JPS5843930A - 触媒水素添加 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は触媒水素添加に関するものであり、特にアルデ
ヒドの触媒水素添加に関する。触媒水素添加によって対
応するアルコールを形成するのはよ(知られた反応であ
り、又■業ベースでも広く実用化されている。例えば従
来の方法でオキン合成によってプロピレンから製造され
るn−ブチルアルデヒドはn−7タノールを形成する為
に大規模に触媒水素添加され、又一方、例えばn−ブチ
ルアルデヒドのアルドール化によって2−エチル−3−
ヒドロキシヘキサナルを形成し続いて脱水することによ
って形成される2−エチルプロピルアクロレインは可塑
性アルコール2−エチルヘキサノールを形成する為に毎
年相当のトン数が還元される。
ヒドの触媒水素添加に関する。触媒水素添加によって対
応するアルコールを形成するのはよ(知られた反応であ
り、又■業ベースでも広く実用化されている。例えば従
来の方法でオキン合成によってプロピレンから製造され
るn−ブチルアルデヒドはn−7タノールを形成する為
に大規模に触媒水素添加され、又一方、例えばn−ブチ
ルアルデヒドのアルドール化によって2−エチル−3−
ヒドロキシヘキサナルを形成し続いて脱水することによ
って形成される2−エチルプロピルアクロレインは可塑
性アルコール2−エチルヘキサノールを形成する為に毎
年相当のトン数が還元される。
このような水素添加工程における副産物にはエステルが
ある。例えばある水素添加触媒を使うと、n−ブチルア
ルデヒドの触媒水素添加の帖*得られる反応混合物中に
少量のn−ブチルミS塩が検出される。たとえ低率でも
n−ブチル酪酸塩のよ:1 うなエステルが形成されるということは、例えばn−ブ
タノールなどのアルコール生産物の潜在生成曇にとって
は非常に深刻な損失を意味するのである。このような損
失があるためにある特定の他で使われれば多くの特質を
有するような水素添加触媒を使用しなくてはならなくな
り、工業的にも効果的ではない。
ある。例えばある水素添加触媒を使うと、n−ブチルア
ルデヒドの触媒水素添加の帖*得られる反応混合物中に
少量のn−ブチルミS塩が検出される。たとえ低率でも
n−ブチル酪酸塩のよ:1 うなエステルが形成されるということは、例えばn−ブ
タノールなどのアルコール生産物の潜在生成曇にとって
は非常に深刻な損失を意味するのである。このような損
失があるためにある特定の他で使われれば多くの特質を
有するような水素添加触媒を使用しなくてはならなくな
り、工業的にも効果的ではない。
副産物として形成されるエステルは通常触媒水素添加ゾ
ーンにおけるvAll[の1袢に伴って増加する。従っ
て、副産物エステルの形成を最少限に抑える為には触媒
水素添加ゾーンを比較的低温で作用させる必要があり、
この結果今痩は触媒添加率をある程痕低下させることと
なり、ひいては触媒鋤を増加させたり反応器を大きくし
たりしな%」ればならない結果となる。更に、触媒活動
は使用中時がたつにつれて低下する傾向があるので、触
媒水素添加活動の損失を補う為には通常時間の経過に伴
って反応温度を上げなければならない。このような瀾度
上袢は即ち副産物エステルの形成部の増加を意味し、そ
のためついには副!Ii物エステルの形成レベルが最少
無視できない程に達して、最初の触媒充填がアルデヒド
水素添加にまだ有効であるのにもかかわらず、触媒を変
えねばならなくなってしまうのぐある。
ーンにおけるvAll[の1袢に伴って増加する。従っ
て、副産物エステルの形成を最少限に抑える為には触媒
水素添加ゾーンを比較的低温で作用させる必要があり、
この結果今痩は触媒添加率をある程痕低下させることと
なり、ひいては触媒鋤を増加させたり反応器を大きくし
たりしな%」ればならない結果となる。更に、触媒活動
は使用中時がたつにつれて低下する傾向があるので、触
媒水素添加活動の損失を補う為には通常時間の経過に伴
って反応温度を上げなければならない。このような瀾度
上袢は即ち副産物エステルの形成部の増加を意味し、そ
のためついには副!Ii物エステルの形成レベルが最少
無視できない程に達して、最初の触媒充填がアルデヒド
水素添加にまだ有効であるのにもかかわらず、触媒を変
えねばならなくなってしまうのぐある。
従って、副産物1ステル形成をかなり除ムするか又は最
少限に抑える効果があり、アルデヒドのアルコールへの
転換を最大にし且つ最初のアルデヒドに基づいてアルコ
ールの生成を最大にする効果があることを特徴とし、他
の場合なら副産物エステルの形成を高める傾向のある水
素添加触媒を用いて相応するアル−1−ルを形成する為
のアルデじドの触媒水素添加工程を提供する必要が生じ
るのである。
少限に抑える効果があり、アルデヒドのアルコールへの
転換を最大にし且つ最初のアルデヒドに基づいてアルコ
ールの生成を最大にする効果があることを特徴とし、他
の場合なら副産物エステルの形成を高める傾向のある水
素添加触媒を用いて相応するアル−1−ルを形成する為
のアルデじドの触媒水素添加工程を提供する必要が生じ
るのである。
又、副産物エステル形成による生産の損失を最少に抑え
ながらアルデヒド水素添加触媒の寿命を延ばす必要があ
る。
ながらアルデヒド水素添加触媒の寿命を延ばす必要があ
る。
彎に、副産物エステル形成による損失、を増やすことな
く、アルデヒド水素添加触媒を通常の反埼渇麿よりも高
調で使うことができるようにする必要がある。
く、アルデヒド水素添加触媒を通常の反埼渇麿よりも高
調で使うことができるようにする必要がある。
従って本発明は副産物エステル形成によるアルコール生
産の潜有−的損失を最低に抑えることのできるようなア
ルデヒドの触媒水素添加の工程を捉供せんとするもので
ある。史に本発明は少くとも形成された副産物エステル
の大部分をアルコールの生産に転換できるような、アル
デヒドの触媒水素添加によるアルコールの生産工程を提
供せんとするものである。又本発明は、アルデヒドは付
随する副産物エステルの生産を伴ってアルコールに還元
