JPS5874644A - 光学活性のアミノ酸またはその誘導体の製法 - Google Patents

光学活性のアミノ酸またはその誘導体の製法

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JPS5874644A
JPS5874644A JP57176483A JP17648382A JPS5874644A JP S5874644 A JPS5874644 A JP S5874644A JP 57176483 A JP57176483 A JP 57176483A JP 17648382 A JP17648382 A JP 17648382A JP S5874644 A JPS5874644 A JP S5874644A
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alcohol
asymmetric hydrogenation
amino acid
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JP57176483A
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マリオ・フイオリ−ニ
マリオ・リオツチ
マツテオ・ジヨンゴ
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Anic SpA
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は改良したアミノ酸またはその誘導体の製法に係
わる。該方法は、遷移金属と不斉アミノホスフィンとの
化合物でなる触媒の存在下でのプロキラルまたはラセミ
オレフィン系不飽和化合物の不斉水素化工程および最終
生成物をアルコールとハロゲン化炭化水素との溶媒混合
物で処理する工程を包含するものである。
光学活性の有機化合物を高い光学純度で工業的方法によ
り行なわれている。
数年前では、経済性および光学性の点で前記生化学的ま
たは微生物学的方法に匹敵する化学的方法は知られてお
らず、また生化学的方法等も最終的な精製に関して厳密
な手法および注意深い監視を必要としていた。
しかしながら、高度の立体特異性をもつ新しい均一触媒
系の発見および不斉ホスフィン合成における進歩により
、プロキラルオレフィンの水素化における良好な立体選
択性をもつキラル遷移金属錯体の調製が可能になった。
たとえば、英国特許出願第1,580,461号(19
81年1月11日公開)には、不飽和化合物の不斉水素
化に有用な新しい種類の光学活性化合物が開示されてい
る。この特許出願は一般式 %式%) (式中、R′はアルキル基、アリールチオ基、アルフイ
ノ基、アリールホスフィノ基Jアミノホスフィノ基など
であり、Xは0ないし2であり、NR”R3はアミン化
合物からの光学活性基である)を有する特殊な種類のリ
ンのアミノ誘導体に係わる。これらの化合物は、遷移金
属に配位してプロキラルまたはラセミオレフィンを不斉
水素化する化合物を生成しうる単座および多座結合剤の
広い範ちゅうを構成する。好適な遷移金1はRu 。
Rh 、  Pt 、 Mo 、  Fe’、Tiおよ
びVである。
さらに、上記特許出願によれば、水素化反応は触媒に対
する原料化合物のモル比10,000な〜・し10、温
度−70ないし+200℃において行なわれている。
これに対して、発明者らは、上述の反応を行なったのち
、得られた生成物を適当な溶媒混合物で処理する場合に
は、前記不斉水素化の光学収率をかなり改善できること
を見出し、本発明に至った・このような溶媒混合物によ
る処理は、触媒残渣の除去に好ましいだけでなく、前記
水素化の光学率をかなり高めるものである。
したがって、本発明は、遷移金属化合物でなる触媒系の
存在下、プロキラルまたはラセミオレフィン系不飽和化
合物を下人水素化する工程および得られた生成物を少な
(とも1種類のアルコールおよび少なくとも1種類の)
・ロゲン化炭化水素でなる溶媒混合物で処理する工程を
包含する。前述の特許出願に開示された化合物の使用が
特に有利であることは確認されてはいるが、水素化を行
なうために、この目的について公知のいかなる遷移金属
化合物も使用できる。同様に、この方法は各種のアミノ
酸およびその誘導体の製造にも有効である。ただし、特
に経済性および市場性についての興味のため、出願人は
L−フェニルアラニンおよびその誘導体の製造について
