JPS5874727A - プリプレグの製造方法 - Google Patents

プリプレグの製造方法

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Publication number
JPS5874727A
JPS5874727A JP17192281A JP17192281A JPS5874727A JP S5874727 A JPS5874727 A JP S5874727A JP 17192281 A JP17192281 A JP 17192281A JP 17192281 A JP17192281 A JP 17192281A JP S5874727 A JPS5874727 A JP S5874727A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
polyphenol
polyepoxy compound
varnish
weight
Prior art date
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Pending
Application number
JP17192281A
Other languages
English (en)
Inventor
Makoto Nishizuka
誠 西塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yuka Shell Epoxy KK
Original Assignee
Yuka Shell Epoxy KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は硬化の速いプリプレグの簡易的な製造方法に関
するものである。本発明の実施により製造されたプリプ
レグは民生用のプリント基板材料として好適である。
プリント配線基板(PC)はプリプレグの複数枚、例え
ば8枚と接着剤付き銅箔を重ね、これを高温、高圧下に
プレス成形してプリプレグの樹脂を硬化させて得られる
銅張積層板で、これは通常、銅板上に回路をプリント印
刷後、フォトレジスト層を設け、光を照射してフォトレ
ジストを硬化させ、弱アルカリ溶液で未硬化のフォトレ
ジストを流し去り、更に酸エツチングによりフォトレジ
スト膜で被覆されていない銅部分を溶解し、水洗後、塩
化メチレン等で硬化したフォトレジスト膜を除去するこ
とにより製造される。この樹脂積層板の表面に銅線回路
が施こされたPCは層重、マイコンの分野に広く使用さ
れている。
かかるプリプレグ製造用樹脂としてはフェノール樹脂、
不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂
が使用され、%にエポキシ樹脂は耐トラツキンp耐熱性
に優れることから高級品に使用される。
かかるエポキシ樹脂のプリプレグは、例えば予じめエポ
キシ当1187のビスフェノールAのグ’)シシルエー
テルにテトラブロモジフェニロールプロパンを反応させ
て高分子化した樹脂をメチルエチルケトンで溶解し、こ
の溶解液に、硬化剤のジシアンジアミドと硬化促進剤で
あるベンジルジメチルアミンをジメチルホルムアミドと
メチルセロソルブの混合溶剤で溶解した硬化剤液を混合
して調製されたワニスをガラス繊維布に含浸し、次いで
130〜iso℃で樹脂含浸布を2〜5分乾燥させて有
機溶剤を除去するとともに高分子化樹脂と硬化剤を反応
さする(B−ステージ化)ことにより得られる。
近時、このB ステージ化の乾燥熱を高分子化樹脂の製
造に利用することが提案された。この方法は、ワニス中
の高分子化樹脂の代りにビスフェノールAのジグリシジ
ルエーテルとテトラブロモジフェニロールプロ・(ンと
この反応触媒、例えばベンジルジメチルアミンを用い、
B−ステージの乾燥工程において両者を反応させて高分
子化樹脂を調製するとともに、該樹脂と硬化剤であるジ
シアンジアミドを反応させてB−ステージ化の反応を行
う方法(1n−situ法)である0本発明者等はこの
1n−situ法において、ジメチルフォルホルムアミ
ド、メチルセロソルブ、メチルエチルケトン等の高価な
溶剤の代りに安価なアセトンを用いることを試み、種々
の硬化剤を検討したところ、一般式 %式% で示されるオルソトリルビスグアニジンを用いると、ジ
シアンジアミドを用いたときよりも短時間でB−ステー
ジ化を行なうことができるとともに、よ抄耐熱性の優れ
る硬化物を得ることができることを見い出し、本発明を
完成した。
即ち、本発明は、ポリエポキシ化合物40〜95重t%
とポリフェノール60〜5重量%よりなる樹脂成分10
0重量部に対し、オルソトリルビスグアニジンが0.1
〜10重量部、アセトンが107100重量部の割合で
配合されているワニスを、ガラス繊維i、紙等のシート
状補強材に含浸後、加熱によりアセトンを除去すると同
時にポリエポキシ化合物とポリフェノールとを反応させ
ることを特徴とするプリプレグの製造方法を提供するも
のである。
本発明の実施において、ポリエポキシ化合物としては分
子内に少くとも2個以上のエポキシ基を含む反応性のポ
リエポキシ或いはポリグリシジル化合物であり、例えば
ビスフェノール類又はノ・ロダン化ビスフェノール類か
ら誘導されるジグリシジルエーテル、環状脂肪族ポリエ
ポキシ化合物、ノボラック樹脂、ポリフェノール又はポ
リヒドロキシフェノールのグリシジルエーテル、芳香族
オキシカルボン酸又は芳香族ジカルボン酸から誘導され
るグリシジルエーテル又はエステルダイマー酸のジグリ
シジルエステル、ポリアルキレングリコールのジグリシ
ジルエーテル、トリグリシジル・インシアヌレート、N
、N’−ジグリシジル−5゜5−ジメチル・ヒダントイ
ン等のN−グリシジル誘導体類、又はこれらのゴム及び
ウレタン変性化物等のエポキシ化合物の1種又は2種以
上の化合物を用いることができる。又、必要により低分
子量のモノエポキシ化合物の少量を併用することも差し
支えない。
