JPS5885864A - マゼンタカプラ−の製造方法 - Google Patents
マゼンタカプラ−の製造方法Info
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- JPS5885864A JPS5885864A JP18599081A JP18599081A JPS5885864A JP S5885864 A JPS5885864 A JP S5885864A JP 18599081 A JP18599081 A JP 18599081A JP 18599081 A JP18599081 A JP 18599081A JP S5885864 A JPS5885864 A JP S5885864A
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- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
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- C07D231/52—Oxygen atom in position 3 and nitrogen atom in position 5, or vice versa
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- C07D405/14—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing three or more hetero rings
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/305—Substances liberating photographically active agents, e.g. development-inhibiting releasing couplers
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- G03C7/30529—2-equivalent couplers, i.e. with a substitution on the coupling site being compulsory with the exception of halogen-substitution having the coupling site in rings of cyclic compounds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はカラー写真に用いられるマゼンタ色素形成カプ
ラー（以下、壜にマゼンタカプラーとする。）の製造方
法に関する。詳しくはマゼンタカプラーの活性点にチオ
エーテル基を導入する為の一般式合成法に関する。減色
法カラー写真は、周知の如く、露光されたハロゲン化銀
粒子を還元することにより生成する芳香族第１級アミン
系発色現像剤の酸化生成物と色素形成カプラーをハロゲ
ン化銀乳剤中で酸化カップリングすることにより色画像
が形成される。従来のカプラーの多くは目当量カプラー
、すなわち１モルの色素を形成するのにハロゲン化銀４
モルの還元を必要とするものであった。一方力プラーの
活性点がカップリングに際して離脱可能な基で置換され
た二当量カブチーも知られており、１モルの色素の形成
に対して２モルのハロゲン化銀の還元を必要とする。二
当蓋°カプラー゛は四当量力少う−に比ベカップリング
反応性が向上するので・、現像に長時間を要することな
く、迅速なカラー現像処理に適したカラー写真感光材料
を提供することができる。
ラー（以下、壜にマゼンタカプラーとする。）の製造方
法に関する。詳しくはマゼンタカプラーの活性点にチオ
エーテル基を導入する為の一般式合成法に関する。減色
法カラー写真は、周知の如く、露光されたハロゲン化銀
粒子を還元することにより生成する芳香族第１級アミン
系発色現像剤の酸化生成物と色素形成カプラーをハロゲ
ン化銀乳剤中で酸化カップリングすることにより色画像
が形成される。従来のカプラーの多くは目当量カプラー
、すなわち１モルの色素を形成するのにハロゲン化銀４
モルの還元を必要とするものであった。一方力プラーの
活性点がカップリングに際して離脱可能な基で置換され
た二当量カブチーも知られており、１モルの色素の形成
に対して２モルのハロゲン化銀の還元を必要とする。二
当蓋°カプラー゛は四当量力少う−に比ベカップリング
反応性が向上するので・、現像に長時間を要することな
く、迅速なカラー現像処理に適したカラー写真感光材料
を提供することができる。
また二当量カプラーをハロゲン化銀写真乳剤中に含むカ
ラー写真感光材料は目当量カプラーのそれに比べ、一定
量の色素を得るのにハロゲン（Ｉ［は半量でよいのでコ
ストが低域でき、同時に乳剤層の薄膜化ができ、色画像
の解像力、鮮鋭度が向上する。このように二当量カプラ
ーは四当鰍カプラーより有利な面を多く有している。
ラー写真感光材料は目当量カプラーのそれに比べ、一定
量の色素を得るのにハロゲン（Ｉ［は半量でよいのでコ
ストが低域でき、同時に乳剤層の薄膜化ができ、色画像
の解像力、鮮鋭度が向上する。このように二当量カプラ
ーは四当鰍カプラーより有利な面を多く有している。
二当童カプラーのうち、発色現像剤の酸化生成物とカッ
プリングしてメルカプタンを放出するカプラーが知られ
ている。上述のある種のチオエーテル誘導体はＤ工ＲＣ
現像抑制剤放出）カプラー、ＢＩＲ（漂白抑制剤放出）
カプラーまたはＢＡＲ（滲出促進剤放出）カプラーとし
て知られている。
プリングしてメルカプタンを放出するカプラーが知られ
ている。上述のある種のチオエーテル誘導体はＤ工ＲＣ
現像抑制剤放出）カプラー、ＢＩＲ（漂白抑制剤放出）
カプラーまたはＢＡＲ（滲出促進剤放出）カプラーとし
て知られている。
こむまでにメルカプタンを放出する二当量マゼンタカプ
ラーの製造法としては、米国特許第３，２２７゜５５４
号、同３，７０１．７８３号に記載されているように、
スルフェニルクロライドと目当量マゼンタカプラーを反
応させる方法、特開昭４９−６２，４６４号に記載され
ているように、マゼンタカプラーの４位をジブレム化し
ておき約３倍モルのメルカプタンと反応させる方法、リ
サーチディスクロージャー （Ｒｅ５ｓａｒｏｈ Ｄｉ
ａｏｌｏ＊ｕｒ＠） １３８０６ （１９７５）に記
載されているように、目当量マゼンタカプラーとメルカ
プタンの存在下、臭素を滴下してゆ〈方法、特開＠５５
−２５，０５６号に記載されているように、目当量マゼ
ンタカプラーとＳ−アルキルチオイソチオウレアとを反
応させる方法、特開昭５５−２９，８０５号に記載され
ているように、活性点にメルカプト基を有するマゼンタ
カプラーとハロゲン化合物を反応させる方法が知られて
いる。
ラーの製造法としては、米国特許第３，２２７゜５５４
号、同３，７０１．７８３号に記載されているように、
スルフェニルクロライドと目当量マゼンタカプラーを反