詳述することが好ましいと考える。しかしながら、当分
野に熟知するものが他のアミノ酸の製造に必要な条件を
類推することは容易であり、本発明は各種の原料物質に
も適用できるものである。アミノ酸誘導体を製造する場
合には、公知の慣用反応によりアミノ酸を容易に得るこ
とができる。
上述の如(、不斉水素化は、この目的について公知の遷
移金°属化合物の存在下で行なわれる。この反応は、特
に、一般式 %式%) (式中、R1はアルキル基、アリール基、アルキルアリ
ール基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリーロキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルホス
フィノ基、アリールホスフィノ基またはアミノホスフィ
ノ基であり、Xは0ないし2であり R2およびR3は
同一または異なるアルキル基、アリール基、アルキルア
リール基、アリールアルキル基またはシクロアルキル基
であって、これら2つの基のうち少なくとも1つは1ま
たはそれ以上の非うセミキラル中心を含有するものであ
る)を満足する化合物の中から選ばれる不斉アミノホス
フィンと遷移金属との錯体の存在下で行なわれる。特に
フェニルアラニンの場合には、ロジウム錯体の使用が有
利である。
水素化はアルコール系溶媒中、温度−70℃ないし+2
00℃、不飽和化合物:触媒錯体のモル比10以上、 
20,000以下において行なわれる。
このようにして得られた反応混合物は所望の生。
放物、溶媒および触媒でなる。これを処理して生成物を
分離する。ついで、生成物を少なくとも1種類のアルコ
ールおよび少なくとも1種類の炭化水素でなる特殊な溶
媒混合物で処理する。あるいは別法としては、溶媒混合
物を不斉水素化からのアルコール性混合物に添加するよ
うにしてもよい。
所望の効果、すなわち光学収率を高めることとともに、
できるだけ完全に触媒残渣を除去すること、を達成する
ためには、混合物中のアルコール系成分:炭化水素系成
分の比を1:1ないし1;50に維持しなげればならず
、最適比はラセミ物質の濃度に関連する。
本発明は、アミノ酸を光学的に濃縮する方法をも提供す
る。この方法は、少な(とも1種類のアルコールおよび
少なくとも1種類の2−ロゲン化炭化水素でなり、その
モル比が1=1ないし1:50である溶媒混合物で前記
アミノ酸を処理し、この混合物を還流し、冷却し、つい
で固形生成物をP取し、これをハロゲン化炭化水素で洗
浄することでなる。使用されうるアルコールとしてはす
べての低沸点アルコールであり、特にエチルアルコール
である。またハロゲン化炭化水素としては、クロロホル
ムまたは塩化メチレンの如き低炭素数の化合物の中から
有利に選ばれる。
さらに、発明者らは、前もって中間体を分離することな
く、相当するN−アシルアミノ酸から単一工程でアミノ
酸エステルを生成できることを見出した。この方法−で
可能な直接変換は、アミノ基の脱アシル化およびカル−
ホキ4及基のエズケ清−交換であり、操作および全体収
率の面で非常に有利である。
一般式で表わせば次のとおりである。
A) X R−CH−(CH2)n−C0OH+ R’OH−一→
NHCOOR’ R−CH−(CH2)、 −C0OR’ + H26N
HOCOR’ B) R−CH−(C#z)  −C0OR’ + R’C0
OR’u2HX ここで、R= 、R’ = R’ = H、アルキル基
1.アリール基アルキルアリール基など n:0,1..2,3・・− ハエブレンステッド酸またはルイス酸 この反応は酸触媒の存在下で行なわれ、反応式から明ら
かなように、酸触媒の存在下では、アルコールはエステ
ル化剤(反応A)およびソルボリシス剤(反応B)の二
重の役割を果たす。
操作の全容については以下の実施例より明白になるであ
ろう。ただし、これらの実施例は本発明の精神を限定す
るものではなく、単に本発明を説明するためのものであ
る。
実施例I L−フェニルアラニンの合成について述べる。
この合成は以下の一連の反応により行なわれる。
\ OOH 水素化段階で使用した触媒は((Rh PNNP D 
1ene )〕 X である。式中、  Rhはロジウ
ムであり、PNNPはN、N’−ビス−R(+)α−メ
チルベンジル−N−N′−ビス−ジフェニルホスフィノ
エチレンジアミロオクタジエン(COD )である。
a)桂皮酸α−アセトアミドの調製 アセチルグリシン58=59 (0,5モル)、無水酢
