JPS584708B2 - 非対称ジアルキルアゾキシベンゼン液晶の製造方法 - Google Patents
非対称ジアルキルアゾキシベンゼン液晶の製造方法Info
- Publication number
- JPS584708B2 JPS584708B2 JP2036677A JP2036677A JPS584708B2 JP S584708 B2 JPS584708 B2 JP S584708B2 JP 2036677 A JP2036677 A JP 2036677A JP 2036677 A JP2036677 A JP 2036677A JP S584708 B2 JPS584708 B2 JP S584708B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- dialkylazoxybenzene
- liquid crystal
- temperature
- yield
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は低温液晶である非対称ジアルキルアゾキシベ
ンゼン液晶の製造方法に関するものである。
ンゼン液晶の製造方法に関するものである。
従来非対称のp−〆−ジアルキルアゾキシベン(但し
式中R1、R2はアルキル基)の製造法としては、p−
アルキルニトロソベンゼン ーアルキルフエニルヒドロキシアミン の縮合、又は前記p−アルキルニトロソベンゼンとp−
アルキルアニリン 縮今によりp”p’−ジアルキルアゾベンゼンこれを適
宜酸化して目的物を得る方法が知られている。
アルキルニトロソベンゼン ーアルキルフエニルヒドロキシアミン の縮合、又は前記p−アルキルニトロソベンゼンとp−
アルキルアニリン 縮今によりp”p’−ジアルキルアゾベンゼンこれを適
宜酸化して目的物を得る方法が知られている。
しかしかかる方法では一般に中間体である上記アルキル
ニトロンベンゼンR (Rはアルキル基)の収率が悪く全体の収率が低下する
欠点が免かれなかった。
ニトロンベンゼンR (Rはアルキル基)の収率が悪く全体の収率が低下する
欠点が免かれなかった。
この場合、上記p−アルキルニトロソベンゼンの製造法
としては、p−アルキルニトロベンゼンO2を塩化アン
モニウム水溶液中 で亜鉛粉末を用いて還元することによりp−アルキルフ
エニルヒドロキシアミン を得、これを重クロム 酸等により酸化する方法が一般的である。
としては、p−アルキルニトロベンゼンO2を塩化アン
モニウム水溶液中 で亜鉛粉末を用いて還元することによりp−アルキルフ
エニルヒドロキシアミン を得、これを重クロム 酸等により酸化する方法が一般的である。
しかしこの方法は上記反応が発熱反応であることから温
度のコントロールが容易でなく更に上記還元されたp−
アルキルフエニルヒドロキシアミンの反応性が高いこと
による副反応が生じ易く、これらの原因でp−アルキル
ニトロンベンゼンの収率が極端に低くなる結果になる。
度のコントロールが容易でなく更に上記還元されたp−
アルキルフエニルヒドロキシアミンの反応性が高いこと
による副反応が生じ易く、これらの原因でp−アルキル
ニトロンベンゼンの収率が極端に低くなる結果になる。
更にこの方法では用いる亜鉛粉末及び重クロム酸による
亜鉛及びクロムを含む廃液の処理にコスト高を招く原因
が避けられなかった。
亜鉛及びクロムを含む廃液の処理にコスト高を招く原因
が避けられなかった。
更にこの方法に用いる原料のアルキルニトロベンゼンは
、アルキル基がCH3一又はC2H5一以外のものはそ
の入手が困難であるばかりでなくそのコストが非常に高
いきらいがあった。
、アルキル基がCH3一又はC2H5一以外のものはそ
の入手が困難であるばかりでなくそのコストが非常に高
いきらいがあった。
3 この発明はこのような欠点を克服すべく多数の試験
研究を重ねた結果完成されたものであり、即ちこの発明
は、p−アルキルアニリンを反応促進剤としてp−アル
キルニトロベンゼンの存在下にアセトニトリルー水媒体
中で+1〜+2℃の温度で酸化させこの反応が約50%
進行した際に反応系の温度を−15〜−20℃に低下さ
せて反応を完結させ、中間体p−アルキルニトロソベン
ゼンを得、このp−アルキルニトロンベンゼンをp/一
アルキルアニリンと縮合させてp’p’−ジアルキルア
ゾベンゼンとしこれを酸化して非対称ジアルキルアゾキ
シベンゼン液晶を得ることを特徴とする非対称ジアルキ
ルアゾキシベンゼン液晶の製造方法である。
研究を重ねた結果完成されたものであり、即ちこの発明
は、p−アルキルアニリンを反応促進剤としてp−アル
キルニトロベンゼンの存在下にアセトニトリルー水媒体
中で+1〜+2℃の温度で酸化させこの反応が約50%
進行した際に反応系の温度を−15〜−20℃に低下さ
せて反応を完結させ、中間体p−アルキルニトロソベン
ゼンを得、このp−アルキルニトロンベンゼンをp/一
アルキルアニリンと縮合させてp’p’−ジアルキルア