され、副産物エステルは回収されてアルコール生産に転
換され、それによってアルコール生産収量を最大にする
ことができる触媒水素添加工程を提供せんとするもので
ある。
産の潜有−的損失を最低に抑えることのできるようなア
ルデヒドの触媒水素添加の工程を捉供せんとするもので
ある。史に本発明は少くとも形成された副産物エステル
の大部分をアルコールの生産に転換できるような、アル
デヒドの触媒水素添加によるアルコールの生産工程を提
供せんとするものである。又本発明は、アルデヒドは付
随する副産物エステルの生産を伴ってアルコールに還元
され、副産物エステルは回収されてアルコール生産に転
換され、それによってアルコール生産収量を最大にする
ことができる触媒水素添加工程を提供せんとするもので
ある。
更に本発明は副産物エステル形成による潜在生産の損失
を最少限に抑えながら触媒°の寿命を延ばし■つ通常の
温度よりも17Ia1!で操作が可能であるようなアル
デヒド水素添加工程を提供せんとするものである。
を最少限に抑えながら触媒°の寿命を延ばし■つ通常の
温度よりも17Ia1!で操作が可能であるようなアル
デヒド水素添加工程を提供せんとするものである。
本発明によれば、アルデヒドの水素添加に効果的な水素
添加触媒を満した触媒水素添加ゾーン内で、アルデヒド
の触媒水素添加によるアルコールの製造工程において、
水素添加ゾーンかうの反応混合物は少量のエステルを含
み、又この工程、の改良点は反応混合物からエステルを
分離し、]−ステルと水素を含む蒸気屁合物に銅酸化物
と酸化亜鉛の還元混合物から成る触媒を、約75℃から
約300℃の範囲の温痩で又約0.1kg 1012絶
対値から約100ko /cm2絶対値の範囲の圧力で
接触させることから成るアル」−ルの製造工程を提供し
ている。
添加触媒を満した触媒水素添加ゾーン内で、アルデヒド
の触媒水素添加によるアルコールの製造工程において、
水素添加ゾーンかうの反応混合物は少量のエステルを含
み、又この工程、の改良点は反応混合物からエステルを
分離し、]−ステルと水素を含む蒸気屁合物に銅酸化物
と酸化亜鉛の還元混合物から成る触媒を、約75℃から
約300℃の範囲の温痩で又約0.1kg 1012絶
対値から約100ko /cm2絶対値の範囲の圧力で
接触させることから成るアル」−ルの製造工程を提供し
ている。
対応するアル」 ルを得るようなアルデヒドの触媒水素
の為に提案されている水素添加触媒の中には、ニッケル
、コバルト、硫化モリブデン、亜クロム酸塩銅等が挙げ
られる。これらの触媒は一般に「重水素51、即ちアル
デヒド出発材あるいは製造アルコールよりも高い沸点を
有する材料を少量出す。これらの「重水素」の中でもい
くつかの場合、エステルの存在があり、例えばO−ブチ
ルアルデヒドをn−ブタノールに水素添加すると「重水
素」副産物はエステルn−ブチル酪酸塩を含んでいる。
の為に提案されている水素添加触媒の中には、ニッケル
、コバルト、硫化モリブデン、亜クロム酸塩銅等が挙げ
られる。これらの触媒は一般に「重水素51、即ちアル
デヒド出発材あるいは製造アルコールよりも高い沸点を
有する材料を少量出す。これらの「重水素」の中でもい
くつかの場合、エステルの存在があり、例えばO−ブチ
ルアルデヒドをn−ブタノールに水素添加すると「重水
素」副産物はエステルn−ブチル酪酸塩を含んでいる。
触媒水素添加ゾーンで使われ且つ蒸気相でアルデヒドの
水素添加に効果のある水素添加触媒の特例として、銅酸
化物と酸化亜鉛の還元混合物が挙げられる。このような
触媒がアルデヒドの触媒水素添加に使われると、しばし
ばエステルが反応生産混合物内に検知される。例えばn
−ブチルアルデヒドのn−ブタノールへの触媒水素添加
では反応生産混合物中に少量のn−ブチル酪S塩がある
。
水素添加に効果のある水素添加触媒の特例として、銅酸
化物と酸化亜鉛の還元混合物が挙げられる。このような
触媒がアルデヒドの触媒水素添加に使われると、しばし
ばエステルが反応生産混合物内に検知される。例えばn
−ブチルアルデヒドのn−ブタノールへの触媒水素添加
では反応生産混合物中に少量のn−ブチル酪S塩がある
。
調査によれば、このような触媒を使えばエステル形成反
応は可逆のものであり、又反応生産屁合物はエステル副
生産物を重量の約2%又はそれ以上含んでいる。エステ
ル形成の機構はよくわかっていないが現在わかっている
証明はn−ブチルアルデヒドが一緒に反応してチシエン
コ(T 1schenko)反応によってn−ブチル酪
酸塩を形成する機構に一致するものである。
応は可逆のものであり、又反応生産屁合物はエステル副
生産物を重量の約2%又はそれ以上含んでいる。エステ
ル形成の機構はよくわかっていないが現在わかっている
証明はn−ブチルアルデヒドが一緒に反応してチシエン
コ(T 1schenko)反応によってn−ブチル酪
酸塩を形成する機構に一致するものである。
銅酸化物と酸化亜鉛の還元混合物を使った蒸気相でのア
ルデヒドの触媒水素添加についてはヨーロッパ特許公報
第0008767号(U n1on Carbide
Corporat ionによる1919年8月28日
出願のヨー9ツバ特許出願第79103181.8号)
に詳しく記載されており、その開示はここでも参照され
る。アルデヒドの触媒水素添加は冷却管状又は多段管状
反応器内で又は断熱反応器内で行われる。通常アルデヒ
ドのアルコールへの触媒水素添加を過剰水素のあるとこ
ろで行うのが適当である。典型的には水素:アルデヒド
のモル比は約5=1から、約100:1の範囲にあり、
約20:1から約60=1の範囲にあるのが更に好しい
。
ルデヒドの触媒水素添加についてはヨーロッパ特許公報
第0008767号(U n1on Carbide
Corporat ionによる1919年8月28日
出願のヨー9ツバ特許出願第79103181.8号)
に詳しく記載されており、その開示はここでも参照され
る。アルデヒドの触媒水素添加は冷却管状又は多段管状
反応器内で又は断熱反応器内で行われる。通常アルデヒ
ドのアルコールへの触媒水素添加を過剰水素のあるとこ
