JPH03110553A

JPH03110553A - アミドフェノール類の製造方法

Info

Publication number: JPH03110553A
Application number: JP24879289A
Authority: JP
Inventors: Ryosuke Ishida; 良介石田; Tatsuya Yamamoto; 達哉山本
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1989-09-25
Filing date: 1989-09-25
Publication date: 1991-05-10

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は写真用薬品に供されるアミドフェノール化合物
の製造方法に関し、さらに詳しくは簡便かつ高収率で高
純度の目的物を得ることができるアミドフェノール化合
物の製造方法に関する。

〔従来の技術〕

一般にカラー写真用薬品として用いられるフェノールア
ミド化合物を製造する場合は、アミノ化合物と酸クロリ
ドとの反応を利用するのが一般的である。例えば特開昭
６０−２４５４７号公報には５−アミノ−２−アミドフ
ェノールと酸クロリドとの反応例が記載されているが、
５−アミノ−２−アミドフェノールをアセトニトリルと
酢酸エチルに懸濁させ、酸クロリドを１時間で滴下した
後、４時間加熱還流し、次いで冷却して結晶を濾取後、
酢酸エチル／ｎ−へキサンで再結晶して目的とするアミ
ドフェノール化合物を得ている。また特開昭６１−６９
０６５号公報では５−アミノ−２−アミドフェノールを
ジメチルアセトアミドに溶解し、カルボン酸クロリドを
滴下して反応させ、その反応生成物を室温で攪拌後、水
及び酢酸エチルを添加し、目的とするアミド化合物を酢
酸エチルにより抽出し、この酢酸エチル層を水で洗浄後
濃縮し、更にこの濃縮物をメタノールに加熱溶解後、晶
析させることにより目的とするアミドフェノール化合物
を得ている。

しかし特開昭６０−２４５４７号公報に記載された製造
法は、反応時間が長くかつ高温反応であるため不純物が
副生じ、目的物の含量が低下するため再結晶が必要であ
ること、また反応で副生ずるＨＣ／ガスの中和・除去が
行われていないため、晶析・濾過・乾燥などの後処理工
程で設備の腐食が問題となるし、目的物の収率も６０％
程度と低い。

また特開昭６Ｉ−６９０６５号公報に記載された製造法
は、反応生成物を水と酢酸エチルで抽出水洗して、まず
良溶媒のジメチルアセトアミドと酸分を除去し、次いで
酢酸エチル層を濃縮後貧溶媒のメタノールで置換晶析し
、目的とするアミド化合物を得ているが、この製造法で
は抽出時に中和を行っていないため酸分が残存し、後処
理工程で設備の腐食が生じること、さらに＃酸エチル層
の濃縮、貧溶媒への置換が必要なことから作業面で煩雑
である。また晶析濾液へのロスが大きく、収率も８４％
と低い。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は、アミノフェノール類とカルボン酸クロリドと
の反応により生成するアミドフェノール類を高純度かつ
高収率で得ることにあり、しかも反応時間が短（、かつ
簡便な操作と特別な反応容器を使用せずにアミドフェノ
ール類を得る、−船釣で大量生産に適した製造法の提供
にある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明のアミドフェノール類の製造方法は、２−アミノ
フェノール類または５−アミノ−２−アミドフェアノー
ル類とカルボン酸ハライドとヲ極性ン容媒の存在丁で実
質的に等モル反応させてアミドフェノール類を生成させ
た後、アルカリ水溶？ｆｌと酢酸エステルの混合物を添
加してアミドフェノール類を含む反応混合物を中和抽串
し、分離した有＋１９　？８媒層に含水アルコール類を
加えてアミドフェノール類を沈澱させることを特徴とす
る特以下、本発明の詳細な説明する。

２−アミノフェノール類又は５−アミノ−２−アミドフ
ェノール類は下記式（１）で示される。

（式中Ｒは、−ＮＨｘ（・Ｍ）、ｌ又は−Ｎ　ＨＣＯＲ
ｚＷは、水素原子、Ｘは、水素又はカップリング離脱基、Ｙは、上記Ｒが−ＮＨ！　　（Ｍ）　ｎ基の時には、水
素、低級アルキル基又は −ＮＨＣＯＲ３、上記Ｒが−Ｎ　ＨＣＯＲを基の時には ’−Ｎ　ＨＫ　（・Ｍ）７、Ｚは、水素又はハロゲン原子、Ｒｚ　、Ｒ：ｌは、同一でも異なっていてもよく、それ
ぞれアルキル基、アリール基又はヘテロ環、Ｍは、アミノ基と塩を作り得る酸、ｎは、０又は１を示す。）上記アミノフェノール類は、１つの水酸基と１つの遊離
アミン基を有し、他に通常ベンゼン核に置換しろる一Ｏ
Ｈ，−ＮＨ！以外の任意の置換基を有していてもよい。