応させる方法、特開昭４９−６２，４６４号に記載され
ているように、マゼンタカプラーの４位をジブレム化し
ておき約３倍モルのメルカプタンと反応させる方法、リ
サーチディスクロージャー （Ｒｅ５ｓａｒｏｈ Ｄｉ
ａｏｌｏ＊ｕｒ＠） １３８０６ （１９７５）に記
載されているように、目当量マゼンタカプラーとメルカ
プタンの存在下、臭素を滴下してゆ〈方法、特開＠５５
−２５，０５６号に記載されているように、目当量マゼ
ンタカプラーとＳ−アルキルチオイソチオウレアとを反
応させる方法、特開昭５５−２９，８０５号に記載され
ているように、活性点にメルカプト基を有するマゼンタ
カプラーとハロゲン化合物を反応させる方法が知られて
いる。
本発明は上記公知文献に記載されていない新規な二当量
マゼンタカプラーの製造方法に関するものである。米国
特許第３．２２７．５５４号、同３．〒０１゜７８３号
、特開昭４９−６２，４６４号及びリサーチディスクロ
ージャー １３８０６ （１９７５）に記載の方法は
マゼンタカプラーの活性点に導入できるメルカプタンの
種類に制限があり、ヘテｐ環メルカプタン、アリールメ
ルカプタンに対し有効であるが、アルキルメルカプタン
に対しては副生成物が多く、一般的方法とはいいかたい
。
マゼンタカプラーの製造方法に関するものである。米国
特許第３．２２７．５５４号、同３．〒０１゜７８３号
、特開昭４９−６２，４６４号及びリサーチディスクロ
ージャー １３８０６ （１９７５）に記載の方法は
マゼンタカプラーの活性点に導入できるメルカプタンの
種類に制限があり、ヘテｐ環メルカプタン、アリールメ
ルカプタンに対し有効であるが、アルキルメルカプタン
に対しては副生成物が多く、一般的方法とはいいかたい
。
またこれらの方法ではスルフェニルクロライド及びピラ
ゾロンの４位ジブリム体か化学的に不安定であり、収率
低下の原因になっている。特開昭５５−２″’５，０５
６号に記載の方法はマゼンタカプラーの活性点に導入で
きるメルカプタンが、アルキルチオ基、アシルチオ基及
びチオアシルチオ基に限定されており、アリールチオ基
及びヘテロ環チオ基の導入はこの方法では不可能であり
、やはり一般的方法とはいいがたい。
ゾロンの４位ジブリム体か化学的に不安定であり、収率
低下の原因になっている。特開昭５５−２″’５，０５
６号に記載の方法はマゼンタカプラーの活性点に導入で
きるメルカプタンが、アルキルチオ基、アシルチオ基及
びチオアシルチオ基に限定されており、アリールチオ基
及びヘテロ環チオ基の導入はこの方法では不可能であり
、やはり一般的方法とはいいがたい。
またこの方法で使用される８−アシルチオ基、ソチオウ
レアの塩が精製困難なものが多く、収率低下の原因にな
っている。特開昭５５二ｚ９．ｇｏ５号に記載の方法は
あらかじめカプラーの活性点にメルカプト基を導入して
おき、次にハロゲン化物と反応させ活性点にチオエーテ
ル基を導入する方法であるが、やはり導入できるメルカ
プタンがアルキルチオ基その他に限られており、アリー
ルチオ基及びヘテロ環チオ基の導入はこの方法では不可
能であり、かつカプラーにあらかじめメルカプト基を導
入する合成ステップが加わる為、合成経路が長くなり全
体での収率が低下する欠点を有しており、やはり一般的
方法とはいいがたい。
レアの塩が精製困難なものが多く、収率低下の原因にな
っている。特開昭５５二ｚ９．ｇｏ５号に記載の方法は
あらかじめカプラーの活性点にメルカプト基を導入して
おき、次にハロゲン化物と反応させ活性点にチオエーテ
ル基を導入する方法であるが、やはり導入できるメルカ
プタンがアルキルチオ基その他に限られており、アリー
ルチオ基及びヘテロ環チオ基の導入はこの方法では不可
能であり、かつカプラーにあらかじめメルカプト基を導
入する合成ステップが加わる為、合成経路が長くなり全
体での収率が低下する欠点を有しており、やはり一般的
方法とはいいがたい。
そこで本発明の鯛造方法は目当量マゼンタカプラーの活
性点に一段階でチオエーテル基を導入できるという−利
点を有しており、導入できるメルカプタンがアルキルチ
オ基に限らずアリールチオ基及びペテロ環千オ基も可能
であり、その汎用性に特徴がある。
性点に一段階でチオエーテル基を導入できるという−利
点を有しており、導入できるメルカプタンがアルキルチ
オ基に限らずアリールチオ基及びペテロ環千オ基も可能
であり、その汎用性に特徴がある。
本発明の第１の目的はマゼンタカプラーのカップリング
活性点にチオエーテル基を導入する新規な合成法を提供
する゛ことである。第２の目的は簡単な操作でかつ高収
率のチオエーテル基を導入する一段式合成法を提供する
ことである。
活性点にチオエーテル基を導入する新規な合成法を提供
する゛ことである。第２の目的は簡単な操作でかつ高収
率のチオエーテル基を導入する一段式合成法を提供する
ことである。
第３の目的は、これらの製造方法によって得られるチオ
エーテル基を脱離基とする二当量マゼンタカプラーを提
供することである。第４の目的はチオエーテル基を脱離
基とする二当量！ゼンタカプラーを使用したハロゲン化
銀カラー写真感光材料、を提供することである。
エーテル基を脱離基とする二当量マゼンタカプラーを提
供することである。第４の目的はチオエーテル基を脱離
基とする二当量！ゼンタカプラーを使用したハロゲン化
銀カラー写真感光材料、を提供することである。
上記発明の諸目的は、カップリング活性点が未置換の四
当量マゼンタカプラーとチオスルホン酸エステル化合物
を反応させチオエーテル基を有する二当量！ゼンタカプ
ラーを得ることにより達成することができる。
当量マゼンタカプラーとチオスルホン酸エステル化合物
を反応させチオエーテル基を有する二当量！ゼンタカプ
ラーを得ることにより達成することができる。
すなわちカップリング活性位未置換のマゼンタカプラー
をＡ−Ｈとし、チオスルホン酸エステル化合物をＲ−８
−８０，−Ｒ，とすると以下の反応により二当量マゼン
タカプラーＡ−８−Ｒが生成する。
をＡ−Ｈとし、チオスルホン酸エステル化合物をＲ−８
−８０，−Ｒ，とすると以下の反応により二当量マゼン
タカプラーＡ−８−Ｒが生成する。
Ａ−Ｈ十″’ Ｒ−８−８ｏ、−Ｒ，−一→ムー８−Ｒ
一般式（Ｉ） ム−８−Ｒ 一般式（［） Ｒ−８−Ｓｏ□−Ｒ１式中、人は
マゼンタカプラーのカップリング活性点の水素原子を１
個除去した残基を表わす。Ｒはアルキル基、アリール基
、複素環基、アシル基、Ｗ Ｗ （式中Ｗはアルキル基、アリール基、゛複素環基を表わ
し、２は水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基
を表わす。）を表わし、丘、はアルキル基、アリール基
、複素環基を表わす。
一般式（Ｉ） ム−８−Ｒ 一般式（［） Ｒ−８−Ｓｏ□−Ｒ１式中、人は
マゼンタカプラーのカップリング活性点の水素原子を１
個除去した残基を表わす。Ｒはアルキル基、アリール基
、複素環基、アシル基、Ｗ Ｗ （式中Ｗはアルキル基、アリール基、゛複素環基を表わ
し、２は水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基
