JPS63313792A - シリル化ケテンアセタールの製造方法 - Google Patents

シリル化ケテンアセタールの製造方法

Info

Publication number
JPS63313792A
JPS63313792A JP63056527A JP5652788A JPS63313792A JP S63313792 A JPS63313792 A JP S63313792A JP 63056527 A JP63056527 A JP 63056527A JP 5652788 A JP5652788 A JP 5652788A JP S63313792 A JPS63313792 A JP S63313792A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
silylated
formula
halogenoester
alkyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63056527A
Other languages
English (en)
Inventor
ジャン―セルジュ フェルル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rhodia Chimie SAS
Original Assignee
Rhone Poulenc Chimie SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rhone Poulenc Chimie SA filed Critical Rhone Poulenc Chimie SA
Publication of JPS63313792A publication Critical patent/JPS63313792A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • C07F7/1872Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
    • C07F7/188Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-O linkages

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Saccharide Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、シリル化ケテンアセクールの製造方法、さら
に特定すれば、アルキルハロゲノシラン又はアリールハ
ロゲノシランをα−ハロゲノエステルに縮合させて、上
記化合物を製造する方法に関する。
シリル化ケテンアセタールは、例えば米国特許第441
7034号に記載するとおり、重合用触媒として用いら
れる。又これはラクタム合成の原料としても用いられる
(西ドイツ特許第3007298号)。
シリル化ケテンアセタールは、次の一般式(■):(式
中、R+  、Rz  、R3、Raはアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、アリール基、アルアルキル基、ア
ルキルアリール基のなかから選ばれる同一の又は異なる
基を表わし、R4はトリアルキルシリルオキシアルキル
基をも表わすことができる、アルキル基は1〜6個の炭
素原子を有することが望ましい。)で表わされる全ての
化合物のことである。
これらの化合物は、従来技術によれば2つの主要な方法
に従って得られている。例えば、ChemicalPh
armaceutical Bulletin 31.
4576−4588(I983)に吉井及び式日が発表
した論文により、次の反応に従い、ロジウム又は白金を
触媒としてメタクリル酸メチルをヒドロシリル化して、
シリル化ケテンアセタールを調製することが知られてい
る。
Rb   Rs    0 R7HOR。
この方法には、過剰の水素化リチウムを加えることによ
りトリアルキルクロシランから得られたトリアルキルハ
イドロゲノシラン(R3) 3SiHが原料として必要
となるが、水素化リチウムが揮発性できわめて可燃性が
高いためにこの反応は実施かむすかしい。基R8がメチ
ル基を表わす場合、原料として用いるトリメチルシラン
は9℃の沸点を有し、これは保存上、取扱い上の大きな
問題をひき起こす。
さらにJournal of Chemical 5o
ciety、 Chem。
Communication、 136−137(I9
71)にNENG KUO,F、C。
HEN、 C,AlN5IRTH,J、BLOOMFI
ELDが発表した論文により、次の反応に基づきクロロ
シランを用いてエノラートエステルを縮合させてシリル
化ケテンアセタールを調製する技術が知られている:エ
ノラートは、この論文によるとテトラヒドロフラン中で
のイソブチル酸メチルに対する水素化ナトリウム、水素
化リチウム又はジイソプロピルリチウムアミドのような
強塩基の作用により調製する。その後クロロシランをO
℃〜−78℃の温度で加える。
非常に低温のテトラヒドロフランの中でリチウム化誘導
体の取り扱いは工業的の実施がきわめてむずかしい。業
界は、シリル化ケテンアセタールを費用をあまりかけず
に危険の無い形で製造する工業的方法を常に追求してい
る。
本発明はこの目的を達成することに成功した。
本発明の目的は、 一般式(I)のシリル化ケテンアセタール:(式中、R
+  、R2、R3、R4は、アルキル基、アルコキシ
アルキル基、アリール基、アルアルキル基、アルキルア
リール基のなかから選ばれる同一の又は異なる基を表わ
し、さらにR1はトリメチルシリルオキシアルキルを表
わすこともできる)の製造方法であって、 一般式(II’)のα−ハロゲノエステル:(式中、R
+  、R2、Raは前記定義と同しであり、Xは塩素
又は臭素を表わす)を金属ナトリウムの存在下で、アリ
ール又はアルキルハロゲノシランを加えて反応させるこ
とを特徴とする。
なお、(Journal of Organometa
llic Chemistry9351−70 (I9
72) ニは、J、P、PILARD、 A、EKOL
YA、 J。