アミノ基はまた塩の形でもよく、Ｍは鉱酸又は有機酸で
ある。

カルボン酸ハライドとしては下記式（ｎ）で示され。

ＲＩ　　ＣＯＸ　　　　　　　　　　　　・・・（ＩＩ
）（式中Ｒ＋　は、アルキル基、Ｘはハロゲン原子を示
す。）カルボン酸ハライドに含まれる炭素数は１〜３０であり
、好ましくは式（ＩＩ）で示され、ハライドを構成する
ハロゲン原子としては塩素が好ましい。

Ｒ５のアルキル基は、炭素数が１〜３０であり、置換基
を有していてもよい。置換基は、カルボン酸クロリドと
は反応しにくい置換基であることが好ましい、これらの
好ましい置換基の例は、アリールオキシ基、アリール基
、了り−ルチオ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基である
。

生成するフェノールアミド化合物は、下記式％式％（式中Ｒ゛は、−ＮＨＣＯＲ，又は−ＮＨＣＯＲｌＹｏ
は、上記Ｒ°が〜ＮＨＣＯＲ，の時には−ＮＨＣＯＲｊ
又は低級アルキル基、上記Ｒ°が−ＮＨＣＯＲ１の時には −ＮＨＣＯＲ，。

他は式（Ｉ）、式（■）と同じものを示す、）弐Ｎ）〜
（Ｉ［ｌ）について、さらに詳しく説明する。これらの
式中Ｒｚ、Ｒｓ又はＲ１のアルキル基は、直鎖、分枝鎖
、環状いずれでもよく、また置換アルキル基をも包含す
る。ここで置換基としてはハロゲン原子（例えば塩素原
子、フッ素原子）、アルコキシ基（例えばメトキシ、プ
ロポキシ、アミルオキシメトキシ、オクトキシ、ドデシ
ルオキシ、シアミルシクロへキシルオキシ、オクタデシ
ルオキシ）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ、ブチ
ルチオ、オクチルチオ、ドデシルチオ、オクタデシルチ
オ）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ、アミルフ
ェノキシ、シアミルフェノキシ、ペンタデシルフェノキ
シ、ドデシルオキシフェノキシ、クロロテトラデシルフ
ェノキシ、オクタデカンアミドフェノキシ、Ｎ−メチル
−Ｎ−オクタデシルスルファモイルフェノキシ、ジ（メ
トキシカルボニル）フェノキシ、ドデシルサクシンイミ
ドフェノキシ）、カルボンアミド基（例えばＮ−ブチル
デカンアミド、シアミルフェノキシ−アセトアミド、オ
クタデシルオキシベンズアミド１、ペンタデシルフェノ
キシブタンアミド）、カルバモイル基（例えばＮ、Ｎ−
ジエチルカルバモイル、Ｎ−ヘキサデシルカルバモイル
、Ｎ−テトラデシルオキンフェニル力ルバモイル、Ｎ−
ブチル−Ｎ−ドデシルカルバモイル、Ｎ−シアミルフェ
ノキシフェニルカルバモイル）、アルコキシカルボニル
基（例えばエトキシカルボニル、ドデシルオキシカルボ
ニル、エトキシカルボニルペンタデシルオキシカルボニ
ル）、アリール基（例えばフェニル、トリデシルカルボ
ニルフェニル、Ｎテトラデシルスルフォニルフェニル、
シアミルフェノキシアセトアミドフェニル、ヘキサデシ
ルオキシフェニル、エトキシカルボニルドデシルオキシ
フェニル、メトキシカルボニルヘネイコサンアミドフェ
ニル、オクタデシルサクシンイミドフェニル）、複素環
基（例えばＮ−ドデシルフェニルサクシンイミド、ドデ
シルサクシンイミド、オクタデシルカルバモイルフタリ
ミド）等が挙げられる。