酸ナトリウム309 (0,37モル)、新しく蒸留し
たベンズアルデヒド799 (0,74モル)および9
5%無水酢酸1349 (1,25モル)でなる混合物
を適当なフラスコ(容積1e)に充填したO得られた溶
液を還流しながら1時間沸騰させ、ついで冷却し、1夜
低温に維持した。
黄色結晶の固形物を冷水125 COで処理し、撹拌棒
で粉砕した。ついで結晶を13Bchnerロートに移
し、冷水で洗浄した。真空中、五酸化リンおよび水酸化
カリウム上で乾燥したのち、粗製のアゾラクトン69〜
72gが得られた(理論値の74〜77%)。生成物は
148℃〜150℃で溶融するものであり、合成用原料
としては充分に純粋である。
桂皮酸アセトアミドアゾラクトン479 (9,25モ
ル)を丸底の短頚フラスコ(容積11り中でアセトン4
50ccと水175CCとの混合物とともに沸騰させる
ことにより溶解させた。
還流しながら4時間沸騰させることにより加水分解を完
了させた。
ついで常圧において蒸気浴上で蒸留することにより大部
分のアセトンを除去した。残留溶液を水400 ccで
希釈し、5分間加熱沸騰させてアセトアミノ酸を完全に
溶解させ、ついでr過した。フィルタ上の少量の不溶物
質(0,2〜0.59 )を沸騰した水50ないし75
CCで洗浄した。P液から採取した結晶を加熱して再び
溶解させ、その後、溶液をノーライト10gとともに5
分間沸騰させ、沸点に近い温度に保ったまま吸引j5過
した。
フィルタ上のノーライトを50CCずつの沸騰した水で
数回(2ないし4回)洗浄し、r過により分離される結
晶を取出し、洗浄水をF液に添加した。低温で1夜放置
したのち、無色の針状結晶をBuchnerロート上で
集め、冷却した水150ないし200 ccで洗浄し、
90ないし100℃において数時間乾燥した。
光学的に純粋な化合物(融点191〜192℃)41な
いし46g(収率:理論値の80〜90%)が得られた
この場合の反応式は次のとおりである。
NHCOCHs H3 b) PNNPの調製 R(+)α−メチルベンジルアミンおよびシュウ酸ジエ
チルを原料として、N、N’−ビス−(R(+)α−メ
チルベンジル)−エチレンジアミンを調製した。
THF中、このジアミドをリチウムアルミニウムヒトリ
ッドで還元し、相当するジアミンをジヒドロクロリド(
融点250℃)として単離した(収率80%)。
得られたジヒドロクロリドを10%NaOHで脱プロツ
化したのち、ジアミン0.050モルを、トリエチルア
ミン0.200モルの存在下、無水ベンゼン30011
Ij中でジフェニルクロロホスフィン0.100モルで
処理した・ 混合物を2・・0時間加熱還流し、ついで沢過してトリ
エチルアンモニウム塩酸塩を分離し、ベンゼン溶液を濃
縮してN、NF−ビス−(R(+)α−メチルベンジル
)−N、N’−ヒス−(ジフェニルホスフィノ)−エチ
レンジアミンを分離した。この化合物は融点138〜1
40℃および 〔α)” = −91115@(c :
= 1. CHCl3)を有していた。収率は原料ジア
ミンに関して70%であった。
C)触媒の合成 PNNP   十  % (RhNBDCl)2  +
  KPF42.0969     759雪管 (分子量230.5)    (分子量636)(分子
量184) ホスフィン2.0969をフラスコ内でベンゼン25耐
中に溶解し、ついで固状のRh錯体を添加し、さらにT
HF 6 ml中に溶解したカリウム塩を添加したO (触媒を溶解させる)、 1 o atで洗浄し、KC
/’に除去した。この溶液にEt2035 art f
添加して触媒を沈殿させた。フィルタ上で触媒2.3g
が得られたO d)不斉水素化 桂皮酸α−アセトアミドの不斉水素化を、機械的攪拌機
を具備したオートクレーブAl5I 361内で以下の
条件下で行なった。
桂皮酸アセトアミド      4.19 (0,2モ
ル)無水エタノール       200履lN2分 
圧             1.5気圧温   度 
             22℃原料:触媒の比  
     15,000 : 1真空化−N2導入の操
作サイクルを3ないし4回行なうことにより、オートク
レーブから酸素を排除した。その後、サイホン現象を利
用して、反応混合物(触媒+原料)の懸濁液をオートク
レーブに充填した。真空化−N2導入の操作サイクルを
2回行なったのち、操作圧力(8,5気圧)に達したと
ころで攪拌を開始した。
)12吸収速度(すなわち変化率)は以下のとおりであ
