハロゲノエステルの付加により得られる。
ンを反応媒質として溶媒なしで、又は芳香族もしくは脂
肪族の炭化尿素、ヘキサメチルジシロキサンのような珪
素化合物の溶媒のなかから選ばれる溶媒を加えた状態で
、アルキル又はアリールハロゲノシランを用いて式(I
I) α−ハロゲノエステルの付加により得られる。
ナトリウムは媒質中に「サンディングされた」形で導入
する。
する。
「サンディングされた」ナトリウムは、ナトリウムの融
点より高い温度の溶媒中にナトリウムを導入し、撹拌し
ながら冷却して得られる。次にアルキル又はアリールハ
ロゲノシランとα−ハロゲノエステルとの混合物を導入
する。
点より高い温度の溶媒中にナトリウムを導入し、撹拌し
ながら冷却して得られる。次にアルキル又はアリールハ
ロゲノシランとα−ハロゲノエステルとの混合物を導入
する。
アルキル又はアリールハロゲノシラン対α−ハロゲノエ
ステルのモル比は1.5以上が望ましい。
ステルのモル比は1.5以上が望ましい。
当然のことながら、アルキル又はアリールハロゲノシラ
ンは反応媒質中で溶媒として作用することができるため
、その量に上限はない。単に当業者がこの方法の経済性
に適合するように上限を設定すればよい。
ンは反応媒質中で溶媒として作用することができるため
、その量に上限はない。単に当業者がこの方法の経済性
に適合するように上限を設定すればよい。
導入するナトリウムの量は、化学量論の約10%過剰と
することが望ましい。
することが望ましい。
温度は30℃〜100℃、特に約80℃で縮合を行なう
ことが望ましい。
ことが望ましい。
式(I[)のα−ハロゲノエステルとしては、以下のよ
うなものが挙げられる:メチルー2クロロ又はプロモー
2プロピオン酸のメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、チルブチル、フェニル、又はトリメチル
シリルオキシプロピルのエステル;エチル−2、プロピ
ル−2、ブチル−2、フェニル−2、クロロ又はブロモ
−2プロピオン酸のアルキルエステル;アルキル−2ク
ロt’ 又ハフ’ロモー2酪酸のメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、チルブチル、フェニル、
又はトリメチルシリルオキシプロピルのエステル。
うなものが挙げられる:メチルー2クロロ又はプロモー
2プロピオン酸のメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、チルブチル、フェニル、又はトリメチル
シリルオキシプロピルのエステル;エチル−2、プロピ
ル−2、ブチル−2、フェニル−2、クロロ又はブロモ
−2プロピオン酸のアルキルエステル;アルキル−2ク
ロt’ 又ハフ’ロモー2酪酸のメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、チルブチル、フェニル、
又はトリメチルシリルオキシプロピルのエステル。
アルキル又はアリールハロゲノシランのなかでは、ブロ
モ又はクロロシラン、特にトリメチルクロロシラン、ジ
フェニルメチルクロロシラン、ジメチルフェニルクロロ
シラン、トリエチルクロロシラン、n−ブチルジメチル
クロロシラン、トリメチルブロモシラン、ジフェニルメ
チルクロロシラン、ジメチルフェニルブロモシラン、n
−ブチル ジメチルブロモシランを用いることが望まし
い。
モ又はクロロシラン、特にトリメチルクロロシラン、ジ
フェニルメチルクロロシラン、ジメチルフェニルクロロ
シラン、トリエチルクロロシラン、n−ブチルジメチル
クロロシラン、トリメチルブロモシラン、ジフェニルメ
チルクロロシラン、ジメチルフェニルブロモシラン、n
−ブチル ジメチルブロモシランを用いることが望まし
い。
本発明の目的である、式(I)を満足するシリル化ケテ
ンアセタールとしては、以下のものを挙げることができ
るニトリメチルシリルオキシ−1メトオキシ−1メチル
−2プロペン;ジメチルフェニル、ジフェニルメチル、
n−ブチルジメチル、又はトリエチルシリルオキシ−1
メトキシ−1ジメチルプロペン;トリアルキル又は了り
−ルシリルオキシ−1、エトキシ−1、プロポキシ−1
、ブトキシ−1、フヱノキシ−1、トリメチルシリルオ
キシプロポキシ−1、メチル−2プロペン;トリアルキ
ル又はアリールシリルオキシ−1アルコオキシ−1エチ
ル−2、プロピル−2、ブチル2、フェニル−2プロペ
ン;トリアルキル又はアリールシリルオキシ−1アルコ
オキシ−1アルキル−2ブテン。
ンアセタールとしては、以下のものを挙げることができ
るニトリメチルシリルオキシ−1メトオキシ−1メチル
−2プロペン;ジメチルフェニル、ジフェニルメチル、
n−ブチルジメチル、又はトリエチルシリルオキシ−1
メトキシ−1ジメチルプロペン;トリアルキル又は了り
−ルシリルオキシ−1、エトキシ−1、プロポキシ−1
、ブトキシ−1、フヱノキシ−1、トリメチルシリルオ
キシプロポキシ−1、メチル−2プロペン;トリアルキ
ル又はアリールシリルオキシ−1アルコオキシ−1エチ
ル−2、プロピル−2、ブチル2、フェニル−2プロペ
ン;トリアルキル又はアリールシリルオキシ−1アルコ
オキシ−1アルキル−2ブテン。
本発明の目的である化合物は特にろ過により単離され、
析出物は反応溶媒で洗浄する。シリル化ケテンアセター
ルを含むろ過動は、90%以上の純度をもつ生成物を得
るように減圧下で蒸留する。
析出物は反応溶媒で洗浄する。シリル化ケテンアセター
ルを含むろ過動は、90%以上の純度をもつ生成物を得
るように減圧下で蒸留する。
本発明は、以下の例を用いてさ、らに完全に説明するが
、これは本発明を限定するものではない。