を表わす。）を表わし、丘、はアルキル基、アリール基
、複素環基を表わす。
Ｒで表わされるアルキル基は飽和のもの、不飽和のもの
、直鎖のもの、分肢のもの、環状のもののいずれでもよ
く、例えばメチル、エチル、１−プロピル、１−ブチル
、１＋−ブチル、ｎ−ドデシル、ｎ−オクタデシル、シ
クロヘキシル、シクロヘキシルメチル、チリル、オレイ
ル、シクロヘキセニル等である。これらの基はハロゲン
原子、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アルコキシ、アリ
ールオキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カルボ
キシ、カルボン酸エステル、カルバモイル、スルホ、ス
ルホン酸エステル、スルファモイル、アルキルチオ、ア
リールチオ、スルホニル、アシル、アミノ、アジルアし
ノ、スルホンアミド、ウレイド、ウレタン、スルフィニ
ル、メルカプト、アリール、複素環などの置換基で置換
されてもよい。
、直鎖のもの、分肢のもの、環状のもののいずれでもよ
く、例えばメチル、エチル、１−プロピル、１−ブチル
、１＋−ブチル、ｎ−ドデシル、ｎ−オクタデシル、シ
クロヘキシル、シクロヘキシルメチル、チリル、オレイ
ル、シクロヘキセニル等である。これらの基はハロゲン
原子、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アルコキシ、アリ
ールオキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カルボ
キシ、カルボン酸エステル、カルバモイル、スルホ、ス
ルホン酸エステル、スルファモイル、アルキルチオ、ア
リールチオ、スルホニル、アシル、アミノ、アジルアし
ノ、スルホンアミド、ウレイド、ウレタン、スルフィニ
ル、メルカプト、アリール、複素環などの置換基で置換
されてもよい。
Ｒで表わされるアリール基の代表的、な具体例はフェニ
ル基及びす７チル基であり、これらの基はハロゲン原子
、ニトロ、シアノ、アルキル、ヒドロキシ、アルコキシ
、アリールオキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、
カルボキシ、カルボン酸エステル、カルバモイル、スル
ホ、スルホン酸エステル、スルファモイル、アルキルチ
オ、アリールチオ、スルホニル、アシル、アミノ、アシ
ルアミノ、スルホンアミド、ウレイド、ウレタン、スル
フィニル、メルカプト、アリール、複素環などの置換基
で置換されてもよい。
ル基及びす７チル基であり、これらの基はハロゲン原子
、ニトロ、シアノ、アルキル、ヒドロキシ、アルコキシ
、アリールオキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、
カルボキシ、カルボン酸エステル、カルバモイル、スル
ホ、スルホン酸エステル、スルファモイル、アルキルチ
オ、アリールチオ、スルホニル、アシル、アミノ、アシ
ルアミノ、スルホンアミド、ウレイド、ウレタン、スル
フィニル、メルカプト、アリール、複素環などの置換基
で置換されてもよい。
Ｒで表わされる複素環基の具体例はテトラゾリル、・ベ
ンゾオキサシリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾ
リル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、トリアゾリ
ル、７ラニル、ベンゾフラニル、オキサシリル、ピラニ
ル、オキサジニル、ピリジル、ビリ之ジニル、チェニル
、テトラヒドロチェニル、テトラヒドロ７ラニル、テト
ラヒドロピラニル、ピリジル、イミダゾリル、ピラゾリ
ル、モルホリニル等であり、これらの基はハロゲン原子
、ニトロ、シアノ、アルキル、ヒドロキシ、アルコキシ
、アリールオキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、
カルボキシ、カルボン酸エステル、カルバモイル、スル
ホ、スルホン酸エステル、スルファモイル、アリールチ
オ、アリールチオ、スルホニル、アシル、アミノ、了シ
ルアミノ、スルホンアミド、ウレイド、ウレタン、スル
フィニル、メルカプト、アリール、複素環などの置換基
で置換されてもよい。
ンゾオキサシリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾ
リル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、トリアゾリ
ル、７ラニル、ベンゾフラニル、オキサシリル、ピラニ
ル、オキサジニル、ピリジル、ビリ之ジニル、チェニル
、テトラヒドロチェニル、テトラヒドロ７ラニル、テト
ラヒドロピラニル、ピリジル、イミダゾリル、ピラゾリ
ル、モルホリニル等であり、これらの基はハロゲン原子
、ニトロ、シアノ、アルキル、ヒドロキシ、アルコキシ
、アリールオキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、
カルボキシ、カルボン酸エステル、カルバモイル、スル
ホ、スルホン酸エステル、スルファモイル、アリールチ
オ、アリールチオ、スルホニル、アシル、アミノ、了シ
ルアミノ、スルホンアミド、ウレイド、ウレタン、スル
フィニル、メルカプト、アリール、複素環などの置換基
で置換されてもよい。
Ｒで表わされるアシル基の具体例はア七チル、ｎ−プロ
ピオニル、ｎ−テトラデカノイル、ベンゾイル、ニジキ
シカルボエル、ジメチルアミノカルボニル、エトキザリ
ル、ビルビル等である。
ピオニル、ｎ−テトラデカノイル、ベンゾイル、ニジキ
シカルボエル、ジメチルアミノカルボニル、エトキザリ
ル、ビルビル等である。
Ｒで表わされるチオ了シル基の具体Ｎはジエチルアミノ
チオカルボニル、メチルチオカルボニル、フェニルチオ
カルボニル、シクロヘキシルチオカルボニル、１−ピペ
リジンチオカルボニル等である。
チオカルボニル、メチルチオカルボニル、フェニルチオ
カルボニル、シクロヘキシルチオカルボニル、１−ピペ
リジンチオカルボニル等である。
Ｗ及び２で表わされるアルキル基、アリール基、複素環
基は前述したＲのアルキル基％７１Ｊ−ル基、複素環基
と同様の基を挙げることができる。
基は前述したＲのアルキル基％７１Ｊ−ル基、複素環基
と同様の基を挙げることができる。
Ｒ，で表わされるアルキル基、アリール基、複素環基は
前述した只のアルキル□基、アリール基、複素環基と同
様の基を挙げることができる。
前述した只のアルキル□基、アリール基、複素環基と同
様の基を挙げることができる。
人で表わされるマゼンタ色素形成カプラー残基としては
５−オキソ−２−ピラゾリン核、ビラゾｖｘ−［１，５
−＆］ベンズイミダゾール核、ＩＨピラゾロ［５＊
ｌ−０］［１９２１４］ ）リアゾール核、インダシロ
ン核、ベンジルシアナイド核、ピラゾリジン−３，５−
ジオン核等があるが、５−オキソ−２−ピラゾリン核、
ピラゾロ−［１゜５７− ＠ ］ ベンズイミダゾール