前記−綴代（１）もしくは（ＩＩＩ）において、Ｒ２又
はＲ８で示されるアリール基は、置換アリール基をも包
含する。ここで置換基としてはアルキル基（例えばアミ
ル、オクタデシル）、了り−ル基（例えばフェニル、ト
リル）、アルコキシ基（例えばアミルオキシ）、アリー
ルオキシ基（例えばフェノキシ、アミルフェノキシ、ジ
アミルフヱノキシ）、カルボンアミド基（例えばアミル
フェノキシブタンアミド、アミルフェノキシベンズアミ
ド、ジ（メトキシカルボニル）フェニルカルバモイルペ
ンタンアミド、ジ（メトキシカルボニルメトキシ）ベン
ズアミド）、スルファモイル基（例えばジ（メトキシカ
ルボニル）フェニルスルファモイル、オクタデシルスル
ファモイル）等が挙げられる。

前記−綴代（１）もしくは（ＩＩＩ）において、Ｗ。

Ｙ及びＺは同一でも異なってもよく、各々、水素原子、
ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子）、アルキル
基（例えばメチル、オクチル、ペンタデシル）、アリー
ル基（例えばフェニル、アミルフェニル）、アルコキシ
基（例えばメトキシ、ドデシルオキシ）、カルボンアミ
ド基（例えばアセトアミド、ベンズアミド、ドデカンア
ミド、シアミルフェノキシアセトアミド、クロロスルホ
ニルベンズアミド、アミルベンズアミド、フリルアミド
、ジ（メトキシカルボニル）フェニルカルバモイルペン
タンアミド、ペンタデシルフェノキシブタンアミド、テ
トラフルオロプロパンアミド、パーフルオロオクタンア
ミド、ブチルヒドロキンフェノキシテトラデカンアミド
、ドデシルオキシフェノキンアセトアミド、ドデカフル
オロへブタンアミドベンズアミド）、スルホンアミド基
（例えばメチルスルホンアミド、ドデシルスルホンアミ
ド、フェニルスルホンアミド、Ｎ−ドデカンアミドフェ
ニルスルホンアミド）、カルバモイル基（例えばＮ、Ｎ
−ジエチルカルバモイル基、Ｎブチル−Ｎ−ドデシルカ
ルバモイル、フェニルカルバモイル）、またはスルファ
モイル基（メチルスルファモイル、オクチルスルファモ
イル、Ｎ。

Ｎ−ジエチルスルファモイル、フェニルスルファモイル
）を表す。

また前記−綴代（１）もしくは（Ｉ［［）において、Ｘ
は水素原子またはカップリング離脱基を表す。

ここでカンプリング離脱基なる語は、写真用色形成カプ
ラーの分野において通常よく用いられる用語であって、
写真用色形成カプラーがカラー現像主薬（例えば芳香族
−級アミン現像主薬）の酸化生成物とカップリングする
際、離脱し得る原子または基を包含する。カップリング
離脱基の例としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、
フン素原子、ヨウ素原子）、アルコキシ基（例えばメト
キシ、プロポキシ、メトキシエトキシ、メチルスルファ
モイルエトキシ、Ｎ−プロピルアミノプロポキシ）、了
り−ルオキシ基（例えばフェノキシ、エチルフェノキシ
、クロロフェノキシ、ニトロフェノキシ、アミノフェノ
キシ、ブチルカルバモイルフェノキシ、エチルスルファ
モイルフェノキシ、フェニルスルホニルフェノキシ、ナ
フチルオキシ）、カルボニルオキシ基（例えばアセチル
オキシ、ブチロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、アミル
ベンゾイルオキシ、ステアロイルオキシ、エトキシカル
ボニルオキシ、フェノキシカルボニルオキシ、々ルバモ
イルオキシ、メチルカルバモイルオキシ、フェニルカル
バモイルオキシ）、スルホニルオキシ基（例えばメチル
スルホニルオキシ、エトキシエチルスルホニルオキシ、
Ｎ−メチルアミノエチルスルホニルオキシ、メチルスル
ホニルプロピルスルホニルオキシ）、スルホンアミド基
（例えばエチルスルホンアミド、ブチルスルホンアミド
、ノニルスルホンアミド、フェニルスルホンアミド、ナ
フチルスルホンアミド）、了り−ルアゾ基（例えばフェ
ニルアゾ、ナフチルアゾ）、アルキルチオ基（例えばメ
チルチオ、オクチルチオ）、了り−ルチオ基（例えばフ
ェニルチオ、ニトロフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（
例えばテトラゾリルチオ、ベンツチアゾリルチオ、ベン
ツオキサゾリルチオ）、ヘテロ環基（例えばトリアゾリ
ル、ベンツトリアゾリル）、環状イミド基（例えばサク
シンイミド、フタルイミド）等が挙げられる。