ろで行うのが適当である。典型的には水素:アルデヒド
のモル比は約5=1から、約100:1の範囲にあり、
約20:1から約60=1の範囲にあるのが更に好しい
。
本発明の工程は、アルデヒド又はアルデヒドの混合物、
特に蒸気化可能なアルデヒドの水素添加に応用できる。
特に蒸気化可能なアルデヒドの水素添加に応用できる。
このようなアルデヒドは約1から約20炭素原子と1又
はそれ以上のアルデヒド基を含むのが好しい。典型的な
アルデヒドとしては、ホルムアルデヒド、アセトアルデ
ヒド、プロビオンニアルデヒド、n 及びイソーブチル
アルデヒド、n−及びイソーバルリアルデヒド、n−へ
クスアルグヒド、n−ヘプタアルデヒド、n−オクタナ
ル、2−工1ルヘキサナル、2−エチルへウス−2−エ
ナル(2ニブル プロピル アクロレイン)、n−デカ
ナル、2−工1ルブタナル、プロパルギル アルデヒド
、アクロレイン、グリオキサル、クロトンアルデヒド、
フルフラール、アルドール、ヘキサヒドロベンズアルデ
ヒド、アルファーシトロネラール、シトラール、クロラ
ール、トリメチルアセトアルデヒド、ジエチルアセトア
ルデヒド、テトラヒドロフルフラール、りJニルアセト
アルデヒド、シンナムアルデヒド、ヒトOシンナムアル
デヒド等及びこれらの混合物がある。
はそれ以上のアルデヒド基を含むのが好しい。典型的な
アルデヒドとしては、ホルムアルデヒド、アセトアルデ
ヒド、プロビオンニアルデヒド、n 及びイソーブチル
アルデヒド、n−及びイソーバルリアルデヒド、n−へ
クスアルグヒド、n−ヘプタアルデヒド、n−オクタナ
ル、2−工1ルヘキサナル、2−エチルへウス−2−エ
ナル(2ニブル プロピル アクロレイン)、n−デカ
ナル、2−工1ルブタナル、プロパルギル アルデヒド
、アクロレイン、グリオキサル、クロトンアルデヒド、
フルフラール、アルドール、ヘキサヒドロベンズアルデ
ヒド、アルファーシトロネラール、シトラール、クロラ
ール、トリメチルアセトアルデヒド、ジエチルアセトア
ルデヒド、テトラヒドロフルフラール、りJニルアセト
アルデヒド、シンナムアルデヒド、ヒトOシンナムアル
デヒド等及びこれらの混合物がある。
出発材として使われるアルデヒドは単独であるいはアル
コール等の不活性な気化可能な材料と混ぜ合わされて触
媒水素添加ゾーンへ供給される。
コール等の不活性な気化可能な材料と混ぜ合わされて触
媒水素添加ゾーンへ供給される。
触媒水素添加ゾーンでは、水素:アルデヒドのモル比は
約2:1から約100 : 1の範囲にあるのが好まし
く、特に約5=1から約60:1の範囲にあるのがより
好しい。温度は通常、約0℃から約300℃の範囲にあ
り、又圧力は約0.1kg 7cm2絶対値から約10
0ka /c霧2絶対値の範囲にあり、史には約50に
9/C12絶対値を超えず、又更には約1Jl/c1絶
対値から約25kg/ cm2絶対値の範囲にあるのが
より好しい。
約2:1から約100 : 1の範囲にあるのが好まし
く、特に約5=1から約60:1の範囲にあるのがより
好しい。温度は通常、約0℃から約300℃の範囲にあ
り、又圧力は約0.1kg 7cm2絶対値から約10
0ka /c霧2絶対値の範囲にあり、史には約50に
9/C12絶対値を超えず、又更には約1Jl/c1絶
対値から約25kg/ cm2絶対値の範囲にあるのが
より好しい。
前記ヨーロッパ特許公報第008767号に記載の型の
触媒を使う時には、アル1ヒトが蒸気の形態で触媒水素
添加ゾーンへ供給されるのが重要である。
触媒を使う時には、アル1ヒトが蒸気の形態で触媒水素
添加ゾーンへ供給されるのが重要である。
この場合、触媒水系添加ゾーン内の反応条件がアルデヒ
ドが通常の圧力・温度条件下でも常に結露穴以上に維持
されるようにすることが必要である。
ドが通常の圧力・温度条件下でも常に結露穴以上に維持
されるようにすることが必要である。
本発明の工程中触媒水素添加ゾーン内にある反応混合物
は、生産アルコールの他に、少量のエステル副産物があ
る。もしアルデヒド混合物が出発材として使われるなら
ば、エステル副産物の混合物が生産されるだろう。例え
ば、出発材としてロー及びイソ−ジチルアルデヒドが使
われると副産物エステルの混合物、即ちn−ブチル酪酸
塩、イソ−ブチル酪酸塩、n−ブチル イソ−酪酸塩、
及びイソ−ブチル イソ−酪酸塩の混合物が形成される
。このよう<’にあるいは各エステル副産物の分子量−
はアルデヒドの又は生産アルコールの分子重量のほぼ倍
であるので、このようなエステルの沸点はアルデヒド又
は生産アルコールの沸点よりもはるかに高い。従って通
常、生産アルコールを反応混合物から回収して、そして
エステル副産物又はエステル産物を蒸留によってそこか
ら−ぞれぞれ分離させるのが好ましい。蒸留は通常の又
は下鋳あるいは上袢圧ツノ下で1段階又は数段階で行わ
れる。
は、生産アルコールの他に、少量のエステル副産物があ
る。もしアルデヒド混合物が出発材として使われるなら
ば、エステル副産物の混合物が生産されるだろう。例え
ば、出発材としてロー及びイソ−ジチルアルデヒドが使
われると副産物エステルの混合物、即ちn−ブチル酪酸
塩、イソ−ブチル酪酸塩、n−ブチル イソ−酪酸塩、
及びイソ−ブチル イソ−酪酸塩の混合物が形成される
。このよう<’にあるいは各エステル副産物の分子量−
はアルデヒドの又は生産アルコールの分子重量のほぼ倍
であるので、このようなエステルの沸点はアルデヒド又
は生産アルコールの沸点よりもはるかに高い。従って通
常、生産アルコールを反応混合物から回収して、そして
エステル副産物又はエステル産物を蒸留によってそこか
ら−ぞれぞれ分離させるのが好ましい。蒸留は通常の又
は下鋳あるいは上袢圧ツノ下で1段階又は数段階で行わ
れる。
触媒水素添加段階で、1モルの水素がアルデヒド基−C
Hoを最初のアルコール基−C[120Hに還元するの
に消費される。もしアルデヒド出発材がその他にエチレ
ン不飽和物を含んでいるならば、エチレン不飽和物を触
媒水素添加ゾーン内で還元するのに更に1モルの水素が
消費される。従って2モルの水素が2−エチルへラス−