核及びＩＨビ門ゾロ［５，１−０コ［１，２，４］）リ
アゾール核が好ましい。
５−オキソ−２−ピラゾリン核、ビラゾｖｘ−［１，５
−＆］ベンズイミダゾール核、ＩＨピラゾロ［５＊
ｌ−０］［１９２１４］ ）リアゾール核、インダシロ
ン核、ベンジルシアナイド核、ピラゾリジン−３，５−
ジオン核等があるが、５−オキソ−２−ピラゾリン核、
ピラゾロ−［１゜５７− ＠ ］ ベンズイミダゾール
核及びＩＨビ門ゾロ［５，１−０コ［１，２，４］）リ
アゾール核が好ましい。
本発明に有用なム−で表わされる残基は下記一般式（Ｉ
ＩＩＪ 、（ＩＶ）及び（Ｖ）によって表わされるもの
である。
ＩＩＪ 、（ＩＶ）及び（Ｖ）によって表わされるもの
である。
一般式（［１）において−はアルキル基、アリール基、
複素環基を表わす。
複素環基を表わす。
Ｒ１で表わされるアルキル基は飽和のもの、不飽和のも
の、直鎖のもの、分岐のもの、環状のもののいずれでも
よく、例えばメチル、エチル、１−プロピル、ｎ−ブチ
ル、ｔ−ブチル、ｎ−ドデシル、ｎ−オタタデシル、シ
フ−ヘキシル、シクロヘキシルメチル、アリル、オレイ
ル、シクロヘキセニル等である。これらの基はハロゲン
原子、ニジｐ１シアノ、ヒドロキシ、アルコキシ、アリ
ールオキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カルボ
キシ、カルボン酸エステル、カルバモイル、゛スルホ、
スルホン酸エステル、スルファモイル、アルキルチオ、
アリールチオ、スルホニル、アシル、アミノ、アシルア
ミノ、スルホンアミド、ウレイド、ウレタン、スルフェ
ニル、メルカプト、アリール、複葉環などの置換基で置
換されてもよい。
の、直鎖のもの、分岐のもの、環状のもののいずれでも
よく、例えばメチル、エチル、１−プロピル、ｎ−ブチ
ル、ｔ−ブチル、ｎ−ドデシル、ｎ−オタタデシル、シ
フ−ヘキシル、シクロヘキシルメチル、アリル、オレイ
ル、シクロヘキセニル等である。これらの基はハロゲン
原子、ニジｐ１シアノ、ヒドロキシ、アルコキシ、アリ
ールオキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カルボ
キシ、カルボン酸エステル、カルバモイル、゛スルホ、
スルホン酸エステル、スルファモイル、アルキルチオ、
アリールチオ、スルホニル、アシル、アミノ、アシルア
ミノ、スルホンアミド、ウレイド、ウレタン、スルフェ
ニル、メルカプト、アリール、複葉環などの置換基で置
換されてもよい。
−で表わされるアリール基はフェニル基及びナフチル基
であり、これらの基は１個以上の置換基を有してもよく
、置換基としては例えば、アルキル、ハロゲン原子、ニ
トロ、シアノ、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキ
シ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カルボキ′シ、
カルボン酸エステル、カルバモイル、スルホ、スルホン
酸エステル、スルファモイル、アルキルチオ、γＭ−ル
チオ、スルホニル、アシ・ル、アミノ、アシルアミノ、
スルホンアミド、ウレイド、ウレタン、フルフィニル、
メルカプト、アリール、複素環などを有してよい。
であり、これらの基は１個以上の置換基を有してもよく
、置換基としては例えば、アルキル、ハロゲン原子、ニ
トロ、シアノ、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキ
シ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カルボキ′シ、
カルボン酸エステル、カルバモイル、スルホ、スルホン
酸エステル、スルファモイル、アルキルチオ、γＭ−ル
チオ、スルホニル、アシ・ル、アミノ、アシルアミノ、
スルホンアミド、ウレイド、ウレタン、フルフィニル、
メルカプト、アリール、複素環などを有してよい。
Ｒ８で表わされる複素環基はピリジル、キノリル、フリ
ル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサシリル、ペンシイ
之ダゾリル、ピペリジニルなどであり、これらの基は前
記のアリール基について列挙した置換基によって置換さ
れてもよい。
ル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサシリル、ペンシイ
之ダゾリル、ピペリジニルなどであり、これらの基は前
記のアリール基について列挙した置換基によって置換さ
れてもよい。
式中Ｒ，は水素原子、アルキル基（前記Ｒ８のアルキル
基と同一の意味を有する。）、アリール基（前記Ｒ１の
アリール基と同一の意味を有する。）、複素環基（前記
−の複素環基と同一の意味を有する。）、カルボン酸エ
ステル基（例えばエトキシカルボニル、フェノキシカル
ボニルＩＩＩ）、アルコキシ基（例えばメトキシ、ｎ−
ドデシルオキシ等）、アリールオキシ基（例えばフェノ
キシ）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ、ベンジル
チオ等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ）、カ
ルメキシ基、カルバモイル基（例えばエチルカルバモイ
ル、Ｎ−フェニルカルバモイル等）、アシルアミノ基（
例えばアセチルアミノ、ｎ−テトラデカノイルアミノ、
α−（２，４−ジーｔ−ア之ルフェノキシ］ブチルアミ
ド、３−［α−（２，４−ジーｔ−アミルフェノキシ）
アセトアミトコベンズアミド等〕、アミノ基（例えばメ
チルアミノ、アニリハ８−クロル−５−ｎ−テトラデカ
ンアミドアニリノ、２−クロル−５−（３−オクタデセ
ニルサクシンイミド）アニリノ等）、ウレイド基（例え
ばｎ−テトラデシルウレイド、フェニルウレイド、Ｎ−
ドデシル−Ｍ−フェニルウレイド等）、スルホンアミド
基（例えばｎ−ブタンスルホン了ミド、ｐ １１−ドデ
シルオキシベンゼンスルポンγ考ド等）、スルファモイ
ル基（例えば鳳−トチシルスルファモイル、フェニルス
ルファモイル等）、カルバモイル基（例えばエチルカル
バモイル、７エエルカルバモイル等）、アシル基（例え
ばアセチル、ベンゾイル等）、ウレタン基、シアノ基、
ヒドロキシ基、メルカプト基、スルホ基及びハロゲン原
子のいずれかを表わす。
基と同一の意味を有する。）、アリール基（前記Ｒ１の
アリール基と同一の意味を有する。）、複素環基（前記
−の複素環基と同一の意味を有する。）、カルボン酸エ
ステル基（例えばエトキシカルボニル、フェノキシカル
ボニルＩＩＩ）、アルコキシ基（例えばメトキシ、ｎ−
ドデシルオキシ等）、アリールオキシ基（例えばフェノ
キシ）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ、ベンジル
チオ等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ）、カ
ルメキシ基、カルバモイル基（例えばエチルカルバモイ