った。
時 間         変化率(%)15     
              3930       
           6045          
       7560              
   8175                 8
690                  8912
0                 95180  
               100反応終了後、N
2を除去し、ますロータリエバポレータにより、ついで
吸引ポンプにより反応混合物を蒸発乾固させた。生成物
の光学純度:αread=+0.39 (C==1、E
t2096%)、 αmax =+ 0.469、cc
==saaa%。
光学純w sa、a%(αread=0.390、c=
1゜EtOH96%)をもつ(I、) N−アセチルフ
ェニルアラニ:/309をCHCl、 180 COお
よびEtOH9CCでなる混合物で処理した。混合物を
15分間還流加熱した。その後、室温に冷却し、沢過し
、固形物をCHCl5で洗浄し、乾燥した。これにより
、αread = + 0.460 (C= 1、Et
OH96%)、□□□=98.3%ヲモつ(L)N−ア
セチルフェニルアラニン24.2059が得られた(収
率95%)。存在するRhの量は8 ppmであった。
原則的には、96%EtOH中の2セミ体の濃度は50
ないし60%、好ましくは55%でなければならず、C
HCA’a : EtOH(r)比は95:5でなけれ
ばならない。最終生成物はRh 8 pl)m以下を含
有するのみである。
(ft)  CH2C1a/FJtOH使用の場合光学
純度83.3%をもつ(L) N−アセチルフェニルア
ラニア5gを、CH2CA!260 mlオよび96%
EtOH15mlでなる混合物中で、15分間加熱還流
した。混合物を0℃に冷却し、沈殿物を沢取し、  C
H2(J2で洗浄し、乾燥した。これにより、αrea
d = o、4so (C: 1、EtOH96%)、
cc=96.15%5%ヲモL) N−アセチルフェニ
ルアラニン3.7359が得られた。Rh含量はs p
pm以下であった。
原則的には、96%ETCH中におけるラセミ体の濃度
は25ないし40%、好ましくは35%でなければなら
ず、CH2CA!2 : EtOHの比は96:4でな
ければならない。
実施例2 光学純度97%のN−アセチルフェニルアラニン509
 (0,241モル)を無水メタノール4001中に溶
解した。得られた溶液を氷で0℃に冷却し、無水の塩化
水素ガス30gで処理した。ついで、アセトジメチルア
セタール29.49 (0,277モル)ズ・ご を、この溶液に添加し、分別へ留装置中で溶液を加熱還
流した。溶液を20時間恒温に保った。この間に、分別
蒸留により溶媒70ないし80mjが定期的に除去され
た。このようにして、反応Bの結果として生成する酢酸
のメチルエステルが反応媒体から除去される。この反応
媒体はアセトンジメチルアセタールと反応Aの結果とし
て生成する水との間の反応により生じたアセトンである
。このように、両反応の平衡は所望の方向に有利に変え
られる。
溶媒を留去することによりL−フェニルアラニン塩酸塩
が単離される。付随する塩酸は、メタノ ・。
−ル50 yglずつを使用し溶解−蒸発の操作を4回
行なうことにより、除去された。
このようKして、原料物質と等しい光学純度をもつL−
フェニルアラニンメチルエステル塩酸塩47.89が得
られた(収率=93%)。
実施例3 実施例1と同様にして、ただしアセトンジメチルアセタ
ールを添加することなく、N−アセチル−L−アラニン
31 、5.9 (0,2,41モル)を無水エタノー
ル300mjおよびHCl259と反応させた。
この場合、反応Aに従って生成する水および反応Bに従
って生成する酢酸エチルは、エタノールと三元共沸混合
物を形成して直接除去される。
このようにして、L−アラニンエチルエステル塩酸塩3
3.39が得られた(収率=90%)。
実施例4 実施例1と同様にして、無水メタノール2501中でN
−アセオルグリシン28g(0,24モル)を無水HC
lガス25gと反応させた。グリシンメチルエステル塩
酸塩27gが得られた(収率89%)。
実施例5 光学純度9 ’ 7%のN−アセチルフェニルアラニン
1009 (0,843モル)をメタノール80011
j中に溶解した。この中に、H2SO4(純度96%、
比重1.83 ) 1009を添加し、溶液を還流した