DONUGUES、 N、DUFFAUT及びR,CA
LAS ニ従ッテ、0°C〜10℃の温度のテトラヒド
ロフランの中で、リチウムの存在下でα−ハロゲノエス
テルをクロロメチルシランと接触させる方法を示す。し
かしこの方法はトリメチルシリル−2イソ酪酸メチルを
得ることを可能にしたに過ぎない。
本発明はこの従来技術とは異って、金属ナトリウムの存
在下でα−ハロゲノエステルをアリール又はアルキルハ
ロゲノシランと接触させることにより、次式の反応に従
ってシリル化ケテンアセタールの製造を可能にした。
なお式(II)のハロゲノエステル: は対応する酸のハロゲン化により得られる。このとき温
度は20℃〜150℃、望ましくは70℃〜100℃で
、硫酸を加えて数時間気体塩素を用いて、対応する酸を
塩素置換することにより得られるα−クロロエステルを
用いることが望ましい。ハロゲン化された酸は、次に当
業者に周知のあらゆる方法を用いて、式R40■のアル
コールにより、そのままエステル化する。
式(I)のシリル化ケテンアセタール:はハロゲノシラ
ンを反応媒質として溶媒なしで、又は芳香族もしくは脂
肪族の炭化尿素、ヘキサメチルジシロキサンのような珪
素化合物の溶媒のなかから選ばれる溶媒を加えた状態で
、アルキル又はアリールハロゲノシランを用いて式(I
I) α−ハロゲノエステルの付加により得られる。
ナトリウムは媒質中に「サンディングされた」形で導入
する。
「サンディングされた」ナトリウムは、ナトリウムの融
点より高い温度の溶媒中にナトリウムを導入し、撹拌し
ながら冷却して得られる。次にアルキル又はアリールハ
ロゲノシランとα−ハロゲノエステルとの混合物を導入
する。
アルキル又はアリールハロゲノシラン対α−ハロゲノエ
ステルのモル比は1.5以上が望ましい。
当然のことながら、アルキル又はアリールハロゲノシラ
ンは反応媒質中で溶媒として作用することができるため
、その量に上限はない。単に当業者がこの方法の経済性
に適合するように上限を設定すればよい。
導入するナトリウムの量は、化学量論の約10%過剰と
することが望ましい。
温度は30℃〜100℃、特に約80℃で縮合を行なう
ことが望ましい。
式(I[)のα−ハロゲノエステルとしては、以下のよ
うなものが挙げられる:メチルー2クロロ又はプロモー
2プロピオン酸のメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、チルブチル、フェニル、又はトリメチル
シリルオキシプロピルのエステル;エチル−2、プロピ
ル−2、ブチル−2、フェニル−2、クロロ又はブロモ
−2プロピオン酸のアルキルエステル;アルキル−2ク
ロt’ 又ハフ’ロモー2酪酸のメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、チルブチル、フェニル、
又はトリメチルシリルオキシプロピルのエステル。
アルキル又はアリールハロゲノシランのなかでは、ブロ
モ又はクロロシラン、特にトリメチルクロロシラン、ジ
フェニルメチルクロロシラン、ジメチルフェニルクロロ
シラン、トリエチルクロロシラン、n−ブチルジメチル
クロロシラン、トリメチルブロモシラン、ジフェニルメ
チルクロロシラン、ジメチルフェニルブロモシラン、n
−ブチル ジメチルブロモシランを用いることが望まし
い。
本発明の目的である、式(I)を満足するシリル化ケテ
ンアセタールとしては、以下のものを挙げることができ
るニトリメチルシリルオキシ−1メトオキシ−1メチル
−2プロペン;ジメチルフェニル、ジフェニルメチル、
n−ブチルジメチル、又はトリエチルシリルオキシ−1
メトキシ−1ジメチルプロペン;トリアルキル又は了り
−ルシリルオキシ−1、エトキシ−1、プロポキシ−1
、ブトキシ−1、フヱノキシ−1、トリメチルシリルオ
キシプロポキシ−1、メチル−2プロペン;トリアルキ
ル又はアリールシリルオキシ−1アルコオキシ−1エチ
ル−2、プロピル−2、ブチル2、フェニル−2プロペ
ン;トリアルキル又はアリールシリルオキシ−1アルコ
オキシ−1アルキル−2ブテン。
本発明の目的である化合物は特にろ過により単離され、
析出物は反応溶媒で洗浄する。シリル化ケテンアセター
ルを含むろ過動は、90%以上の純度をもつ生成物を得
るように減圧下で蒸留する。
本発明は、以下の例を用いてさ、らに完全に説明するが
、これは本発明を限定するものではない。
は、10モル%のクロロスルホン酸を加えて塩素により
イソ醋酸を塩素置換する工程、その後同じ反応装置内で
メタノールによりエステル化する工程の2つの工程に分
けて容易に行なわれる。
塩素置換時間は80℃〜90°Cで11時間であり、エ
ステル化時間は還流状態すなわち90℃で8時間である
蒸留された純粋なりロロイソ酪酸メチルの収率は出発物
質であるイソ酪酸に対し60%である。
撹拌機、冷却器及び精密導入系(圧入シリンジ)を有す
る標準的反応装置内に、30gのへキサメチルジシロク
サン、0.21グラム原子のナトリウム(4,85g 
)を装入する。98℃で溶媒を還流させ強い撹拌(I5
00rpm)の下で30分間ナトリウムを「サンディン
グコし、60℃まで冷却する。
注入用フラスコを用いて99%トリメチルクロロシラン
0.2モル、すなわち22gを5分で注入する。続いて
、圧入シリンジを用いて96%α−クロロイソ酪酸メチ
ル0.1モルすなわち14.2gを1時間で注入する。
この注入期間中の温度は65℃〜82℃とする。反応粗
生成物は60℃〜65℃で3時間撹拌状態に保つ。
不活性の窒素霊気下での冷却の後、生成した塩化ナトリ
ウムをフリットガラス階3でろ過して除去する。ヘキサ
メチルジシロクザン10gを2回加えてろ過動を洗浄す
る。ガスクロマトグラフィ分析により、析出物の中にも
はやクロロシラン及びシリル化ケテンアセタールが存在
しないことを確かめる。
析出物は、反応しなかったナトリウムを除去するため、
メタノール、次に水で処理する。ろ過動はまず5 Q 
mmHg、 、次に10wmHg(シリル化ケテンアセ
クールの劣化を避けるため)の低い圧力下で直径15−
のラシソヒリングを充填したカラムを用いて蒸留する。
こうして得られた生成物は、収率62%で、純度90%
であった。
この試験を確めるために、以下の条件で試験2〜9を行
なった。
以下余白