ル、Ｎ−フェニルカルバモイル等）、アシルアミノ基（
例えばアセチルアミノ、ｎ−テトラデカノイルアミノ、
α−（２，４−ジーｔ−ア之ルフェノキシ］ブチルアミ
ド、３−［α−（２，４−ジーｔ−アミルフェノキシ）
アセトアミトコベンズアミド等〕、アミノ基（例えばメ
チルアミノ、アニリハ８−クロル−５−ｎ−テトラデカ
ンアミドアニリノ、２−クロル−５−（３−オクタデセ
ニルサクシンイミド）アニリノ等）、ウレイド基（例え
ばｎ−テトラデシルウレイド、フェニルウレイド、Ｎ−
ドデシル−Ｍ−フェニルウレイド等）、スルホンアミド
基（例えばｎ−ブタンスルホン了ミド、ｐ １１−ドデ
シルオキシベンゼンスルポンγ考ド等）、スルファモイ
ル基（例えば鳳−トチシルスルファモイル、フェニルス
ルファモイル等）、カルバモイル基（例えばエチルカル
バモイル、７エエルカルバモイル等）、アシル基（例え
ばアセチル、ベンゾイル等）、ウレタン基、シアノ基、
ヒドロキシ基、メルカプト基、スルホ基及びハロゲン原
子のいずれかを表わす。
一般式ＣＩ％’）においてＲ４は水素原子、アルキル基
（前記Ｒ１のアルキル基と同一の意味を有する。）、ア
リール基（前記Ｒ１のアリール基と同一の意味を有する
。）、複素環基（前記九の複素環基と同一の意味を有す
る。）、ハロゲン原子、ニドｐ１シアハヒドロキシ、ア
ルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、スルホニル
オキシ、カルボキシ、カルボン酸エステル、カルバモイ
ル、スルホ、スルホン酸エステル、スルファモイル、ア
ルキルチオ、アリールチオ、スルホニル、アシル、アミ
ノ、アシルγ之ハスルホンアミド、ウレイド、ウレタン
、スルフィニル及びメルカプトから選ばれる基を表わす
。
（前記Ｒ１のアルキル基と同一の意味を有する。）、ア
リール基（前記Ｒ１のアリール基と同一の意味を有する
。）、複素環基（前記九の複素環基と同一の意味を有す
る。）、ハロゲン原子、ニドｐ１シアハヒドロキシ、ア
ルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、スルホニル
オキシ、カルボキシ、カルボン酸エステル、カルバモイ
ル、スルホ、スルホン酸エステル、スルファモイル、ア
ルキルチオ、アリールチオ、スルホニル、アシル、アミ
ノ、アシルγ之ハスルホンアミド、ウレイド、ウレタン
、スルフィニル及びメルカプトから選ばれる基を表わす
。
一般式（Ｖ）においてはＲ１はＲ１と同一の意味を有し
”Ｉ Ｒ１ともとは同じでも異っていてもよい。
”Ｉ Ｒ１ともとは同じでも異っていてもよい。
本発明の実施に際しては、Ａか一般式（ＨＤで示される
ものであるとき、発明の効果が大きい点で特に好ましい
。
ものであるとき、発明の効果が大きい点で特に好ましい
。
以下は一般式（ｎ）で示される化合物の具体例である。
（３０） ＯＨ，−ｓ−８０，−ＯＨ。
（３リ ｎ ０４Ｈ１８Ｂｏｇ ０４Ｈ＠
ｎ００、Ｈ。
ｎ００、Ｈ。
これら一般式（Ｉｆ）の化合物は従来公知の方法で合成
できる。例えば、スルフィン際又はその金属塩とスルフ
ェニルクロライドを反応させる方法、チオスルホン酸塩
とハロゲン化合物を反応させる方法、メヘカブタンとス
ルホニルクロライドを反応させる方法、スルホニルクロ
ライドの二分子還元、ジスルフィドの酪化などであり、
これらの合成方法はケミカルアプスＦラク７ （Ｏｈａ
ｍｉａ＊ＩＡｂｓｔｒａｏｔｓ ） ’ ４９巻 ２３
４６ 、同５４巻 １６４１ｇ、同６３巻 １４７３９
、同６４巻 １４１１９などに記載されている。
できる。例えば、スルフィン際又はその金属塩とスルフ
ェニルクロライドを反応させる方法、チオスルホン酸塩
とハロゲン化合物を反応させる方法、メヘカブタンとス
ルホニルクロライドを反応させる方法、スルホニルクロ
ライドの二分子還元、ジスルフィドの酪化などであり、
これらの合成方法はケミカルアプスＦラク７ （Ｏｈａ
ｍｉａ＊ＩＡｂｓｔｒａｏｔｓ ） ’ ４９巻 ２３
４６ 、同５４巻 １６４１ｇ、同６３巻 １４７３９
、同６４巻 １４１１９などに記載されている。
次にこれら一般式（ＩＩ）のチオスルホン−エステルと
四当量マゼンタカプラーの反応について述べ四装置カプ
ラーに対し使用するチオスルホン鎌エステルのモル比は
１〜１０で使用することができるが１〜８倍量が好まし
い。反応溶媒としてはアルコールｉ［−（メタノール、
エタノール、イソプリパノール等）、エーテル系溶媒（
テトラヒドロ７ラン、ジオキサン等）、エステル系溶媒
（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、ケトン系溶媒（アセ）
ン、メチルエチルケトン等】、ハ四ゲン化水素系溶媒（
クロロホルム、ジクｐルエタン等）、芳香族炭化水素系
溶媒（ベンゼン、トルエン、キシレン等）、非プロトン
性極性溶媒（ジメチルホルムア之ド、ジメチルスルホキ
シド、ヘキサメチルホスホトリアミド等ン、有機酸溶媒
（酢酸等）、石油系溶媒、アセトニトリル、水等が使用
されるが、特にアルコール系溶媒が好ましい。
四当量マゼンタカプラーの反応について述べ四装置カプ
ラーに対し使用するチオスルホン鎌エステルのモル比は
１〜１０で使用することができるが１〜８倍量が好まし
い。反応溶媒としてはアルコールｉ［−（メタノール、
エタノール、イソプリパノール等）、エーテル系溶媒（
テトラヒドロ７ラン、ジオキサン等）、エステル系溶媒
（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、ケトン系溶媒（アセ）
ン、メチルエチルケトン等】、ハ四ゲン化水素系溶媒（
クロロホルム、ジクｐルエタン等）、芳香族炭化水素系
溶媒（ベンゼン、トルエン、キシレン等）、非プロトン
性極性溶媒（ジメチルホルムア之ド、ジメチルスルホキ
シド、ヘキサメチルホスホトリアミド等ン、有機酸溶媒
（酢酸等）、石油系溶媒、アセトニトリル、水等が使用
されるが、特にアルコール系溶媒が好ましい。
反応に用いる塩基触媒としては炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、）リエチルアミン、ピリ
ジン、ＤＢＴｌ、ナトリウムエチラート、ナトリウムメ
チラート、金属ナトリウム等使用することができるが、
ナトリウムエチラ。
リウム、炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、）リエチルアミン、ピリ
ジン、ＤＢＴｌ、ナトリウムエチラート、ナトリウムメ
チラート、金属ナトリウム等使用することができるが、
ナトリウムエチラ。
−）及びナトリウムメチラートが特に好ましい・触媒量
は四当櫃カプラーに対し１〜２０倍モル量で使用するこ
とができるが、１〜４倍モル量か特に好ましい。反応温
度は一１０〜１５０℃で実施できるが１０〜ｔＯ℃の範
囲が好ましい。
は四当櫃カプラーに対し１〜２０倍モル量で使用するこ
とができるが、１〜４倍モル量か特に好ましい。反応温
度は一１０〜１５０℃で実施できるが１０〜ｔＯ℃の範
囲が好ましい。