ゾベンゼンとしこれを酸化して非対称ジアルキルアゾキ
シベンゼン液晶を得ることを特徴とする非対称ジアルキ
ルアゾキシベンゼン液晶の製造方法である。
この発明の反応過程を化学式をもって示すと以下の1〜
4式によって示される。
4式によって示される。
ところで上式の各反応中(3)及び(4)式の反応によ
る収率は、略90%以上の高率で行われるので、この発
明の目的物質であるp−v−ジアルキルアゾキシベンゼ
ンの収率は上記p−アルキルニトロゾベンゼンの収率に
よって殆んど決定されることになると云って良い。
る収率は、略90%以上の高率で行われるので、この発
明の目的物質であるp−v−ジアルキルアゾキシベンゼ
ンの収率は上記p−アルキルニトロゾベンゼンの収率に
よって殆んど決定されることになると云って良い。
即ち上記(1)及び(2)式の反応を促進させるように
するのが効果的である。
するのが効果的である。
この発明において、反応促進剤としてp−アルキルニト
ロベンゼンを存在させる理由はこの(1)及び(2)式
の反応を促進させるためにあり、その存在量はp−アル
キルアニリンに対して0.1〜1%が好ましい。
ロベンゼンを存在させる理由はこの(1)及び(2)式
の反応を促進させるためにあり、その存在量はp−アル
キルアニリンに対して0.1〜1%が好ましい。
次にこの発明において、上記各反応の外に、反応条件に
よっては次式(5)及び(6)で示す副反応が同時に発
生する。
よっては次式(5)及び(6)で示す副反応が同時に発
生する。
これらの反応式から明らかなことはこれらの副反応はい
ずれも本発明の目的物収率を低下させる重大な原因にな
ることである。
ずれも本発明の目的物収率を低下させる重大な原因にな
ることである。
そこで前記6)式の反応は反応系の反応温度及びpHを
適切に制御することによりこれを免かれることができる
。
適切に制御することによりこれを免かれることができる
。
具体的には反応温度をこの発明のように+1〜+2℃に
保つことにより、又pHは9〜11の範囲で可能である
。
保つことにより、又pHは9〜11の範囲で可能である
。
更にこの発明において、原料アニリンが約50%程度反
応したところで反応系の温度を−15〜−20℃に低下
させ反応を完結させることにより、上記(5)式の反応
が起こるのを阻止することができるのである。
応したところで反応系の温度を−15〜−20℃に低下
させ反応を完結させることにより、上記(5)式の反応
が起こるのを阻止することができるのである。
この発明において原料であるp−アルキルアニリンとし
ては、例えばp−n−プロピルアニリン、p−n−プチ
ルアニリンなどが用いられるのであり、即ち上記式にお
けるR1及びR2がエチル基、n−プロピン基、n−ペ
ンチル基、n−ヘキシル基等多種類のものが含まれるの
である。
ては、例えばp−n−プロピルアニリン、p−n−プチ
ルアニリンなどが用いられるのであり、即ち上記式にお
けるR1及びR2がエチル基、n−プロピン基、n−ペ
ンチル基、n−ヘキシル基等多種類のものが含まれるの
である。
次にこの発明における反応系で媒体として特にアセトニ
トリルー水媒体を用いる理由は、原料である上記p−ア
ルキルアニリンと酸化剤である過酸化水素を共に溶解し
均一な反応溶液を作ることができることによるものであ
る。
トリルー水媒体を用いる理由は、原料である上記p−ア
ルキルアニリンと酸化剤である過酸化水素を共に溶解し
均一な反応溶液を作ることができることによるものであ
る。
又この発明において中間体のp−アルキルニトロンベン
ゼンと縮合させるp−アルキルアニリンとしては具体的
にはp−n−プロビルアニリン、p−n−プチルアニリ
ンなどであり、この発明ではこれらはp−アルキルニト
ロソベンゼンと等モル量を加えて反応させるのである。
ゼンと縮合させるp−アルキルアニリンとしては具体的
にはp−n−プロビルアニリン、p−n−プチルアニリ
ンなどであり、この発明ではこれらはp−アルキルニト
ロソベンゼンと等モル量を加えて反応させるのである。
上記縮合により得られるp−p′−ジアルキルアゾベン
ゼンを酸化させてこの発明の目的物を得る具体的な手段
としてはこれをアルコールに溶解し60℃にて過酸化水
素にて酸化させる方法などがある。
ゼンを酸化させてこの発明の目的物を得る具体的な手段
としてはこれをアルコールに溶解し60℃にて過酸化水
素にて酸化させる方法などがある。
この発明は以上のように非対称ジアルキルアゾキシベン
ゼン液晶の製造法において、反応による収率低下の原因
を著し《減少させ得たので収率良く目的物が得られ、又
反応系中に亜鉛又はクロム等が混入されず廃液処理が容
易であり、結局収率向上と廃液処理費の低下によりその
コストがはるかに安価になるなど上記従来の欠徹を略一
掃し得る効果がある。
ゼン液晶の製造法において、反応による収率低下の原因
を著し《減少させ得たので収率良く目的物が得られ、又
反応系中に亜鉛又はクロム等が混入されず廃液処理が容
易であり、結局収率向上と廃液処理費の低下によりその