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式( I )のシリル化ケテンアセタール:▲数
    式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1、R_2、R_3及びR_4は、アルキ
    ル基、アルコキシアルキル基、アリール基、アルアルキ
    ル基及びアルキルアリール基のなかから選ばれる同一ま
    たは異なる基を表わし、さらにR_4はトリメチルシリ
    ルオキシアルキル基を表わしてもよい)の製造方法であ
    って、 一般式(II)のα−ハロゲノエステル: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_1、R_2及びR_4は前記定義と同じで
    あり、そして Xは塩素又は臭素を表わす)を、金属ナトリウムの存在
    下でアリールハロゲノシラン又はアルキルハロゲノシラ
    ンと反応させることを特徴とするシリル化ケテンアセタ
    ールの製法。 2、前式( I )及び(II)において、基R_1、R_
    2、R_3及びR_4が、アルキル鎖に1〜6個の炭素
    原子を含むアルキル基又はアルコキシアルキル基を表わ
    す、請求項1に記載の方法。 3、前記α−ハロゲノエステルがクロロエステル又はブ
    ロモエステルである、請求項1に記載の方法。 4、30〜100℃の温度で実施する、請求項1に記載
    の方法。
JP63056527A 1987-03-13 1988-03-11 シリル化ケテンアセタールの製造方法 Pending JPS63313792A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR8703695A FR2612190B1 (fr) 1987-03-13 1987-03-13 Procede de preparation de cetenes acetals silyles
FR8703695 1987-03-13

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63313792A true JPS63313792A (ja) 1988-12-21