、これは本発明を限定するものではない。
は、10モル%のクロロスルホン酸を加えて塩素により
イソ醋酸を塩素置換する工程、その後同じ反応装置内で
メタノールによりエステル化する工程の2つの工程に分
けて容易に行なわれる。
イソ醋酸を塩素置換する工程、その後同じ反応装置内で
メタノールによりエステル化する工程の2つの工程に分
けて容易に行なわれる。
塩素置換時間は80℃〜90°Cで11時間であり、エ
ステル化時間は還流状態すなわち90℃で8時間である
。
ステル化時間は還流状態すなわち90℃で8時間である
。
蒸留された純粋なりロロイソ酪酸メチルの収率は出発物
質であるイソ酪酸に対し60%である。
質であるイソ酪酸に対し60%である。
撹拌機、冷却器及び精密導入系(圧入シリンジ)を有す
る標準的反応装置内に、30gのへキサメチルジシロク
サン、0.21グラム原子のナトリウム(4,85g
)を装入する。98℃で溶媒を還流させ強い撹拌(I5
00rpm)の下で30分間ナトリウムを「サンディン
グコし、60℃まで冷却する。
る標準的反応装置内に、30gのへキサメチルジシロク
サン、0.21グラム原子のナトリウム(4,85g
)を装入する。98℃で溶媒を還流させ強い撹拌(I5
00rpm)の下で30分間ナトリウムを「サンディン
グコし、60℃まで冷却する。
注入用フラスコを用いて99%トリメチルクロロシラン
0.2モル、すなわち22gを5分で注入する。続いて
、圧入シリンジを用いて96%α−クロロイソ酪酸メチ
ル0.1モルすなわち14.2gを1時間で注入する。
0.2モル、すなわち22gを5分で注入する。続いて
、圧入シリンジを用いて96%α−クロロイソ酪酸メチ
ル0.1モルすなわち14.2gを1時間で注入する。
この注入期間中の温度は65℃〜82℃とする。反応粗
生成物は60℃〜65℃で3時間撹拌状態に保つ。
生成物は60℃〜65℃で3時間撹拌状態に保つ。
不活性の窒素霊気下での冷却の後、生成した塩化ナトリ
ウムをフリットガラス階3でろ過して除去する。ヘキサ
メチルジシロクザン10gを2回加えてろ過動を洗浄す
る。ガスクロマトグラフィ分析により、析出物の中にも
はやクロロシラン及びシリル化ケテンアセタールが存在
しないことを確かめる。
ウムをフリットガラス階3でろ過して除去する。ヘキサ
メチルジシロクザン10gを2回加えてろ過動を洗浄す
る。ガスクロマトグラフィ分析により、析出物の中にも
はやクロロシラン及びシリル化ケテンアセタールが存在
しないことを確かめる。
析出物は、反応しなかったナトリウムを除去するため、
メタノール、次に水で処理する。ろ過動はまず5 Q
mmHg、 、次に10wmHg(シリル化ケテンアセ
クールの劣化を避けるため)の低い圧力下で直径15−
のラシソヒリングを充填したカラムを用いて蒸留する。
メタノール、次に水で処理する。ろ過動はまず5 Q
mmHg、 、次に10wmHg(シリル化ケテンアセ
クールの劣化を避けるため)の低い圧力下で直径15−
のラシソヒリングを充填したカラムを用いて蒸留する。
こうして得られた生成物は、収率62%で、純度90%
であった。
であった。
この試験を確めるために、以下の条件で試験2〜9を行
なった。
なった。
以下余白
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式( I )のシリル化ケテンアセタール:▲数
式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1、R_2、R_3及びR_4は、アルキ
ル基、アルコキシアルキル基、アリール基、アルアルキ
ル基及びアルキルアリール基のなかから選ばれる同一ま
たは異なる基を表わし、さらにR_4はトリメチルシリ
ルオキシアルキル基を表わしてもよい)の製造方法であ
って、 一般式(II)のα−ハロゲノエステル: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_1、R_2及びR_4は前記定義と同じで
あり、そして Xは塩素又は臭素を表わす)を、金属ナトリウムの存在
下でアリールハロゲノシラン又はアルキルハロゲノシラ
ンと反応させることを特徴とするシリル化ケテンアセタ
ールの製法。 2、前式( I )及び(II)において、基R_1、R_
2、R_3及びR_4が、アルキル鎖に1〜6個の炭素
原子を含むアルキル基又はアルコキシアルキル基を表わ
す、請求項1に記載の方法。 3、前記α−ハロゲノエステルがクロロエステル又はブ
ロモエステルである、請求項1に記載の方法。 4、30〜100℃の温度で実施する、請求項1に記載
の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR8703695A FR2612190B1 (fr) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | Procede de preparation de cetenes acetals silyles |
FR8703695 | 1987-03-13 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63313792A true JPS63313792A (ja) | 1988-12-21 |
Family
ID=9349111
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63056527A Pending JPS63313792A (ja) | 1987-03-13 | 1988-03-11 | シリル化ケテンアセタールの製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0284473B1 (ja) |