コストがはるかに安価になるなど上記従来の欠徹を略一
掃し得る効果がある。
以下実施例及び比較例を示しこの発明を具体的に説明す
る。
る。
実施例
アセトニトリル60ml、水40mlおよび過酸化水素
6mlからなる溶液を1℃に冷却し、この溶液にp一エ
チルアニリン4grおよびp一エチルニトロソベンゼン
0.1grを加え、全溶液をIN−NaOHを用いその
pHを10.5〜11.0に調整した。
6mlからなる溶液を1℃に冷却し、この溶液にp一エ
チルアニリン4grおよびp一エチルニトロソベンゼン
0.1grを加え、全溶液をIN−NaOHを用いその
pHを10.5〜11.0に調整した。
そして反応の進行中は該溶液の温度およびpHを上記の
値に保つようにした。
値に保つようにした。
約7時間攪拌反応させた後、高速液体クロマトグラフイ
ーを用いて上記反応が50%程度進行したことを確認し
た後、溶液温度を−20℃に降下させ約12時間放置し
た。
ーを用いて上記反応が50%程度進行したことを確認し
た後、溶液温度を−20℃に降下させ約12時間放置し
た。
反応混合物をエーテル抽出した後更にIN−HCIで洗
滌し原料のアニリンを除去した。
滌し原料のアニリンを除去した。
このようにして得られたエーテル溶液を所望の方法で濃
縮することによりp一エチルニトロソベンゼンとp一エ
チル二トロベンゼンの混合物を得た。
縮することによりp一エチルニトロソベンゼンとp一エ
チル二トロベンゼンの混合物を得た。
次にこの混合物から減圧蒸溜法(55℃/4mmHgに
よりp−エチルニトロソベンゼン1.2grを得た。
よりp−エチルニトロソベンゼン1.2grを得た。
このp一エチルニトロソベンゼン1.2grとp’−n
−7ロピルアニリン1.3grとをアルコール10ml
に溶解し、氷酢酸3grを加えて室温で反応させ、反応
混合物をドライアイスーメタノール中で冷却し析出させ
た。
−7ロピルアニリン1.3grとをアルコール10ml
に溶解し、氷酢酸3grを加えて室温で反応させ、反応
混合物をドライアイスーメタノール中で冷却し析出させ
た。
析出物を沢別口、メタノールにて再結晶させp一エチル
ー〆一n−プロピルアゾベンゼンを得る。
ー〆一n−プロピルアゾベンゼンを得る。
これを氷酢酸に溶解し、10mlの過酸化水素を用いて
60℃で酸化することによりp一エチルーp/−n−プ
ロビルアゾキシベンゼン1.8grを得ることができた
(収率20.7%)。
60℃で酸化することによりp一エチルーp/−n−プ
ロビルアゾキシベンゼン1.8grを得ることができた
(収率20.7%)。
得られたp一エチルーp/−n−プロビルアゾキシベン
ゼンは16〜35℃でネマチツク相を示した。
ゼンは16〜35℃でネマチツク相を示した。
上記と同様の方法によりアルキル基の異る二、三の他の
アゾキシ液晶を得たがこれらのネマチック温度範囲は以
下の通りであった。
アゾキシ液晶を得たがこれらのネマチック温度範囲は以
下の通りであった。
p一エチルーp/−n−ブチルアゾ
キシベンゼン 13〜18℃
p一エチルーp/−n−ペンチルア
ゾキシベンゼン 10〜41℃
p一エチルーp/−n−ヘキシルア
ゾキシベンゼン 11〜31℃
比較例 1
常法のようにp一エチル二トロベンゼンを亜鉛粉末にて
還元した後重クロム酸ナトリウムで酸化し、p一エチル
ニトロソベンゼンを得、これを用いてp一エチル−p’
−n−7ロピルアゾキシベンゼンを製造したが、この時
の収率は5%にしかならなかった。
還元した後重クロム酸ナトリウムで酸化し、p一エチル
ニトロソベンゼンを得、これを用いてp一エチル−p’
−n−7ロピルアゾキシベンゼンを製造したが、この時
の収率は5%にしかならなかった。
比較例 2
実施例1において、原料アニリンが殆んどなくなるまで
反応を行ったところp−アルキルニトロンベンゼンの収
量は微量となり、又例えば10℃の温度で反応させたと
ころその収量は殆んど零となってしまった。
反応を行ったところp−アルキルニトロンベンゼンの収
量は微量となり、又例えば10℃の温度で反応させたと
ころその収量は殆んど零となってしまった。
Claims (1)
- 1 p−アルキルアニリンを、反応促進剤としてp−ア
ルキルニトロベンゼンの存在下にアセトニトリルー水媒
体中で温度+1〜2℃、pH9〜11の範囲で酸化させ
この反応が約50%進行した際に反応系の温度を−15
〜−20℃に低下させて反応を完結させ、中間体p−ア
ルキルニトロソベンゼンを得、このp−7ルキルニトロ
ソベンゼンをp′−アルキルアニリンと縮合させてp”
p’−ジアルキルアゾベンゼンとし、これを酸化して非
対称ジアルキルアゾキシベンゼン液晶を得ることを特徴