2−エナル(2−エチルプロピルアクロレイン)などの
不飽和アルデヒドを相応するアルコール、例えば2−エ
チルへフサノールに還元するのに使われるのである。も
しアルデヒドがアセチレン不一和物を含んでいるとした
ら、アセチレン・リング」ジの還元に2モルの水素が使
われる。例えばプロパルギル・アルデヒドをn−ブタノ
ールに触媒水素添加するのには3モルの水素が使われる
。
Hoを最初のアルコール基−C[120Hに還元するの
に消費される。もしアルデヒド出発材がその他にエチレ
ン不飽和物を含んでいるならば、エチレン不飽和物を触
媒水素添加ゾーン内で還元するのに更に1モルの水素が
消費される。従って2モルの水素が2−エチルへラス−
2−エナル(2−エチルプロピルアクロレイン)などの
不飽和アルデヒドを相応するアルコール、例えば2−エ
チルへフサノールに還元するのに使われるのである。も
しアルデヒドがアセチレン不一和物を含んでいるとした
ら、アセチレン・リング」ジの還元に2モルの水素が使
われる。例えばプロパルギル・アルデヒドをn−ブタノ
ールに触媒水素添加するのには3モルの水素が使われる
。
好しい方法では、触媒水素添加ゾーンに存る反応生産混
合物から分離された副産物エステルは触媒水素添加ゾー
ンの入口端へ再循環される。安定した状態で操作した一
定期間後、触媒水素添加ゾーンに存る反応生産混合物中
のエステル副生産物の濃度は平衡l麿に近づく。従って
、もし全部の磨1産物エステルが触媒水素添加ゾーンの
入日端に再循環されるとすれば、触媒水素添加ゾーンの
入口端でのエステルのII麿も、平衡値に近づき、アル
デヒドのエステルへの全体転換も最少となる。
合物から分離された副産物エステルは触媒水素添加ゾー
ンの入口端へ再循環される。安定した状態で操作した一
定期間後、触媒水素添加ゾーンに存る反応生産混合物中
のエステル副生産物の濃度は平衡l麿に近づく。従って
、もし全部の磨1産物エステルが触媒水素添加ゾーンの
入日端に再循環されるとすれば、触媒水素添加ゾーンの
入口端でのエステルのII麿も、平衡値に近づき、アル
デヒドのエステルへの全体転換も最少となる。
もしエステルの再循環流の構成を全く制御しなければ、
アルデヒドのエステルへの全体転換もゼロに近づく。
アルデヒドのエステルへの全体転換もゼロに近づく。
すでに述べたように、副産物エステルは、蒸留によって
触媒水素添加ゾーン′にある反応生産混合物から都合よ
<5)頗される。もしエステルが反応生産−合物の1又
はそれ以−トの成分と共に共沸混合物を形成するならば
、この共沸混合物はそれ自体モ触媒水素添加ゾーンの入
口端へ再循環されうるので分離する必要はない。
触媒水素添加ゾーン′にある反応生産混合物から都合よ
<5)頗される。もしエステルが反応生産−合物の1又
はそれ以−トの成分と共に共沸混合物を形成するならば
、この共沸混合物はそれ自体モ触媒水素添加ゾーンの入
口端へ再循環されうるので分離する必要はない。
別の好しい方法では、触媒水素添加ゾーンからの反応生
産混合物から分離されたエステル副産物は別個のエステ
ル水素添加分解ゾーン内でエステル水素添加分解触II
(即ち銅酸化物と酸化亜鉛の還元混合物)と接触させら
れる。
産混合物から分離されたエステル副産物は別個のエステ
ル水素添加分解ゾーン内でエステル水素添加分解触II
(即ち銅酸化物と酸化亜鉛の還元混合物)と接触させら
れる。
蒸気副産物エステルを銅酸化物と酸化亜鉛から成る触媒
と接触させると、接触が触媒水素添加ゾーンで起きても
、また別のエステル水素添加分解ゾーンで起きても、水
素添加分解が行われる。
と接触させると、接触が触媒水素添加ゾーンで起きても
、また別のエステル水素添加分解ゾーンで起きても、水
素添加分解が行われる。
般に、エステル基の酸部分もアルコール部分も反応生産
混合物中ではアルコールとして現われる。
混合物中ではアルコールとして現われる。
このように、例え、ば、n−ブチルアルデヒドの還元で
副産物として形成されるn−ブチル酪酸塩は水素があれ
ば水素添加分解触媒と接触して円滑に2モルのn−ブタ
ノールに転換される。
副産物として形成されるn−ブチル酪酸塩は水素があれ
ば水素添加分解触媒と接触して円滑に2モルのn−ブタ
ノールに転換される。
エステルの水素添加分解については本出願人による国−
出願第P CT / G B 82100118号に記
載さ、れている。この出願の全開示はここに参照される
。
出願第P CT / G B 82100118号に記
載さ、れている。この出願の全開示はここに参照される
。
水素添加分解段階においては、触媒と接触されるべき蒸
気性混合物は、副産物エステルの他に、水素を単独で、
あるいは他の気体との混合物(この気体はエステルや触
媒に不活性であるのが好しい)として含んでいる。従っ
て、水素を含有するこの気体混合物は窒素や一酸化炭素
のような元来不活性な気体を含む。
気性混合物は、副産物エステルの他に、水素を単独で、
あるいは他の気体との混合物(この気体はエステルや触
媒に不活性であるのが好しい)として含んでいる。従っ
て、水素を含有するこの気体混合物は窒素や一酸化炭素
のような元来不活性な気体を含む。
水素添加分解段階は約15℃から約300℃の嵩麿で行
われるが、多くの場合この#A度は約150 ’Cがら
約200℃の範囲で行われるのが好しく、更には典型的
なものとして最す多くの場合約180℃カラ約240℃
の間で行われる。総圧力は、約0.1に9 /C12絶
対値から約100kg/cg+2絶対値の間であり、約
50kg、/cm2絶対値を超えないことが好しく、更
には約5 kg/ cs+2絶対値と25ko/ cs
2絶対値の間であるのがより好しい。
われるが、多くの場合この#A度は約150 ’Cがら
約200℃の範囲で行われるのが好しく、更には典型的
なものとして最す多くの場合約180℃カラ約240℃
の間で行われる。総圧力は、約0.1に9 /C12絶
対値から約100kg/cg+2絶対値の間であり、約
50kg、/cm2絶対値を超えないことが好しく、更
には約5 kg/ cs+2絶対値と25ko/ cs