弐（１）の中で、好ましい組み合わせは、Ｒ＝ＮＨ２（
−Ｍ）　ｎＷ−１（ χ＝Ｃ１又は０もしくはＮで離脱する離脱基Ｙ−メチル
基又はエチル基ｚ＝ｘ＝ｃｚ又はＲ＝−ＮＨＣＯＲｚＷゴＨＸ＝０１又は０もしくはＮで離脱する離脱基Ｙ　＝Ｎ　
Ｈｚ　　（−Ｍ）　　ＲＺ＝Ｈある。

前記−綴代において、Ｒｒ、Ｒｔが無置換のアルキル基
、フッ素原子により部分的にもしくは完全に置換された
アルキル基、または次の一般式（■）または（Ｖ）で示
される基である化合物は特に存用である。

（式中、Ａはアルキル基、Ｒ，は水素原子またはアルキ
ル基を、Ｒ７及びＲ５は、同一でも異なってもよく、各
々、水素原子、アルキル基またはアルコキシ基を、ｎは
Ｏまたは１を表す、）（Ｖ）（式中、Ｒ４及びＲ２は、同一でも異なってもよく、各
々アルキル基を表す、）本発明において使用される極性溶媒とは、分子内部に固
定的に電子双極子をもつ液体であって、かなり大きな誘
電率をもつものをいい、−綴代（１）で示される化合物
を溶解するものが望ましい。好ましくは２５℃において
、比誘電率εが１０〜２００の液体である。これらの液
体は、例えば化学便覧（改定３版、基礎１ｌｌ−５０２
ページ）Ｊ、Ａ、Ｒｉｄｄｉｃｋｌｉ’Ｏｒｇａｎｊｃ
Ｓｏｌｖｅｎｔｓ　　　（Ｊｏｈｎ　　Ｖ／１ｌａｙ＆
　　５ｏｎｓ、１．９８６）により容易に特定できる。

より好ましいεは３０〜４０であり、ジメチルホルムア
ミド（Ｎｏ、４４２）ＤＭＦ　　ε−３６，７１、及び
ジメチルアセトアミド（Ｎｏ、４４５）ＤＭＡＣε＝３
７．７８が最も好ましい。

また、極性溶媒は１種以上を混合して使用でき、この場
合には混合物のｔが規定の範囲にあればよい。極性溶媒
は少なくとも１０容量％、好ましくは＋５−１００容■
％使用する（内％）。

使用する盪は一般式（ｒ）の化合物のＯ，１〜１００重
量部であり、好ま［７くは０．１〜１０重足部であり、
特に好ましくは０．５〜２重量部である。

添加する有機溶媒としては、目的化合物であるアミドフ
ェノールを抽出する機能を有し、水と混和しない溶媒で
あり、例えば酢酸エステル類を使用するとよく、炭素数
が２〜５のものであり、特に酢酸エチルが好ましい。使
用する量は一般式（１）で示される化合物に対して１〜
３０重量部、反応液に添加される。

アルカリ水溶液は副生酸を中和する機能を有し、炭酸水
素ナトリウム、又は炭酸水素カリウム水溶液が好ましく
、使用量は一般式（ｒ）で示される化合物に対して１〜
３０重量部、反応液に添加するとよい。好ましくは１〜
５重景部であり、更に好ましくは２〜３重量部である。

貧溶媒とは、目的物たるアミドフェノール類を溶解しな
いか、又はほとんど熔解しないン容媒であり、例えば低
級アルコール類、ｎ−へキサ７等（７）石油系溶媒、ア
セトニトリル、水等がある。低級アルコール類は、炭素
数１＝Ｉ　Ｏまでのものであリ、好ましくはメタノール
、エタノール、イソプロパツールであり、特に好ましく
はメタノールである。また、好ましくは含水アルコール
又は含水アセトニトリルを使用するとよく、添加するメ
タノール及び水の量は、酢酸エステル類に対して０゜１
〜１０重量部であり、好ましくは０．３〜４重量部であ
り、特に好ましくは０．３〜２重量部である。