JP (1) | JPS63313792A (ja) |
AT (1) | ATE63917T1 (ja) |
DE (1) | DE3862975D1 (ja) |
ES (1) | ES2022647B3 (ja) |
FR (1) | FR2612190B1 (ja) |
GR (1) | GR3002089T3 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02111780A (ja) * | 1987-11-23 | 1990-04-24 | Dow Corning Corp | シリルケテンアセタールの製法 |
WO1998028309A1 (fr) * | 1996-12-20 | 1998-07-02 | Ihara Chemical Industry Co., Ltd. | Procede d'elaboration de 1-alkoxy-1-trimethylsilyloxycyclopropanes |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4791198A (en) * | 1984-07-05 | 1988-12-13 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Beta-lactam compound and preparation thereof |
US4824980A (en) * | 1988-09-02 | 1989-04-25 | Dow Corning Corporation | Process to produce O-silyl O,N-ketene acetals |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1495716A (fr) * | 1965-10-01 | 1967-09-22 | Wacker Chemie Gmbh | Procédé de préparation de composés d'isopropényloxy-siliciques |
DE1668365A1 (de) * | 1967-07-15 | 1971-05-06 | Merck Patent Gmbh | Keten-trialkylsilyl-acetale und Verfahren zu ihrer Herstellung |
-
1987
- 1987-03-13 FR FR8703695A patent/FR2612190B1/fr not_active Expired
-
1988
- 1988-03-04 AT AT88400513T patent/ATE63917T1/de not_active IP Right Cessation
- 1988-03-04 EP EP88400513A patent/EP0284473B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1988-03-04 DE DE8888400513T patent/DE3862975D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-03-04 ES ES88400513T patent/ES2022647B3/es not_active Expired - Lifetime
- 1988-03-11 JP JP63056527A patent/JPS63313792A/ja active Pending
-
1991
- 1991-06-07 GR GR91400767T patent/GR3002089T3/el unknown
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02111780A (ja) * | 1987-11-23 | 1990-04-24 | Dow Corning Corp | シリルケテンアセタールの製法 |
WO1998028309A1 (fr) * | 1996-12-20 | 1998-07-02 | Ihara Chemical Industry Co., Ltd. | Procede d'elaboration de 1-alkoxy-1-trimethylsilyloxycyclopropanes |
US5994572A (en) * | 1996-12-20 | 1999-11-30 | Ihara Chemical Industry Co., Ltd | Process for production of 1-alkoxy-1-trimethylsilyloxy cyclopropanes |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATE63917T1 (de) | 1991-06-15 |
EP0284473B1 (fr) | 1991-05-29 |
FR2612190A1 (fr) | 1988-09-16 |
EP0284473A1 (fr) | 1988-09-28 |
DE3862975D1 (de) | 1991-07-04 |
GR3002089T3 (en) | 1992-12-30 |
FR2612190B1 (fr) | 1989-06-16 |
ES2022647B3 (es) | 1991-12-01 |
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