Family

ID=9349111

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63056527A Pending JPS63313792A (ja) 1987-03-13 1988-03-11 シリル化ケテンアセタールの製造方法

Country Status (7)

Country Link
EP (1) EP0284473B1 (ja)
JP (1) JPS63313792A (ja)
AT (1) ATE63917T1 (ja)
DE (1) DE3862975D1 (ja)
ES (1) ES2022647B3 (ja)
FR (1) FR2612190B1 (ja)
GR (1) GR3002089T3 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02111780A (ja) * 1987-11-23 1990-04-24 Dow Corning Corp シリルケテンアセタールの製法
WO1998028309A1 (fr) * 1996-12-20 1998-07-02 Ihara Chemical Industry Co., Ltd. Procede d'elaboration de 1-alkoxy-1-trimethylsilyloxycyclopropanes

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4791198A (en) * 1984-07-05 1988-12-13 Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Beta-lactam compound and preparation thereof
US4824980A (en) * 1988-09-02 1989-04-25 Dow Corning Corporation Process to produce O-silyl O,N-ketene acetals

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1495716A (fr) * 1965-10-01 1967-09-22 Wacker Chemie Gmbh Procédé de préparation de composés d'isopropényloxy-siliciques
DE1668365A1 (de) * 1967-07-15 1971-05-06 Merck Patent Gmbh Keten-trialkylsilyl-acetale und Verfahren zu ihrer Herstellung

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02111780A (ja) * 1987-11-23 1990-04-24 Dow Corning Corp シリルケテンアセタールの製法
WO1998028309A1 (fr) * 1996-12-20 1998-07-02 Ihara Chemical Industry Co., Ltd. Procede d'elaboration de 1-alkoxy-1-trimethylsilyloxycyclopropanes
US5994572A (en) * 1996-12-20 1999-11-30 Ihara Chemical Industry Co., Ltd Process for production of 1-alkoxy-1-trimethylsilyloxy cyclopropanes

Also Published As

Publication number Publication date
ATE63917T1 (de) 1991-06-15
EP0284473B1 (fr) 1991-05-29
FR2612190A1 (fr) 1988-09-16
EP0284473A1 (fr) 1988-09-28
DE3862975D1 (de) 1991-07-04
GR3002089T3 (en) 1992-12-30
FR2612190B1 (fr) 1989-06-16
ES2022647B3 (es) 1991-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6017377B2 (ja) 重合性オルガノポリシロキサンの製造方法
JPH05507936A (ja) 環式サルフェートの製造法
JPS63313792A (ja) シリル化ケテンアセタールの製造方法
US4469881A (en) [2-(p-t-Butylphenyl)ethyl]silanes and method of making the same
JP5359052B2 (ja) 含フッ素モノマーの製造方法
JPH01502025A (ja) オキシモシラン類の製造法
US5371216A (en) Pyridinium salts containing alkoxysilyl groups
JPS6352629B2 (ja)
JP2592804B2 (ja) 枝分かれポリマーの製法
JPS62263138A (ja) 有機溶剤可溶性亜鉛アルコキシアルコキシドおよびその製造方法
JPS63188689A (ja) γ−メタクリロキシプロピルシラン類の製造方法
JPS61275283A (ja) エチリデンノルボルニルジメチルメタクリロキシシラン
JPH0142956B2 (ja)
JPH09295984A (ja) ペンタフルオロフェニルマグネシウム誘導体を用いるテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート誘導体の製造方法
JPH01143878A (ja) ケイ素アジド化合物の製造方法
JPH0188A (ja) ジクロロシラン類の製造方法
JPS63135393A (ja) アルキルシリルシアニドの製造方法
JP2668495B2 (ja) ケイ素系粉末物質の製造方法
JPH09296007A (ja) アクリル官能性シランの重合禁止剤
JPS63122678A (ja) 置換ジオキサノン化合物及びその製法
JPH0656703A (ja) パーフルオロアルキル置換ビフェニル誘導体の製造方法
JP3584989B2 (ja) キラルな亜鉛化合物
JPH0372486A (ja) 新規な有機ケイ素化合物
JPS6335584A (ja) 珪素の部分エステルハロゲン化物の製造法
JPS63141989A (ja) ホスフイン‐またはホスホン酸クロリドの製法