JPS5857613A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS5857613A JPS5857613A JP15715981A JP15715981A JPS5857613A JP S5857613 A JPS5857613 A JP S5857613A JP 15715981 A JP15715981 A JP 15715981A JP 15715981 A JP15715981 A JP 15715981A JP S5857613 A JPS5857613 A JP S5857613A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- winding
- magnetic head
- polishing
- resistance
- Prior art date
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- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
- G11B5/3166—Testing or indicating in relation thereto, e.g. before the fabrication is completed
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は研磨量の調整に係る技術的改善を施した薄膜磁
気ヘッドの製造方法に関する。
気ヘッドの製造方法に関する。
強磁性薄膜をフォトリングラフイー等の微細加工技術を
用いて加工することにより得られる薄膜磁気ヘッドは、
従来の強磁性体バルク材料を加工して得られる磁気へ7
ドに比して狭トラツク化、狭ギヤツプ化が容易であるた
め高密度磁気記録装置の記録用あるいは再生用ヘッドに
適している。
用いて加工することにより得られる薄膜磁気ヘッドは、
従来の強磁性体バルク材料を加工して得られる磁気へ7
ドに比して狭トラツク化、狭ギヤツプ化が容易であるた
め高密度磁気記録装置の記録用あるいは再生用ヘッドに
適している。
また多素子化も容易なことから、マルチチャンネル固定
ヘッド型PCM録音機用の磁気ヘッドとして有望視され
ている。
ヘッド型PCM録音機用の磁気ヘッドとして有望視され
ている。
上記マルチチャンネル固定ヘッド型PCM録音機では磁
気テープの速度が遅く巻線型磁気ヘッドでは十分な再生
出力が得られないため、再生用磁環ヘッドとして磁気抵
抗効果素子を用いた磁束応答型の磁気ヘッドが用いられ
る。記録用磁電ヘッドとしては巻線型磁気ヘッドが用い
られる。
気テープの速度が遅く巻線型磁気ヘッドでは十分な再生
出力が得られないため、再生用磁環ヘッドとして磁気抵
抗効果素子を用いた磁束応答型の磁気ヘッドが用いられ
る。記録用磁電ヘッドとしては巻線型磁気ヘッドが用い
られる。
上記の記録用あるいは再生用の薄膜磁気ヘッドを製造す
る場合には蒸着、スパッタあるいはメッキ等の薄膜技術
と微細加工技術を用いて磁気コアあるいは磁気抵抗効果
素子リード線等を形成し次に所定の大きさに切断した後
シールド・ケース等の際、特に磁気へンドが多素子構造
を有していると両端の素子で研磨量に差が生じこのこと
が素子間の特性のバラツキの原因となった。再生用磁気
ヘッドの場合には磁気抵抗効果素子自身が研磨されるた
め、磁気抵抗効果素子の抵抗をモニターすることによっ
て研磨量を決定することができる。
る場合には蒸着、スパッタあるいはメッキ等の薄膜技術
と微細加工技術を用いて磁気コアあるいは磁気抵抗効果
素子リード線等を形成し次に所定の大きさに切断した後
シールド・ケース等の際、特に磁気へンドが多素子構造
を有していると両端の素子で研磨量に差が生じこのこと
が素子間の特性のバラツキの原因となった。再生用磁気
ヘッドの場合には磁気抵抗効果素子自身が研磨されるた
め、磁気抵抗効果素子の抵抗をモニターすることによっ
て研磨量を決定することができる。
しがしながら記録用磁気ヘッドの場合には再生用磁気ヘ
ッドのように簡単に研磨量を決定する方法がないため別
個に研磨用モニター抵抗を設ける必要がある。
ッドのように簡単に研磨量を決定する方法がないため別
個に研磨用モニター抵抗を設ける必要がある。
本発明は上記の記録用磁気ヘッドの研磨用モニター抵抗
の形成に関するものであり、従来のへンド製造方法に比
して製造プロセヌの増加をともなうことなく研磨用モニ
ター抵抗を形成する薄膜磁気ヘッドの製造方法を与える
ものである。以下本発明に係わる薄膜磁気ヘッドの製造
方法について説明する。
の形成に関するものであり、従来のへンド製造方法に比
して製造プロセヌの増加をともなうことなく研磨用モニ
ター抵抗を形成する薄膜磁気ヘッドの製造方法を与える
ものである。以下本発明に係わる薄膜磁気ヘッドの製造
方法について説明する。
第1図乃至第4図は本発明に係わる薄膜餠俄ヘッドの製
造手順を示す図であり、同図(a)は平面図、同図(b
)は側面図である。フェライト等の強磁性体基板1上に
5i02等の第1の絶縁@2をスパンタ等で形成した後
、T1等の導電体で密着す3を形成し、その上に巻線と
なる導電体層を全面に形成する。しかる後この巻線とな
る導電体層のみを選択的にエツチングして、巻線4およ
び研磨用モニター抵抗のリード線5となる部分を同時に
加工する(第1図)。そして密着@3を2本のを残して
除去することによって研磨用モニター抵抗6を形成する
(第2図)。この研磨用モニター抵抗6および巻線4等
の上に5I02等の第2の絶縁響7を第1の絶縁@2と
同様に形成し続いてパーマロイ等の強磁性@8をメンキ
あるいは蒸着ヌパンタ等で形成し、磁気コアに加工する
(第3図)。この弾磁性@8を設ける前にパックギャッ
プとなる部分の第2の絶縁@7を除去すれば磁気回路の
抵抗値を下げることができる。次に第2の絶縁す7の一
部に巻線および研磨用モニター抵抗とリード線を接続す
るための窓9゛を設ける(第4図)。以上の工程によっ
て研磨用モニター抵抗を形成する。密着轡に比して導電
体部は充分部いためリードの抵抗をモニター抵抗に比し
て低くすることができる。
造手順を示す図であり、同図(a)は平面図、同図(b
)は側面図である。フェライト等の強磁性体基板1上に
5i02等の第1の絶縁@2をスパンタ等で形成した後
、T1等の導電体で密着す3を形成し、その上に巻線と