2絶対値の間であるのがより好しい。
還元以前のCuOとZnOの混合物は、重量の約5%か
ら約95%の、あるいは典型的には重量の約10%から
約70%のCuOと、重量の約95%から約5%の、あ
るいは典型的には約90%から約30%のZnOを含ん
でいるのが好しい。従って、この混合物は例えばφ(至
)の約20〜約40%のCuOと垂凶の約60から約8
0%のZnOを含んでいる。好しい混合気は重量の約3
0から約36%のCuOと重量の約62から約68%の
ZnOを含む。更に特に好しい混合物は重量の約65か
ら約85%のCuOと約35から15%のZU O,例
えば、重量の約68から75%CuOと重量の約32か
ら約25%のZnOを含んで成る。水素添加分解触媒は
例えば炭素、ナトリウム、チタン、ジルコン、マンガン
、シリカ、珪藻類土、珪藻土及び酸化アルミニウムなど
の他の材料も少量含んでいる。このような材料は通常酸
素として計粋される(炭素の場合以外)20重量%以上
は含まれていない。ナトリウムの場合、ll!素として
計算されて約0.5重量%を超えない方がいい。
ら約95%の、あるいは典型的には重量の約10%から
約70%のCuOと、重量の約95%から約5%の、あ
るいは典型的には約90%から約30%のZnOを含ん
でいるのが好しい。従って、この混合物は例えばφ(至
)の約20〜約40%のCuOと垂凶の約60から約8
0%のZnOを含んでいる。好しい混合気は重量の約3
0から約36%のCuOと重量の約62から約68%の
ZnOを含む。更に特に好しい混合物は重量の約65か
ら約85%のCuOと約35から15%のZU O,例
えば、重量の約68から75%CuOと重量の約32か
ら約25%のZnOを含んで成る。水素添加分解触媒は
例えば炭素、ナトリウム、チタン、ジルコン、マンガン
、シリカ、珪藻類土、珪藻土及び酸化アルミニウムなど
の他の材料も少量含んでいる。このような材料は通常酸
素として計粋される(炭素の場合以外)20重量%以上
は含まれていない。ナトリウムの場合、ll!素として
計算されて約0.5重量%を超えない方がいい。
従って、他の好しい触媒は約40から50重量%の各C
uOとZnO1及び約Oから20重重量のアルミナから
成る混合物を含む。しかしこのような触媒は他の金属を
殆ど含まない方がよく、特にFe。
uOとZnO1及び約Oから20重重量のアルミナから
成る混合物を含む。しかしこのような触媒は他の金属を
殆ど含まない方がよく、特にFe。
Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Os、Ir。
ptなとの周期率表の第■グループの金属や、Cr 、
Mo 、Wのような第WBグループの金属、TO,A1
1.Re、Au及びCdなどの金属、又例えばH9やp
bなとの原子番号80以上の要素を殆ど含まないのが竺
に畔しい。「殆ど含まない」というのはつまり、触媒に
含まれているのが、約0.1 重量%(即ら約iooo
ppga >以上でなく・又特に、約250ppm以上
でないのが好しいということである。触媒は、銅酸化物
と酸化亜鉛の成分を形成する技術における既知の方法の
いづれによってでもつくられる。この触媒は、シュウ酸
塩、硝酸塩、炭酸塩、又は酢酸塩の共沈によって別個の
酸化物を固定することにより用意され、次に加熱酸化す
る。この共沈方法がより望しい。一般に、CuOとZn
Oの混合物は、副産物エステルと水素を含む混合物蒸気
と接触する以前に、約160℃と約250℃との間の範
囲の湿度で、数時間、望しくは8〜24時間、水素又は
−酸化炭素によって還元される。もし触媒を予じめ還元
した形で充填すれば、還元に要する時間はそれに応じて
短縮化されるだろう。
Mo 、Wのような第WBグループの金属、TO,A1
1.Re、Au及びCdなどの金属、又例えばH9やp
bなとの原子番号80以上の要素を殆ど含まないのが竺
に畔しい。「殆ど含まない」というのはつまり、触媒に
含まれているのが、約0.1 重量%(即ら約iooo
ppga >以上でなく・又特に、約250ppm以上
でないのが好しいということである。触媒は、銅酸化物
と酸化亜鉛の成分を形成する技術における既知の方法の
いづれによってでもつくられる。この触媒は、シュウ酸
塩、硝酸塩、炭酸塩、又は酢酸塩の共沈によって別個の
酸化物を固定することにより用意され、次に加熱酸化す
る。この共沈方法がより望しい。一般に、CuOとZn
Oの混合物は、副産物エステルと水素を含む混合物蒸気
と接触する以前に、約160℃と約250℃との間の範
囲の湿度で、数時間、望しくは8〜24時間、水素又は
−酸化炭素によって還元される。もし触媒を予じめ還元
した形で充填すれば、還元に要する時間はそれに応じて
短縮化されるだろう。
CuOとZnOの混合物は水素添加分解段階における触
媒として使用される以前に還元される。
媒として使用される以前に還元される。
水素又はCO又はそれらの混合物は一般に水蒸気、窒素
、又は燃焼ガスなどの稀釈ガスと混合されて、触媒床温
度を雑持し、還元熱を奪い去るようにしている。
、又は燃焼ガスなどの稀釈ガスと混合されて、触媒床温
度を雑持し、還元熱を奪い去るようにしている。
CuOとZnOの混合物の還元は、入口及び出口水素の
分析により示されるように水素がit?反応を起してい
ないような状態になった時、完成する。還元によって出
る水の量が一定量の銅鍍化物が銅に還元された特出る水
の理論値と等しくなった時、混合物が完全に還元された
ことになる。、この値は35重量%のCuOを含む混合
物では、触媒1kgにつき約0.079kgの水である
。
分析により示されるように水素がit?反応を起してい
ないような状態になった時、完成する。還元によって出
る水の量が一定量の銅鍍化物が銅に還元された特出る水
の理論値と等しくなった時、混合物が完全に還元された
ことになる。、この値は35重量%のCuOを含む混合
物では、触媒1kgにつき約0.079kgの水である
。
不活性担体物質は水素源加分、解触媒構成物中に含まれ
る。触wAは通常使用前に従来技術によって粒状、球状