また、ポリフェノールとしてはグリプレグの用1□ 途が難燃性を要求される用途であるときはテトラブロモ
ジフェニロールプロパン、テトラブロモジフェニロール
メタンが一般的であるが、ビスフェノールA1ビスフエ
ノールF、ノボラック等モ使用できる。
アセトンはこれらポリエポキシ化合物、ポリフェノール
^媒として適当であり、かつ、硬化剤であるオルソトリ
ルビスグアニジン^媒でもめるので、従来のジメチルホ
ルムアミド、メチルセロソルブの混合溶媒を用いる方法
と比較してその量を全く使用しないか又は少くすること
ができる。
このことが乾燥゛時間を短くできることに効いているも
のと推定される。
補強材としてはガラス繊維布、リンター紙、クラフト紙
等が用いられる。
ポリエポキシ化合物、ポリフェノール、オルソトリルビ
スグアニジン、アセトン、必要によ抄促進剤が配合され
たワニスは10〜30℃でこれら補強材に樹脂量が15
〜75重量シ、好ましくは50重量う前後となる割合で
含浸され、次いで50〜150℃の乾燥室にワニスが含
浸された補強材は導かれ、1〜30分間乾燥して溶剤の
アセトンを除去するとともにポリエポキシ化合物とポリ
フェノールを反応させ、樹脂の高分子化が行われると共
に、この高分子化された樹脂の一部がオルソトリルビス
グアニジンと反応する(B−ステージ化)。
リプレグは切断■鍼シート状にされ、このIIH枚が接
着剤付銅箔と重ねられ、次いで140〜160℃の温度
で50〜1ooK9/−の圧力で1〜2時間プレス成形
され、樹脂が3次元に架橋されることによりPCが製造
される。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する・ 実施例1〜2、比較例1〜2 表−1に示す組成のワニス中にメタクリレート・クロミ
ル−クロライド処理−Marglas 5X0.005
インチ平織ガラス布を浸漬後、140℃の乾燥室にワニ
ス含浸布を1分間導き、溶剤を除去すると共にポリエポ
キシ化合物〔油化シェルエポキシ■製エピコート828
〕とテトラブロモフェニロールプロパンを反応させて(
B−ステージ化)プリプレグを得た。
このプリプレグを切断し、得たプリプレグシート8枚と
接着剤付銅箔1枚を重ね、160℃で大気圧下で10分
間予熱後、同温度で70Kf/aj、1時間の条件で積
層成形し、プリント配線基板を得た。
この樹脂硬化物の物性(JIS  K−6911および
JIS  C−2241)は表−2に示す通りであった
。なお、ワニスの160℃におけるゲル化時間を表−1
に示す・ 参考例 ワニス用樹脂として、予じめビスフェノールAのジグリ
シジルエーテル〔油化シェルエポキシ■製エピコー)8
28(商品名)〕とテトラブロモビスジフェニロールプ
ロパンとを反応させてlIり1樹脂〔油化シェルエポキ
シ■製エピコート1045−ム−80(商品名)〕を用
い、表1に示す組成に調製したワニスを用いる他は実施
例1と同様にしてpcを得九〇 得た硬化樹脂の物性を表−2に示す。
なお、表中の略符号は次の通やであるOE 828・・
・・・・油化シェルエポキシ製エポキシ樹脂1エピコー
ト 828″ TBBA・・・・・・テトラブロモジフェニロールプロ
パン DICY・・・・・・ジシアンジアミドDXI 47・
・・・・・オルソトリルビスグアニジン2E4MZ・・
・・・・2−エチル−4−メチルイミダゾール BDMA・・・・・・ベンジルジメチルアミンMC・・
・・・・メチルセロソルブ DMF  ・・・・・・ジメチルホルムアミドTg  
 ・・・・・・ガラス転移点(水差熱分析法による) E 1045−8−80・・・エピコー) 1045−
B−80(以下余白)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)、ポリエポキシ化合物40〜95重量聾とポリフェ
    ノール60〜5重量%よ抄なる樹脂成分100重量部に
    対し、オルソトリルビスグアニジンが0.1〜10重量
    部、アセトンが10〜100重量部の割合で配合されて
    いるワニスを、ガラス繊維布、紙等のシート状補強材に
    含浸後、加熱によりアセトンを除去すると同時にポリエ
    ポキシ化合物とポリフェノールとを反応させることを特
    徴とするプリプレグの製造方法。 2)、ポリエポキシ化合物がビスフェノールAのジグリ
    シジルエーテルで、ポリフェノールがテトラブロモジフ
    エニロールプ四パンでIることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載のプリプレグの製造方法。
JP17192281A 1981-10-27 1981-10-27 プリプレグの製造方法 Pending JPS5874727A (ja)

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JPS5874727A true JPS5874727A (ja) 1983-05-06

Family

ID=15932331

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JP17192281A Pending JPS5874727A (ja) 1981-10-27 1981-10-27 プリプレグの製造方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62161840A (ja) * 1986-01-10 1987-07-17 Hitachi Chem Co Ltd 印刷配線板用プリプレグの製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62161840A (ja) * 1986-01-10 1987-07-17 Hitachi Chem Co Ltd 印刷配線板用プリプレグの製造方法

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