反応終了後、反応混合液を水あけすると生成物の一般式
（Ｉ）で表わされるカプラーが得られる〇このとき副生
成物のスルフィン酸塩は水洗により除去することができ
る。必要に応じて生成物を酢酸エチル等の有機溶媒で抽
出し、水洗後硫酸ナトリウム、硫酸マグネシウム等の乾
燥剤で乾燥し濃縮してカプラーを得ることができる。更
に適当な溶媒から再結晶して精製することができる。
（Ｉ）で表わされるカプラーが得られる〇このとき副生
成物のスルフィン酸塩は水洗により除去することができ
る。必要に応じて生成物を酢酸エチル等の有機溶媒で抽
出し、水洗後硫酸ナトリウム、硫酸マグネシウム等の乾
燥剤で乾燥し濃縮してカプラーを得ることができる。更
に適当な溶媒から再結晶して精製することができる。
本発明の製造法によれば、これまで文献既知の方法では
容易に合成できなかったアルキルチオ基、アリールチオ
基、ヘテロ環チオ基を脱離基とする二装置マゼンタカプ
ラーを合成することができる。
容易に合成できなかったアルキルチオ基、アリールチオ
基、ヘテロ環チオ基を脱離基とする二装置マゼンタカプ
ラーを合成することができる。
本発明の製造方法は、反応温度は室温の温和な条件で、
活性点未置換の四当量カプラーから一段階で高収率で種
々のチオエーテル基をカプラーの活性点に導入できると
いう利点を有している。
活性点未置換の四当量カプラーから一段階で高収率で種
々のチオエーテル基をカプラーの活性点に導入できると
いう利点を有している。
本発明により得ることができる二当量マゼンタカプラー
の具体例は以下のとおりである。
の具体例は以下のとおりである。
例示カプラー
ＯＨ。
（４）
ＯＨ。
（８）
１
（１０）
Ｓｏ、Ｈ
（１１）
（１３）
１
（１４） 、
（１６）
ｌ
（１７）
（１８）
Ｏｊ
（１９λ
０＊Ｈａ
（２１）
Ｃ！
（２２）
り
（２６）
Ｉ
山
（２７）
（３３） ０（３す
０、雪Ｈｔ藝−ｎ
本発明の製造法による代表的カプラーの合成例−を以下
に記すが、これによって何尋限定されるものではない。
に記すが、これによって何尋限定されるものではない。
実施例１ （例示カプラー（１）の合成ン／
１−（ｇ、 ４．６−）リクロルフェニル）−３−（
２−クロル−５−ｙｓ−テトラデカンアミドアニリノ）
−１−ベンジルチオ−５−オキソ−２−ピラゾリンの合
成 無水エタノール５０ＷＬｌに金属−ナトリウム０．３
ｆｌを溶かした溶液に、１−（２，４，６−）リクロル
フェニル）−３−（２−クロル−５−ｎ−テトラデカン
アミドアニリノ）−５−オキソ−２−ピラゾリン６．１
９を加え更にベンジルベンゼン千オスルホネー） ３．
４９を加えて室温で４時間反応させた。反応混合物を希
塩酸中に注ぐと白色の固体が析出した。この固体をろ取
した後、エタノールより再結晶して目的物の白色結晶６
．１５．９を得た。
２−クロル−５−ｙｓ−テトラデカンアミドアニリノ）
−１−ベンジルチオ−５−オキソ−２−ピラゾリンの合
成 無水エタノール５０ＷＬｌに金属−ナトリウム０．３
ｆｌを溶かした溶液に、１−（２，４，６−）リクロル
フェニル）−３−（２−クロル−５−ｎ−テトラデカン
アミドアニリノ）−５−オキソ−２−ピラゾリン６．１
９を加え更にベンジルベンゼン千オスルホネー） ３．
４９を加えて室温で４時間反応させた。反応混合物を希
塩酸中に注ぐと白色の固体が析出した。この固体をろ取
した後、エタノールより再結晶して目的物の白色結晶６
．１５．９を得た。
融点は１８１〜１８２℃で収率は８９％であった。
実施例２ （例示カプラー（６）の合成）１−（＄、
４．６−）リタロル７エエルンー３−（２−クロル−５
−ｎ−テトラデカンアミドアニリノ）−４−フェニルチ
オ−６−オキソ−２−ピラゾリンの合成 無水エタノール５０ｍに金属ナトリウム０．３ ＩＩを
溶かした溶液に、１−（２，４，６−）リフｐｙ’ フ
ェニル）−３−（２−り四ルー５−ｎ−テトラデカン了
ミドアニリノ〕−５−オキソ−２−ピラゾリン６．１ｇ
を加え、更にフェニルベンゼンチオスルホネー） ３．
３９を加えて室温で５時間反応させた。反応混合物を希
塩酸中に注ぐと白色の固体が析出した。この固体をろ取
した後、エタノールより再結晶して目的物の白色結晶５
．９ Ｉｉを得た、融点は２１’４．５〜２１６℃で収
率は８２％であった。
４．６−）リタロル７エエルンー３−（２−クロル−５
−ｎ−テトラデカンアミドアニリノ）−４−フェニルチ
オ−６−オキソ−２−ピラゾリンの合成 無水エタノール５０ｍに金属ナトリウム０．３ ＩＩを
溶かした溶液に、１−（２，４，６−）リフｐｙ’ フ
ェニル）−３−（２−り四ルー５−ｎ−テトラデカン了
ミドアニリノ〕−５−オキソ−２−ピラゾリン６．１ｇ
を加え、更にフェニルベンゼンチオスルホネー） ３．
３９を加えて室温で５時間反応させた。反応混合物を希
塩酸中に注ぐと白色の固体が析出した。この固体をろ取
した後、エタノールより再結晶して目的物の白色結晶５
．９ Ｉｉを得た、融点は２１’４．５〜２１６℃で収
率は８２％であった。
実施例３ （例示カプラー（１）の合成）１−（２，４
，６・−トリク田ルフェニル）−３−［２−クロル−５
−（’３−オクタデセニルサクシンイミドノアニリノ］
−４−エチルチオー５−オキソー２−ピラゾリンの合成 無水エタノール５０ｍ１に金属ナトリウム０．３ ！を
溶かした溶液に、ｌ−（２，４，ａ−）リクロルフェニ
ル）−３−［２−り田ルー５−（３−オフタデ七ニルサ
クシンイ瑠ド）アニリノ］−ａ−オキソー８−ビラ゛ゾ
リンフｒ４７７を加え更にエチルベンゼンチオスルホネ
ー） ２．６１７を加えｙ室温で６時間反応させた。反
応混合物を希塩酸中に注ぎ、酢酸エチルで抽出後乾燥濃
縮した。
，６・−トリク田ルフェニル）−３−［２−クロル−５
−（’３−オクタデセニルサクシンイミドノアニリノ］
−４−エチルチオー５−オキソー２−ピラゾリンの合成 無水エタノール５０ｍ１に金属ナトリウム０．３ ！を
溶かした溶液に、ｌ−（２，４，ａ−）リクロルフェニ
ル）−３−［２−り田ルー５−（３−オフタデ七ニルサ
クシンイ瑠ド）アニリノ］−ａ−オキソー８−ビラ゛ゾ
リンフｒ４７７を加え更にエチルベンゼンチオスルホネ
ー） ２．６１７を加えｙ室温で６時間反応させた。反
応混合物を希塩酸中に注ぎ、酢酸エチルで抽出後乾燥濃
縮した。
淡黄色カラメル状の目的物７．６ｇを得た。
収率は９６噂であった。
実施例４ （例示カプラー（１６）’の合成）１−（２
，４，６−）リクｐルフェニル）−３−［Ｑ−り四ルー
５−（３−オクタデセニルサクシンイミド〕アニリノ］
−４−（２−テトラヒドロ７リルチオ）−５−オキソ−
２−ピラゾリンの合成 無水エタノール５０ｄに金属ナトリウム０．３１を溶か
した溶液に、１−（２，４，６−）リクロルフェニル）
−３−［２−クロル−５−（３−オクタデセエルサクシ
ンイミド）アジリノ］ −ａ −オキソ−２−ビラゾリ
ンフ、４１１を加え更に２−テトラヒドロフリルベンゼ
ンチオスルホネート３．２ｇを加えて室温で５時間反応
させた。反応混合物を希塩酸中に注ぎ、酢酸エチルで抽
出後乾燥濃縮した。
，４，６−）リクｐルフェニル）−３−［Ｑ−り四ルー