とする非対称ジアルキルアゾキシベンゼン液晶の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2036677A JPS584708B2 (ja) | 1977-02-28 | 1977-02-28 | 非対称ジアルキルアゾキシベンゼン液晶の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2036677A JPS584708B2 (ja) | 1977-02-28 | 1977-02-28 | 非対称ジアルキルアゾキシベンゼン液晶の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS53105436A JPS53105436A (en) | 1978-09-13 |
JPS584708B2 true JPS584708B2 (ja) | 1983-01-27 |
Family
ID=12025074
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2036677A Expired JPS584708B2 (ja) | 1977-02-28 | 1977-02-28 | 非対称ジアルキルアゾキシベンゼン液晶の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS584708B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3410177A1 (de) * | 1983-03-22 | 1984-09-27 | Kabushiki Kaisha Suwa Seikosha, Tokio/Tokyo | Fluessigkristall-verbindungen und verfahren zu ihrer herstellung |
-
1977
- 1977-02-28 JP JP2036677A patent/JPS584708B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS53105436A (en) | 1978-09-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20010053294A (ko) | 오르토-알킬화 벤조산 유도체의 제조방법 | |
JPS62294636A (ja) | 2−メチル−1,4−ナフトキノンの製造法 | |
JPS584708B2 (ja) | 非対称ジアルキルアゾキシベンゼン液晶の製造方法 | |
EP0456799B1 (en) | Improved method of preparing an intermediate for the manufacture of bambuterol | |
JPS6150971A (ja) | 2位で置換されたイミダゾ−ル−4,5−ジカルボン酸の製法 | |
JPS6025428B2 (ja) | 4‐(ヒドロキシメチル)イミダゾール化合物の製法 | |
JPH03135983A (ja) | 1,1―ジオキソ―7―置換セフェムの製造方法 | |
JP3443584B2 (ja) | N−tert−ブチルピラジンカルボキサミド類の製造方法 | |
DE3115650A1 (de) | Verfahren zur herstellung von n-substituierten oxazolidin-2,4-dionen | |
JP3042123B2 (ja) | N−シアノアセトアミジン誘導体の製法 | |
JPS6339893A (ja) | 5−フルオロウリジン類およびその製法 | |
US2870178A (en) | Chemical compounds and processes of preparing same | |
JPS5916878A (ja) | 2,4−ジヒドロキシ−3−アセチルキノリン類の製造方法 | |
JP2565372B2 (ja) | チオール化合物の製造方法 | |
US4447617A (en) | Process for the preparation of 2-amino-6-nitrobenzothiazole | |
JPH02771A (ja) | チアンフェニコールの製造法 | |
JPS588096A (ja) | 19−ノルエチステロンの製法 | |
JPS6039264B2 (ja) | 3‐アミノ‐2‐ヒドロキシ‐4‐p‐ヒドロキシフエニルブタノイルロイシン、その誘導体の製造法 | |
JP3061357B2 (ja) | 2−メチル−5−ニトロフェノールの製造方法 | |
JP3436314B2 (ja) | 2−メルカプト−5−メトキシベンズイミダゾールの製造法 | |
KR790001684B1 (ko) | 5-벤질 피콜린산 유도체의 제법 | |
JP4032825B2 (ja) | 3,4−ジヒドロキシベンゾニトリルを製造する方法 | |
JPS58203999A (ja) | グルコ−ス化合物の製造法 | |
JPS6024799B2 (ja) | 4,6−ジエン−3−オキソステロイドの製造方法 | |
JPS5848531B2 (ja) | P−ヒドロキシベンズアルデヒドの製造法 |