等適当な形に作られる。
る。触wAは通常使用前に従来技術によって粒状、球状
等適当な形に作られる。
CuOとznoの混合物の内表面積が1gにつき約25
から約50平方メートルであると有利である。
から約50平方メートルであると有利である。
このような内表面積はよく知られているBET方式によ
り定められる。
り定められる。
水素添加分解段階で生成された反応源合物は濃縮によっ
て余分な水素と分離され、この余分な水素は圧縮されて
再循環される。このような反応生成混合物は、未転換エ
ステル副産物小量に加えて生成アルコールを含む。この
混合物は適当な方法、例えば蒸留によって分離される。
て余分な水素と分離され、この余分な水素は圧縮されて
再循環される。このような反応生成混合物は、未転換エ
ステル副産物小量に加えて生成アルコールを含む。この
混合物は適当な方法、例えば蒸留によって分離される。
この生成アルコールは回数されたものとしても使えるし
、又は分別蒸留などの従来方法によって更に純化するこ
とらできる。望しくは回収された未転化−1産物エステ
ルは全て水素添加分解段階へ再循環されるのがよい。
、又は分別蒸留などの従来方法によって更に純化するこ
とらできる。望しくは回収された未転化−1産物エステ
ルは全て水素添加分解段階へ再循環されるのがよい。
水素添加分解段階では、副産物エステルの部分圧は広範
囲、例えば約0,05kg/ ca2かう約10kMC
I2あるいはぞれ以上までの範囲内で変化する。
囲、例えば約0,05kg/ ca2かう約10kMC
I2あるいはぞれ以上までの範囲内で変化する。
水素添加分解触媒と接触中の蒸気混合物のI!麿が常に
優勢圧力下でエステルの結露点よりも高くあるように注
意を払わねばならない。
優勢圧力下でエステルの結露点よりも高くあるように注
意を払わねばならない。
本発明をより明確に理解し実行できるようにする為に、
添付の略図を参照して、例として、本発明の工程を用い
た設備の好例を2つ説明する。
添付の略図を参照して、例として、本発明の工程を用い
た設備の好例を2つ説明する。
図面が略図である為、パルプ、温度測定装置、圧力制御
装置、リボイラー等の操作設備に必要な様々な装Wが明
確を期して省略されていることを理解いただけるものと
思う。これら標準設備装置は従来の化学エンジニアリン
グに応じて設けられるべきものであり、本発明の部分を
成すものではない。
装置、リボイラー等の操作設備に必要な様々な装Wが明
確を期して省略されていることを理解いただけるものと
思う。これら標準設備装置は従来の化学エンジニアリン
グに応じて設けられるべきものであり、本発明の部分を
成すものではない。
第1図を参照すると、約6:1のモル比、による0−及
びイソ−ブチルアルデヒドの混合物は、ライン1を通し
て、CuOとZnoの還元混物を含む水素添加触媒の充
填物を含む水素添加ゾーン2へ供給される。構成水素は
うイン3を介して供給され、ライン4において再循環水
素と混合され、この混合ガスはライン5を流れる。その
結5!得られる例えば約35:1の水素:アルデヒドモ
ル比を持つ水素アルデヒドの蒸気混合物は、圧力的10
Jl/C−2絶対値及び入口wAr!1例えば約150
℃に維持された水素添加ゾーン2の入口端へ入る。
びイソ−ブチルアルデヒドの混合物は、ライン1を通し
て、CuOとZnoの還元混物を含む水素添加触媒の充
填物を含む水素添加ゾーン2へ供給される。構成水素は
うイン3を介して供給され、ライン4において再循環水
素と混合され、この混合ガスはライン5を流れる。その
結5!得られる例えば約35:1の水素:アルデヒドモ
ル比を持つ水素アルデヒドの蒸気混合物は、圧力的10
Jl/C−2絶対値及び入口wAr!1例えば約150
℃に維持された水素添加ゾーン2の入口端へ入る。
水素添加ゾーン2は、外部冷却管状又は多段管状反応器
、あるいは内部冷却段階具備の断熱又は多段断熱反応器
である。
、あるいは内部冷却段階具備の断熱又は多段断熱反応器
である。
アルデヒドの水素添加は、水素添加ゾーン2で100%
転化行われる。水素添加ゾーン内の蒸気反応混合物は、
余分の水素に加えて、n−及びイソ−ブタノールを主に
、又少量の通常的1から約2φ量%の副産物エステル(
即ちより少量のイソ−ブチル酪酸塩、11−ブチル イ
ソ−酪酸塩及びイン−ブチル イソ−酪酸塩と共にn−
ブチル 酪酸塩混合物)とn 及びイソ−ブチルアルデ
ヒドの自己凝縮生成により出る高沸騰成分をより少い割
合で含んでいる。この混合物はライン6を通って冷却器
7へ通る。冷却器7では、n−及びイソ−ブタノール及
び他の凝縮可能な成分がライン8を通って供給される冷
却水に当って凝縮される。
転化行われる。水素添加ゾーン内の蒸気反応混合物は、
余分の水素に加えて、n−及びイソ−ブタノールを主に
、又少量の通常的1から約2φ量%の副産物エステル(
即ちより少量のイソ−ブチル酪酸塩、11−ブチル イ
ソ−酪酸塩及びイン−ブチル イソ−酪酸塩と共にn−
ブチル 酪酸塩混合物)とn 及びイソ−ブチルアルデ
ヒドの自己凝縮生成により出る高沸騰成分をより少い割
合で含んでいる。この混合物はライン6を通って冷却器
7へ通る。冷却器7では、n−及びイソ−ブタノール及
び他の凝縮可能な成分がライン8を通って供給される冷
却水に当って凝縮される。
その結果得られる気液混合物はライン9を通り、キャッ
チポット分頗器10へ流れ、そこから余分な水素はライ
ン11を介して除去され、一方未精製液体生成混合物は
ライン12を通り分113へ入るが、これは好都合に蒸
留ゾーンの形態を成している。
チポット分頗器10へ流れ、そこから余分な水素はライ
ン11を介して除去され、一方未精製液体生成混合物は
ライン12を通り分113へ入るが、これは好都合に蒸
留ゾーンの形態を成している。
生成アルコール、即ちn−ブタノールとイソープタノ
ルの混合物はライン14内でオーバーヘッド生成物とし
て分離ゾーン13から回収される。一方、副生産物エス
テル(例えばn−ブチル酪酸塩とそのイソマー)及び[
重水素Jはライン15内の缶出液中で回収されライン1