５−（３−オクタデセニルサクシンイミド〕アニリノ］
−４−（２−テトラヒドロ７リルチオ）−５−オキソ−
２−ピラゾリンの合成 無水エタノール５０ｄに金属ナトリウム０．３１を溶か
した溶液に、１−（２，４，６−）リクロルフェニル）
−３−［２−クロル−５−（３−オクタデセエルサクシ
ンイミド）アジリノ］ −ａ −オキソ−２−ビラゾリ
ンフ、４１１を加え更に２−テトラヒドロフリルベンゼ
ンチオスルホネート３．２ｇを加えて室温で５時間反応
させた。反応混合物を希塩酸中に注ぎ、酢酸エチルで抽
出後乾燥濃縮した。
淡黄色カラメル状の目的゛物フ、５ｇを得た。
収率は９３％であった。
比較実施例１
実施例１の化合物（４）を合成するのに従来知られてい
る特開昭５５−２５０５６号に記載の合成法に従った場
合。
る特開昭５５−２５０５６号に記載の合成法に従った場
合。
１−（２，４，６−）リクロル７エエル）−３−（２−
クロル−５ｎ−テトラデカンアミドアニリノ）−５−オ
キソ−２−ピラゾリン６．１ｇを８０％エタノール１２
５ｄに溶がし、炭酸カリウム０９ｇを添加し、加熱還流
攪拌下、Ｓ−ベンジルチオイソチオ尿素・塩酸＃１３．
１９を９０％エタノールｓｏｄに溶かしたものを１時間
かかって滴下し、さらに２時間加熱攪拌した。薄層クロ
マトで反応が終了した事を確ｉした後反応容器を氷冷し
た。生成した固体をと取し、エタノールより再結晶して
目的物の白色結晶３．５ ｆｉを得た。
クロル−５ｎ−テトラデカンアミドアニリノ）−５−オ
キソ−２−ピラゾリン６．１ｇを８０％エタノール１２
５ｄに溶がし、炭酸カリウム０９ｇを添加し、加熱還流
攪拌下、Ｓ−ベンジルチオイソチオ尿素・塩酸＃１３．
１９を９０％エタノールｓｏｄに溶かしたものを１時間
かかって滴下し、さらに２時間加熱攪拌した。薄層クロ
マトで反応が終了した事を確ｉした後反応容器を氷冷し
た。生成した固体をと取し、エタノールより再結晶して
目的物の白色結晶３．５ ｆｉを得た。
融点は１８１〜１８２℃で収率は１７弧であった。
比較実施例２
米国特許第３，２２１．５５４号に記載の方法で次のカ
プラーを合成した。
プラーを合成した。
１−（２，４，６−）リクロルフェニル）−３（５［ｒ
（２ｅ４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ブタンアミ
トコ−８−クロルアニリノ）−一番−フェニルチオー５
−オキソ−２−ピラゾリンの合成 チオフェノール１．２ｇを四塩化炭素３０ＩＬｌに溶か
し室温で塩素ガスを１５分間導入し得た橙色溶液を濃縮
して橙色オイルのベンゼンスルフェニルクロライドを得
た。
（２ｅ４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ブタンアミ
トコ−８−クロルアニリノ）−一番−フェニルチオー５
−オキソ−２−ピラゾリンの合成 チオフェノール１．２ｇを四塩化炭素３０ＩＬｌに溶か
し室温で塩素ガスを１５分間導入し得た橙色溶液を濃縮
して橙色オイルのベンゼンスルフェニルクロライドを得
た。
１−（２，４，６−トリフルルフェニル）−３−（５−
［ｙ −（２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ブタン
アミｐ］−ｔ−クロルアニリノ）−５−オキソ−２−ビ
ラゾリンフ、０９をトルエン１００ ｔｄに溶かした溶
液を約８０℃に加温して攪拌する中へ、先のベンゼンス
ルフェニルクロライドのトルエン溶液ｓｏｍを滴下した
。３時間加熱攪拌した後、反応液を濃縮して残漬をカラ
ムクロマトグラフィー（シリカゲルを充填剤としてベン
ゼンと酢酸エチルで展開した。）にかけ目的物をとり出
し更にベンゼンから再−品して白色結晶３．０９を得た
。
［ｙ −（２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）ブタン
アミｐ］−ｔ−クロルアニリノ）−５−オキソ−２−ビ
ラゾリンフ、０９をトルエン１００ ｔｄに溶かした溶
液を約８０℃に加温して攪拌する中へ、先のベンゼンス
ルフェニルクロライドのトルエン溶液ｓｏｍを滴下した
。３時間加熱攪拌した後、反応液を濃縮して残漬をカラ
ムクロマトグラフィー（シリカゲルを充填剤としてベン
ゼンと酢酸エチルで展開した。）にかけ目的物をとり出
し更にベンゼンから再−品して白色結晶３．０９を得た
。
融点は１２７〜１３０℃で収率は３７％であった。
比較実施例１及び比較実施例２はチルキルチオ基及びア
リールチオ基をマゼンタカプラーの活性点に導入する従
来公知の方法であり、本発明の製造方法と比較して収率
がいずれも低く副生成物が多く出現していることがわか
る。
リールチオ基をマゼンタカプラーの活性点に導入する従
来公知の方法であり、本発明の製造方法と比較して収率
がいずれも低く副生成物が多く出現していることがわか
る。
本発明のチオエーテル基を有するマゼンタカプラーの製
造方法はこれら従来公知の方法に比べ、反応温度が室温
で行えるという利点を有しており、しかもアルキルチオ
、アリールチオ−、ヘテロ環チオ基いずれの導入も可能
であるという汎用性に特徴がある。
造方法はこれら従来公知の方法に比べ、反応温度が室温
で行えるという利点を有しており、しかもアルキルチオ
、アリールチオ−、ヘテロ環チオ基いずれの導入も可能
であるという汎用性に特徴がある。
代理人 桑原義美
第１頁の続き
０発 明 者 二宮英隆
日野型゛さくら町１番地小西六写
真工業株式会社内
０発 明 者 益田功策
日野型さくら町１番地小西六写
真工業株式会社内
手続補正書
昭和５７年１０月 ５ Ｌｌ
昭和” ”ｉ 特許願第’ Ｌｌ ’ ＠ ’ ４Ｊ
、２、発明の名称 マゼンタカブツーの調造方法 ：ｌ 補１１らをする者 事ｆ［との関係 特許出願人 住 所 東京都新宿区西新宿１丁目２６番２４ノー名
称 （＋２７１小西六写真工業株式会＋１代ノシ取締
役 ！１１ 本 信 彦 ４、代理人 〒１９１ 居 所 東１；〔都Ｌ１野市さくら町１品地自 発 ６、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ７、 補正の内容 （１） 発明の詳細な説明を次の如く補正する。
、２、発明の名称 マゼンタカブツーの調造方法 ：ｌ 補１１らをする者 事ｆ［との関係 特許出願人 住 所 東京都新宿区西新宿１丁目２６番２４ノー名
称 （＋２７１小西六写真工業株式会＋１代ノシ取締
役 ！１１ 本 信 彦 ４、代理人 〒１９１ 居 所 東１；〔都Ｌ１野市さくら町１品地自 発 ６、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ７、 補正の内容 （１） 発明の詳細な説明を次の如く補正する。
手続補正書
昭和６７年１１月２７「１
特許庁長官基 杉 和 夫 殿
】、事ｆ１の表示
昭和ｓｓ年特許願第 １８！！９８０ 号２ 発明の
名称 マゼンタカブツーの製造万障 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都新宿区西新宿１丁目２６番２号名 ｉ
’ （＋２７）小西六写真工業株式会拐代表取締役用