なる導電体層を全面に形成する。しかる後この巻線とな
る導電体層のみを選択的にエツチングして、巻線4およ
び研磨用モニター抵抗のリード線5となる部分を同時に
加工する(第1図)。そして密着@3を2本のを残して
除去することによって研磨用モニター抵抗6を形成する
(第2図)。この研磨用モニター抵抗6および巻線4等
の上に5I02等の第2の絶縁響7を第1の絶縁@2と
同様に形成し続いてパーマロイ等の強磁性@8をメンキ
あるいは蒸着ヌパンタ等で形成し、磁気コアに加工する
(第3図)。この弾磁性@8を設ける前にパックギャッ
プとなる部分の第2の絶縁@7を除去すれば磁気回路の
抵抗値を下げることができる。次に第2の絶縁す7の一
部に巻線および研磨用モニター抵抗とリード線を接続す
るための窓9゛を設ける(第4図)。以上の工程によっ
て研磨用モニター抵抗を形成する。密着轡に比して導電
体部は充分部いためリードの抵抗をモニター抵抗に比し
て低くすることができる。
マルチチャンネル固定ヘッド型PCM録音機の磁気ヘッ
ドのように多素子構造を持つ場合には上記研磨用モニタ
ー抵抗を磁気ヘッドの両端に2個設けることによって全
素子を均一に研磨するととができる。また研磨されない
部分に別のモニター抵抗を設ければ実際に研磨されるモ
ニター抵抗とこの研磨されないモニター抵抗とを比較す
ることによって研磨量を校正しながら研磨することがで
きる。また上記実施例ではシングルターン型の磁気ヘッ
ドを示しているが、本発明はマルチターン型の磁気ヘッ
ドについても実施可能であり、さらに多素子型磁気へラ
ド共通バイアス用のリード線が各素子に共通して設けら
れた場合にも本発明を適用できる。
ドのように多素子構造を持つ場合には上記研磨用モニタ
ー抵抗を磁気ヘッドの両端に2個設けることによって全
素子を均一に研磨するととができる。また研磨されない
部分に別のモニター抵抗を設ければ実際に研磨されるモ
ニター抵抗とこの研磨されないモニター抵抗とを比較す
ることによって研磨量を校正しながら研磨することがで
きる。また上記実施例ではシングルターン型の磁気ヘッ
ドを示しているが、本発明はマルチターン型の磁気ヘッ
ドについても実施可能であり、さらに多素子型磁気へラ
ド共通バイアス用のリード線が各素子に共通して設けら
れた場合にも本発明を適用できる。
以上のように本発明によれば従来の薄嘆磁気ヘッドの製
造工程を大きく変更することなく容易に研磨用モニター
抵抗を形成することができる。
造工程を大きく変更することなく容易に研磨用モニター
抵抗を形成することができる。
第1図乃至第4図は本発明に係わる薄膜磁気ヘッドの製
造手順を示し、同図(a)は平面図、同図(b)は側面
図である。 図中、1:強磁性体基板 2:第1の絶縁響3:密着
@ 4:巻線 5:研磨用モニター抵抗のリード線 6:モニター抵抗 7:第2の絶縁製8:強磁性饗
9:窓 代弾人 弁理士 福 士 愛 彦 第1図 第3図 第2図 第η間
造手順を示し、同図(a)は平面図、同図(b)は側面
図である。 図中、1:強磁性体基板 2:第1の絶縁響3:密着
@ 4:巻線 5:研磨用モニター抵抗のリード線 6:モニター抵抗 7:第2の絶縁製8:強磁性饗
9:窓 代弾人 弁理士 福 士 愛 彦 第1図 第3図 第2図 第η間
Claims (1)
- 1、 磁気コアの巻線を構成する導電体蕾を密着させる
Ti等からなる密着響により研磨用モニター抵抗を形成
したことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15715981A JPS5857613A (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15715981A JPS5857613A (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5857613A true JPS5857613A (ja) | 1983-04-05 |
JPH0118497B2 JPH0118497B2 (ja) | 1989-04-06 |
Family
ID=15643467
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15715981A Granted JPS5857613A (ja) | 1981-09-30 | 1981-09-30 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5857613A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6034849A (en) * | 1996-08-22 | 2000-03-07 | Nec Corporation | Thin film magnetic head and method of manufacturing the same |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5625221A (en) * | 1979-08-07 | 1981-03-11 | Fujitsu Ltd | Manufacture of thin-film magnetic head |
-
1981
- 1981-09-30 JP JP15715981A patent/JPS5857613A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5625221A (en) * | 1979-08-07 | 1981-03-11 | Fujitsu Ltd | Manufacture of thin-film magnetic head |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6034849A (en) * | 1996-08-22 | 2000-03-07 | Nec Corporation | Thin film magnetic head and method of manufacturing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0118497B2 (ja) | 1989-04-06 |
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