反応方法としては、まず−綴代（１）に示すアミノフェ
ノール又はその鉱酸塩を、−綴代（■）で示す酸ハライ
ドとを極性溶媒中に添加し、撹拌反応する。この際、酸
ハライドはアミノフェノール類と同時添加しても、又は
滴下してもどちらでもよい。酸ハライドの量はアミノフ
ェノールに対し０．５〜２．０当量であるが、コストメ
リット、反応性を考慮すると、１．０〜１．２当量であ
り、特に好ましくは「実質的に当モル」である１、　　
０〜１．０２当量である。

また反応温度は一２０℃〜８０℃が良く、好ましくは一
２０℃〜４０℃であり、特に好ましくは０℃〜３０℃で
ある。

反応時間は添加直後から１００時間程まで問題ないが、
生産性を考慮に入れると短時間の方が好ましく、添加直
後から１時間程度が望ましい。

反応終了後、水と混和しないｗ機溶媒とアルカリ水溶液
との混合物により、副生酸の中和、目的化合物の容器溶
媒−・の抽出を行う。

中和抽出操作後、水層を分液して除去し、有機溶媒層に
貧溶媒であるアルコール類、水を添加し、目的とするア
ミドフェノール類を沈澱させる。

本発明の方法により製造されるアミドフェノール類の具
体的化合物例を以下に示すが、本発明はこれら化合物に
のみ限定されるものではない。

（以下余白）但し、下表において（ｔ）ＣｓＨ＋＋７を示す。

（）内のｎはアルキル基炭素数、また（ｎ。

２）における２は、（ｎ、２）基における置換基２を表す。

〔発明の作用及び効果〕

−Ｉ’Ｇに、この種アミド化反応は短時間にほぼ定量的
に進行するが、本発明は２−アミノフェノール類または
５−アミノ−２−アミドフェノール類とカルボン酸ハラ
イドとの反応生成物に、水と混和しない有機溶媒とアル
カリ水溶液との混合物を添加することにより、水と混和
しない有機溶媒に目的とするアミドフェノール類を移す
と同時に副生成物である酸を中和し、更に有機溶媒層に
貧溶媒を添加することによってアミドフェノール類を単
離するものであり、再結晶による副反応生成物の除去を
不要とし、かつ単純な操作により高純度で収率良くアミ
ドフェノール類を得ることができるものであり、フェノ
ール系シアンカプラーを大量生産するのに適した製造法
となしうるちのである。

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明の実施
の態様はこれにより限定されるものではない。

〔実施例１〕５−メチル−４，６−ジクロロ−２−〔α−（２，４−
ジーｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）ブチルアミド〕フェ
ノール（化合物１）の合成。

５−メチル−４，６−ジクロロ−２−アミノフェノール
塩酸塩１６．５ｇと、α−（２，４−ジｔｅｒｔ−アミ
ルフェノキシ）ブタノイルクロリド２４．４ｇ　（１，
００当量）とを、ジメチルアセトアミド５０ｍ７！中に
添加し、２０〜３０℃で３０分攪拌を行った。反応終了
後、酢酸エチル６０ｍｊ！と水９５ｍ［を加え更にＮａ
ＨＣＯ，をｐＨ６になるまで添加し水層を分液除去した
。この酢酸エチル層にメタノール１２０ｍｊ！を加え更
に水　６０ｍ１を３５℃で加えた。このあと氷冷後濾別
し化合物ｌの白色結晶３３．９ｇ　（ｙ＝９５％）を得
た。

融点：１４９．５〜１５２℃ 元素分析値：実測値　Ｈ：　　　７．４９％Ｃ：　　６
５．７０％Ｎ：　　　２．７７％Ｃ１！：１４．４６％計算値　Ｈ：　　　７．５４％ＣＦ　　６５．５８％Ｎ：　　　２．８３％（１：１４．３４％〔実施例２〕５−メチル−４，６−ジクロロ−２−（ｒ　−（２，４
−ジーｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）ブヂルアミド〕フ
ェノール（化合？１２）の合成５−メチル−４，６−ジ
クロロ−２−アミノフェノール塩酸塩１６．５ｇと、γ
−（２，４−ジーｔａｒｔ−アミルフェノキシ）ブタノ
イルクロリド２４．９ｇ　（１，０２当量）とを、ジメ
チルアセトアミド５０ｍｊ！中に添加し２０〜３０℃で
３０分攪拌を行った。反応終了後、酢酸エチル６Ｑｍ／
と水　９５ｍＩ！を加え、更にＮａＨＣＯｘをｐ　Ｈ６
になるまで添加し水層を分液除去した。