O還流を25時間続け、その間に、メタノールによる共
沸蒸留を介して、生成された酢酸のメチルエステルを回
収した。この操作を定期的に行なった・このようにする
ことにより、反応平衡Bは右に向かうようにシフトされ
、一方、反応Aによって生成する水は反応媒体中に存在
する硫酸に結合される。
反応完了時、溶液の容量は初期の14に減少した。
ついで、アン干ニア水により中和して、pHを9とした
。水溶液を2001ずつのジクロルエタンで3度抽出し
た。有機相を水浴で0℃に冷却し、無水の塩化水素ガス
を有機相中で発泡させた。
このようにして生成されたし一7エニルアラニンの塩酸
塩をフィルタ上で集め、ジクロルエタンで洗浄し、乾燥
した。
生成物929が得られた。光学的収率は99%であった
。収率は理論値の89%であった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、光学活性のアミノ酸またはその誘導体の製法におい
    て、遷移金属化合物の存在下でブロキラルまたはラセミ
    オレフィン不飽和化合物を不斉水素化し、ついで最終生
    成物を少なくとも1種類のアルコールと少なくとも1種
    類のハロゲン化炭化水素とでなる溶媒混合物で処理する
    ことを特徴とする、光学活性のアミノ酸またはその誘導
    体の製法。 2、不斉水素化を、一般式 %式%) (式中、ビはアルキル基、アリール基、アルキルアリー
    ル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ
    基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルホスフ
    ィノ基、アリールホスフィノ基またはアミノホスフィノ
    びR3は同一または異なるアルキル基、アリール基、ア
    ルキルアリール基、アリールアルキル基またはシクロア
    ルキル基であって、これら2つの基のうち少なくとも1
    つは1またはそれ以上の非うセミキラル中心を含有する
    ものである)を満足する化合物の中から選ばれる不斉ア
    ミノホスフィンと遷移金属との錯体の存在下で行なう特
    許請求の範囲第1項記載の製法。 3、遷移金属錯体がロジウム錯体である特許請求の範囲
    第1項または第2項記載の製法。 4、不斉水素化を温度−70℃ないし+200℃におい
    て行なう特許請求の範囲第1項記載の製法。 5、不斉水素化をアルコール系溶媒の存在下で行なう特
    許請求の範囲第1項記載の製法。 6、不斉水素化を触媒錯体に対する不飽和化合物のモル
    比10以上において行なう特許請求の範囲第1項記載の
    製法。 7、触媒錯体に対する不飽和化合物のモル比がIOない
    し20,000の範囲である特許請求の範囲第6項記載
    の製法。 8、不斉水素化の生成物を、少なくとも1種類のアルコ
    ールと少なくとも1種類のハロゲン化炭化水素とでなり
    、かつアルコール系成分:炭化水素成分の比が1:工な
    いし1:50である溶媒混合物と接触させる特許請求の
    範囲第1項記載の製法。 9、アルコールがエチルアルコールである特許請求の範
    囲第8項記載の製法。 10、ハロゲン化炭化水素がクロロホルムまたは塩化メ
    チレンである特許請求の範囲第8項記載の製法。 11、原料の不飽和化合物が桂皮酸α−アセトアミドで
    ある特許請求の範囲第1項記載の製法。 12、酸の存在下、相当す乏アミノ酸をアルコールと反
    応させることを特徴とするアミノ酸エステルの製法。
JP57176483A 1981-10-08 1982-10-08 光学活性のアミノ酸またはその誘導体の製法 Pending JPS5874644A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO1992013827A1 (en) * 1991-02-05 1992-08-20 Japan Tobacco Inc. PROCESS FOR PRODUCING α-AMINO-β,δ-DIOL DERIVATIVE

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IT1144924B (it) 1986-10-29

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