本〜 信 廖 ４、代理人 〒１９１ − 居 所 東Ｘ：を都１１町市さくら町１ｉ１ｊ地５、
補正命令の日付 自 発 ６、補正の対象 嘴−書の「発明の詳細な説明」の欄 γ、捕正あ内客
名称 マゼンタカブツーの製造万障 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都新宿区西新宿１丁目２６番２号名 ｉ
’ （＋２７）小西六写真工業株式会拐代表取締役用
本〜 信 廖 ４、代理人 〒１９１ − 居 所 東Ｘ：を都１１町市さくら町１ｉ１ｊ地５、
補正命令の日付 自 発 ６、補正の対象 嘴−書の「発明の詳細な説明」の欄 γ、捕正あ内客
Claims (3)
- （１）チオ基を脱離基とする二当量マゼンタカプラーの
製造方法において、カップリング活性点が未置換の目当
量マゼンタカプラーとチオスルホン帆、エステル化合物
を反応させることを特徴とするマゼンタカプラーの製造
方法。 - （２）一般式（Ｉ）で表わされる二当量マゼンタカプラ
ーの製造方法において、Ａ−Ｈで示される目当量マゼン
タカプラーと一般式（Ｕ）で表わされるチオスルホン酸
エステル化合物を反応させることを特徴とするマゼンタ
カプラーの製造方法。 一般式（Ｉ）Ａ−８−λ゛− 一般式（ＩＩ） Ｒ−Ｓ −ｓｏ、 −ＲＳ上記
一般式中、人はマゼンタカプラーのカップリング活性点
の水素原子を１清除＊シた基、Ｒはアルキル基、了リー
ル域、複素環基、アシル基、（式中、Ｗはアルキル基、
アリール基、複葉環基を表わし、２は水素原子、アルキ
ル基、アリール基、複素Ｈ！４基を表わす。）を表わし
、Ｒ１はアルキル基、アリール基、複素環基を表わす。 - （３）Ａ−Ｈで示される四当社マゼンタカプラーが５−
オキソ−２−ピラゾリン誘導体、ピラゾロ−［１，５−
ａ］ベンズイミダゾール誘導体又はＩＨビラゾ９−［５
，１−０］［１゜２．４］）リアゾール誘導体であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第２ｍ記載の二当蓋マゼ
ンタカプラーの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18599081A JPH0625135B2 (ja) | 1981-11-18 | 1981-11-18 | マゼンタカプラ−の製造方法 |
| DE19823241886 DE3241886A1 (de) | 1981-11-18 | 1982-11-12 | Verfahren zur herstellung eines 2-aequivalent-purpurrotkupplers |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18599081A JPH0625135B2 (ja) | 1981-11-18 | 1981-11-18 | マゼンタカプラ−の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5885864A true JPS5885864A (ja) | 1983-05-23 |
| JPH0625135B2 JPH0625135B2 (ja) | 1994-04-06 |
Family
ID=16180429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18599081A Expired - Lifetime JPH0625135B2 (ja) | 1981-11-18 | 1981-11-18 | マゼンタカプラ−の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0625135B2 (ja) |
| DE (1) | DE3241886A1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6055343A (ja) * | 1983-09-06 | 1985-03-30 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
| WO1986001915A1 (en) * | 1984-09-14 | 1986-03-27 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. | Silver halide photographic photosensitive material |
| JPS62257157A (ja) * | 1986-04-30 | 1987-11-09 | Konika Corp | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3732512A1 (de) * | 1987-09-26 | 1989-04-06 | Agfa Gevaert Ag | Farbfotografisches aufzeichnungsmaterial |
| EP0735417B1 (en) * | 1995-03-28 | 2002-10-09 | Tulalip Consultoria Comercial Sociedade Unipessoal S.A. | Silver halide photographic elements containing 2-equivalent 5-pyrazolone magenta couplers |
-
1981
- 1981-11-18 JP JP18599081A patent/JPH0625135B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1982
- 1982-11-12 DE DE19823241886 patent/DE3241886A1/de not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6055343A (ja) * | 1983-09-06 | 1985-03-30 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
| WO1986001915A1 (en) * | 1984-09-14 | 1986-03-27 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. | Silver halide photographic photosensitive material |
| JPS62257157A (ja) * | 1986-04-30 | 1987-11-09 | Konika Corp | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0625135B2 (ja) | 1994-04-06 |
| DE3241886A1 (de) | 1983-06-23 |
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