この酢酸エチル層にメタノール１２０ｍ６を加え更に水
６５ｍ１を３５℃で加えた。このあと水冷後濾別し、化
合物２の白色結晶３３．５ｇ　（ｙ＝９４％）を得た。

融点：１２３〜１２５．５℃ 元素分析値：実測値　Ｈ：　　　７．５８％Ｃ：　　６
５．４９％Ｎ：　　　２．８１％Ｃ１：１４．４５２％計算値　Ｈ：　　　７．５４％Ｃ：　　６５．５８％Ｎ：　　　２．８３％Ｃｆ：１４．３４％〔実施例３〕２−（４−シアノフェニル）ウレイド−５〔α−（２，
４−ジーｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）へキシルアミド
〕フェノール（化合物２１）の合成。

２−（４−シアノフェニル）ウレイド−５−アミノフェ
ノール２６．８ｇと、α−（２，４−ジｔｅｒｔ−アミ
ルフェノキシ）ヘキサノイルクロリド３７．４ｇ　（１
，０２当ｆ）とを、ジメチルアセトアミド６０ｍ７！に
添加し、２０〜３０℃で３０分攪拌を行った。反応終了
後、酢酸エチル１２０ｍ１と水１９０ｍｊ！を加え、更
にＮａＨＣＯｌをｐＨ６になるまで添加すると共に、水
層を分液除去した。この酢酸エチル層にメタノール２６
０ｍｌを加え、水１５５ｍ１を３５℃で滴下した。この
あと氷冷後濾別し、化合物２１の白色結晶５５．１ｇ　
（ｙ＝９２％）を得た。

融点＝１８５〜１８９．５℃ 元素分析値：実測値　Ｈニア、９０％Ｃニア１．９４％Ｎ：９．８１％計算値　Ｈ：１．７４％Ｃニア２．２１％Ｎ：９．３５％

Claims

【特許請求の範囲】

（１）２−アミノフェノール類または５−アミノ−２−
アミドフェノール類とカルボン酸ハライドとを極性溶媒
の存在下で実質的に等モル反応させてアミドフェノール
類を生成させた後、水と混和しない有機溶媒とアルカリ
水溶液との混合物を添加してアミドフェノール類を含む
反応混合物を該有機溶媒層に中和抽出し、該有機溶媒層
に貧溶媒を加えてアミドフェノール類を沈澱させること
を特徴とするアミドフェノール類の製造方法。
（２）前記極性溶媒がジメチルアセトアミドまたはジメ
チルフォルムアミド、有機溶媒が酢酸エチル、貧溶媒が
含水メタノールである請求項１記載のアミドフェノール
類の製造方法。
（３）前記２−アミノフェノール類または５−アミノ−
２−アミドフェノール類が、下記式（ I ）で示され、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（ I ）（式中Ｒは、−ＮＨ＿２（・Ｍ）＿ｍ又は−ＮＨＣＯＲ
＿２Ｗは、水素原子、Ｘは、水素又はカップリング離脱基、Ｙは、上記Ｒが−ＮＨ＿２（Ｍ）＿ｍ基の時には、水素
、低級アルキル基又は −ＮＨＣＯＲ＿３、上記Ｒが−ＮＨＣＯＲ＿２基の時には −ＮＨ＿２（・Ｍ）＿ｍ、Ｚは、水素又はハロゲン原子、Ｒ＿２、Ｒ＿３は、同一でも異なっていてもよく、それ
ぞれアルキル基、アリール基又はヘテロ環、Ｍは、アミノ基と塩を作り得る酸、ｎは、０又は１を示す。）前記カルボン酸ハライドが、下記式（II）で示され、Ｒ＿１ＣＯＸ・・・（II）（式中Ｒ＿１は、アルキル基、Ｘはハロゲン原子を示す
。）更に前記アミドフェノール類が、下記式（III）で示さ
れる化合物であることを特徴とする請求項１、または２
記載のアミドフェノール類の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（III）（式中Ｒ’は、−ＮＨＣＯＲ＿１又は−ＮＨＣＯＲ＿２
Ｙ’は、上記Ｒ’が−ＮＨＣＯＲ＿１の時には−ＮＨＣ
ＯＲ＿３又は低級アルキル基、上記Ｒ’が、−ＮＨＣＯＲ＿２の時には −ＮＨＣＯＲ＿１他は式（ I ）、式（II）と同じを示す。）