6で水素添加ゾーン2の入口端へ再循環される。未転化
アルデヒドは生成アルコールと共にライン14で回収さ
れ、下流蒸留ゾーン(図示せず)内でそれから分離され
、工程へ再循環される。
ルの混合物はライン14内でオーバーヘッド生成物とし
て分離ゾーン13から回収される。一方、副生産物エス
テル(例えばn−ブチル酪酸塩とそのイソマー)及び[
重水素Jはライン15内の缶出液中で回収されライン1
6で水素添加ゾーン2の入口端へ再循環される。未転化
アルデヒドは生成アルコールと共にライン14で回収さ
れ、下流蒸留ゾーン(図示せず)内でそれから分離され
、工程へ再循環される。
ライン11の余分水素は再循環ガス圧縮器18[よって
ライン17を通って、又ライン4を通って水素添加ゾー
ン2の入口端へ再循環される。気体パージ流は再循環ガ
ス中の不純物や不活性物のレベルを制御する為にライン
19内を通り、一方液体再循環ライン16中の「重水素
」の生成は液体パージをライン20を通して取ることに
よって制御される。
ライン17を通って、又ライン4を通って水素添加ゾー
ン2の入口端へ再循環される。気体パージ流は再循環ガ
ス中の不純物や不活性物のレベルを制御する為にライン
19内を通り、一方液体再循環ライン16中の「重水素
」の生成は液体パージをライン20を通して取ることに
よって制御される。
第2図では第1図で使用された同様の部品について同じ
符号が使われている。この設備では、n−ブチルアルデ
ヒドはライン1に供給され、生成アルコールはn−ブタ
ノールであり、一方エステル副産物はn−ブチル酪酸塩
である。ライン3からの構造水素はライン16内で再循
環n−ブチル酪酸塩と混合され、その結果得られる混合
物はうイン32を通って供給される蒸気によって加熱さ
れる気化器31へ通る。その結果得られる水素/蒸気0
−ブチル酪酸塩混合物はライン33を通って、第1゜2
図のゾーン2で使われたのと同じ触媒を含む2次水素添
加ゾーン34へ通る。この水素添加ゾーンへの入口湿度
は約150°であり、圧力は約10kMO1l12絶対
値である。この2次水素添加ゾーン34は、外部冷却管
状又は多段管状反応器、あるいは中−床断熱反応器又は
できれば床間に内部冷却を設けた多段管状反応器により
成っている。n−ブチル酪酸塩のn−ブタノールへの水
素添加分解はゾーン34で起り、その結果得られる蒸気
水素/n−ブタノール混合物はうイン35内で回収され
、ライン6内の蒸気混合物と混合される。ゾーン2の入
口端へ供給された余分な水素だけでなけく、メークアッ
プ水素の大部分を含むゾーン34からの未反応水素はラ
イン9、キャッチポット分離器10、ライン11.17
、再循環ガス圧縮器18及びライン4を通ってn−ブチ
ルアルデヒド水素添加ゾーン2の入口端へ通り、ライン
1を介して供給されるn−ブチルアルデヒドとn−ブチ
ルアルデヒドゾーン2の上流で混合される。生成物分離
、回収及び気体、液体パージ流の提供は第1図の設備の
ものと同様になされる。
符号が使われている。この設備では、n−ブチルアルデ
ヒドはライン1に供給され、生成アルコールはn−ブタ
ノールであり、一方エステル副産物はn−ブチル酪酸塩
である。ライン3からの構造水素はライン16内で再循
環n−ブチル酪酸塩と混合され、その結果得られる混合
物はうイン32を通って供給される蒸気によって加熱さ
れる気化器31へ通る。その結果得られる水素/蒸気0
−ブチル酪酸塩混合物はライン33を通って、第1゜2
図のゾーン2で使われたのと同じ触媒を含む2次水素添
加ゾーン34へ通る。この水素添加ゾーンへの入口湿度
は約150°であり、圧力は約10kMO1l12絶対
値である。この2次水素添加ゾーン34は、外部冷却管
状又は多段管状反応器、あるいは中−床断熱反応器又は
できれば床間に内部冷却を設けた多段管状反応器により
成っている。n−ブチル酪酸塩のn−ブタノールへの水
素添加分解はゾーン34で起り、その結果得られる蒸気
水素/n−ブタノール混合物はうイン35内で回収され
、ライン6内の蒸気混合物と混合される。ゾーン2の入
口端へ供給された余分な水素だけでなけく、メークアッ
プ水素の大部分を含むゾーン34からの未反応水素はラ
イン9、キャッチポット分離器10、ライン11.17
、再循環ガス圧縮器18及びライン4を通ってn−ブチ
ルアルデヒド水素添加ゾーン2の入口端へ通り、ライン
1を介して供給されるn−ブチルアルデヒドとn−ブチ
ルアルデヒドゾーン2の上流で混合される。生成物分離
、回収及び気体、液体パージ流の提供は第1図の設備の
ものと同様になされる。
本発明は更に次の例により説明される。
九
n−ブチル酪酸塩は3.8+3Q/hの割合で、電気加
熱気液混合@習にポンプで送られた。この混合amへは
制御された割合、圧力で水素も供給された。この結果得
られた蒸気混合物は断熱電気加熱ラインを通して予熱コ
イルへ、更に粉状触媒を1461Qつめた管状反応器を
通された。管状反応器及び予熱コイルは双方共、174
℃に加熱された溶解塩槽につけられてた。反応器を出た
蒸気混合物は水冷凝縮器を通され、その結果得られた凝
縮物は水冷ノックアウトポットに集められた。出口気体
圧力は10.55kg/cs2絶対値に制御される。非
凝縮気体は次に減少(レットダウン)バルブを通された
。この気体流はこのバルブの下流でウェットガスメータ
ー内で測定される。実験期間中ずっと気体流の流率は4
’6,6Q、/h (大気圧で測定)に維持され続け
た。
熱気液混合@習にポンプで送られた。この混合amへは
制御された割合、圧力で水素も供給された。この結果得
られた蒸気混合物は断熱電気加熱ラインを通して予熱コ
イルへ、更に粉状触媒を1461Qつめた管状反応器を
通された。管状反応器及び予熱コイルは双方共、174
℃に加熱された溶解塩槽につけられてた。反応器を出た
蒸気混合物は水冷凝縮器を通され、その結果得られた凝
縮物は水冷ノックアウトポットに集められた。出口気体
圧力は10.55kg/cs2絶対値に制御される。非
凝縮気体は次に減少(レットダウン)バルブを通された
。この気体流はこのバルブの下流でウェットガスメータ
ー内で測定される。実験期間中ずっと気体流の流率は4
’6,6Q、/h (大気圧で測定)に維持され続け
た。
液体凝縮物は、クロモソーブ(Chromosorb
)PAW上にポリエチレングリコール(名目モル重[2
0,000)を満した2メートルのステンレス・スチー
ル筒(外(16ms)を使用したヘリウムガス流率30
wit /mの気体クロマトグラフィーと燃焼イオン
化検知器によって分析される。計器にはピク積分器を備
えたチャートレコーダを取付けていて、既知構成のn
ブタノール及び0−ブチル酪酸塩の混合物を用いて目盛
付けされている。凝縮物は99.622重丸のブタノー
ルと0.28重量%のn−ブチル酪s!塩の混合物を含
むことを示した。
)PAW上にポリエチレングリコール(名目モル重[2
0,000)を満した2メートルのステンレス・スチー
ル筒(外(16ms)を使用したヘリウムガス流率30
wit /mの気体クロマトグラフィーと燃焼イオン
化検知器によって分析される。計器にはピク積分器を備
えたチャートレコーダを取付けていて、既知構成のn
ブタノール及び0−ブチル酪酸塩の混合物を用いて目盛
付けされている。凝縮物は99.622重丸のブタノー
ルと0.28重量%のn−ブチル酪s!塩の混合物を含
むことを示した。
これはほぼ100%の精選度で99.1%の変換に相当
する。
する。
この例で用いられた触媒は、1.21から2.4s+e
の範囲の大きさの粒子で、1gにつき約451の内表面
積を有する33±3%CuOと65±39t+ Z n
Oを含むCIOとZnOの共沈混合物として反応器に
充填された。これは200℃で11時間5容醋%のト1
2気体混合物を使って、文数に200℃で8時間純粋水
素を使って反応器内で予め還還元された。
の範囲の大きさの粒子で、1gにつき約451の内表面
積を有する33±3%CuOと65±39t+ Z n
Oを含むCIOとZnOの共沈混合物として反応器に
充填された。これは200℃で11時間5容醋%のト1
2気体混合物を使って、文数に200℃で8時間純粋水
素を使って反応器内で予め還還元された。
いずれの場合も、気体流率は20Q、、−’h (ウ
ェットガスメーターを用いて大気圧で測定)で、気体圧
は10.55kl;l /cgt2絶対値であった。こ
の予S還元段階の後、触媒は常時水素含有人気中に維持
された。
ェットガスメーターを用いて大気圧で測定)で、気体圧
は10.55kl;l /cgt2絶対値であった。こ
の予S還元段階の後、触媒は常時水素含有人気中に維持
された。
第1及び2図はアルデヒドの触媒水素添加によるアルコ
ール生成用プラントの70−シートを示す図である。 2・・・水素添加ゾーン、1・・・冷却器、10・・・
キャッチポット分離器、13・・・分離ゾーン。
ール生成用プラントの70−シートを示す図である。 2・・・水素添加ゾーン、1・・・冷却器、10・・・
キャッチポット分離器、13・・・分離ゾーン。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) アルデヒドの水素添加に有効な水素添加触媒
を充填した触媒アルデヒド水素添加ゾーンにおいて、好
ましくは1から約20炭素原子を含有するアルデヒドの
触媒水素添加によってアルコールを生成し、又次に生成
アルコールに加えて副産物エステルを小饅含む反応混合
物の回収する工程において、副産物エステルは反応混合
物から分離され、副産物エステル及び水素から成る蒸気
混合物は銅酸化物及び酸化亜鉛の還元混合物から成る触
媒と約15℃から約300℃の範囲の温度で、又約0,
1 kQ/C−2絶対値から約100kO/cm2絶対
値までの範囲の圧力で接触することを特徴とする工程。 0) アルデヒドはn−ブチルアルデヒド、イソ−ブチ
ルアルデヒド及びその混合物とから選ばれ、副産物エス
テルはn−ブチル酪酸塩、・イソ−ブチル酪酸塩、n−
ブチル イソ−酪酸塩及びイソ−ブチル イソ−酪醸塩
及びその混合物から選ばれることを特徴とする特許請求
の範囲第1項に記載の工程。 (3) アルデヒドはプロピオンアルデヒドであり副
産物エステルはrl−プロピル プロピオン酸塩である
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の工程。 (4) アルデヒドは2−エチルプロビルアクロレイン
及び副産物エステルは2−エチルヘキシル2−エチルヘ
キサノ酸塩であることを特徴とする特許請求の範囲第1
項に記載の工程。 〔5〕触媒アルデヒド水素添加ゾーンの水素添加触媒は
銅酸化物及び酸化曲鉛の還元混合物から構成されている
ことを特徴とする特許請求の範囲第1から4項のいずれ
か1項に記載の工程。 (6)触媒アルデヒド水素添加ゾーンの11は、約75
℃から約300℃の範囲内に、圧力は約0.lko /
C12絶対値から約100k(] /c+++2絶対値
までの範囲内に維持されていることを特徴とする特許請
求の範囲第5項に記載の工程。 (7)反応混合物から分離された副産物エステルは触媒
アルデヒド水素添加ゾーンの、F流端に再循環されるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第5項又は6項に記載の
工程。 (8)反応混合物から分離されたa1産物エステルは2
次触媒水素添加ゾーン内で水素と混合されて銅酸化物と
酸化亜鉛の還元混合物と接触することを特徴とする特許
請求の範囲第1から1項のうちいずれか1項に記載の工
程。 (9) メークアップ水素は反応混合物から分離され
た副産物エステルと混合され、2次触媒水素添加ゾーン
から出る余剰水素は触媒アルデヒド水素添加ゾーンへ供
給されることを特徴とする特許請求の範囲第8項に記載
の工程。 ω)触媒アルデヒド水素添加ゾーンにおける水素:アル
デヒド比は約2:1から約100 : 1の範囲にある
ことを特徴とする特I!IF請求の範囲第1から9項の
うらいずれか1項に記載の工程。
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